FUENTE DE PULVERIZACION DE MAGNETRON.

Fuente de pulverización de magnetrón con un cuerpo de blanco redondo (1) cuya cara frontal presenta una superficie de pulverización

(20, 21), con un sistema magnético (2, 3, 4, 5, 10, 11) que contiene un polo interior (4) y un polo exterior (3) que lo rodea a modo de anillo, de manera que se configura un campo magnético (B) a lo largo de la superficie de pulverización (20, 21) en forma de un bucle cerrado a modo de túnel alrededor del eje central de la fuente (6) alojándose al menos una parte del sistema magnético (2, 3, 4, 5, 10, 11) de forma rotatoria alrededor del eje de la fuente (6) que está unida en su accionamiento a este medio de accionamiento (30), caracterizada porque el polo exterior anular (3) no se encuentra al mismo nivel que el polo interior (4) y se eleva en la zona marginal del cuerpo redondo del blanco (1) y porque la parte rotatoria del sistema magnético recoge el polo interior (4) dispuesto excéntricamente con respecto al eje (6), así como una segunda parte del polo exterior (11) que se encuentra entre el polo exterior (3) y el polo interior (4), de modo que en la rotación el bucle de túnel del campo magnético (B) pasa rozando excéntricamente por encima de la superficie de pulverización (20, 21).

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT.

Nacionalidad solicitante: Liechtensein.

Dirección: ,9496 BALZERS.

Inventor/es: HEINZ, BERND, DUBS, MARTIN, EISENHAMMER, THOMAS, GRINENFELDER, PIUS, HAAG, WALTER, KADLEC, STANISLAV, KRASSNITZER, SIEGFIED.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 30 de Mayo de 2002.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION H — ELECTRICIDAD > ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS > TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA... > Tubos de descarga provistos de medios o de un material... > H01J37/34 (que funcionan por pulverización catódica (H01J 37/36 tiene prioridad))

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Zambia, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Guinea Ecuatorial, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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FUENTE DE PULVERIZACION DE MAGNETRON.