Método para fabricar una plancha de impresión litográfica fotosensible positiva.

Método para fabricar un material de plancha de impresión litográfico fotosensible positivo, comprendiendo dicho método los pasos de

- granular un soporte de aluminio mediante pulido con cepillo o grabado electrolítico en una solución de ácido clorhídrico o ácido nítrico,

- anodizar el soporte de aluminio granulado en un disolvente de ácido sulfúrico,

- recubrir la superficie del soporte con una solución de una composición fotosensible positiva en un disolvente, y

- secar,

en el que la solubilidad en un revelador alcalino de dicha composición, durante una exposición por barrido a la luz en el intervalo de longitud de onda de 650 a 1.300 nm, aumenta en la área expuesta, lo que permite formar una imagen mediante un revelador alcalino,

en el que la composición contiene como componentes esenciales inductores de dicho aumento de la solubilidad

(a) un tinte absorbente de la luz cuya banda de absorción cubre parte o la totalidad de la región de longitudes de onda de entre 650 y 1.300 nm como material de conversión fototérmica y

(b) una resina soluble en álcali seleccionada de entre una resina novolac, una resina resol, una resina de polivinilfenol y un copolímero de un derivado de ácido acrílico,

y en el que dicho aumento de la solubilidad en un revelador alcalino se induce por la conversión de luz en calor de la energía lumínica absorbida por el tinte y por un cambio que no es un cambio químico de la resina soluble en álcali en la área sometida a calor, induciendo así un aumento de la solubilidad en dicha área.

Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E04016020.

Solicitante: AGFA GRAPHICS NV.

Nacionalidad solicitante: Bélgica.

Dirección: SEPTESTRAAT 27 2640 MORTSEL BELGICA.

Inventor/es: Nagasaka,Hideki, Murata,Akihisa.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE... > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS,... > G03F7/00 (Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K))
  • SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE... > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS,... > Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica,... > G03F7/20 (Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00))
  • SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES > IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS... > PROCESOS DE IMPRESION, DE REPRODUCCION, DE MARCADO... > Procesos de reproducción o de marcado; Materiales... > B41M5/40 (caracterizada por las capas de base, las capas intermediarias o las capas de cubierta; Medios o capas de filtrado o de absorción del calor o de la radiación; combinada con capas o composiciones propias de otros procesos de registro de imágenes; Originales particulares para la reproducción termográfica)
  • SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE... > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS,... > Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica,... > G03F7/004 (Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad))
  • SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE... > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS,... > Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica,... > G03F7/032 (con aglutinantes)
  • SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE... > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS,... > Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica,... > G03F7/027 (Compuestos fotopolimerizables no macromoleculares que contienen dobles enlaces carbono-carbono, p. ej. compuestos etilénicos (G03F 7/075 tiene prioridad))
  • SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE... > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS,... > Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica,... > G03F7/023 (Quinonadiazidas macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes)
  • SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES > IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS... > PROCESOS DE FABRICACION O DE REPRODUCCION DE SUPERFICIES... > Preparación de la forma o del cliché > B41C1/10 (para la impresión litográfica; Hojas matriz para la transferencia de una imagen litográfica a la forma (B41C 1/055 tiene prioridad; neutralización o tratamientos similares de diferenciación de formas de impresión litográfica B41N 3/08))
  • SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES > IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS... > PROCESOS DE IMPRESION, DE REPRODUCCION, DE MARCADO... > Procesos de reproducción o de marcado; Materiales... > B41M5/36 (utilizando una película polimérica que puede ser de partículas y que está sometida a una modificación de forma o de estructura con modificación de sus características, p. ej. de sus características de hidrofobia o hidrofilia, de sus características de solubilidad o de permeabilidad)
  • SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES > IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS... > CLICHES O PLACAS DE IMPRESION (materiales fotosensibles... > Clichés o placas de impresión; Materiales a este... > B41N1/08 (para la impresión litográfica)
  • SECCION H — ELECTRICIDAD > ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS > DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS... > Procedimientos o aparatos especialmente adaptados... > H01L21/027 (Fabricación de máscaras sobre cuerpos semiconductores para tratamiento fotolitográfico ulterior, no prevista en el grupo H01L 21/18 ó H01L 21/34)
  • SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE... > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS,... > Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica,... > G03F7/039 (Compuestos macromoleculares fotodegradables, p. ej. reservas positivas sensibles a los electrones (G03F 7/075 tiene prioridad; quinonadiazidas macromoleculares G03F 7/023))
  • SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES > IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS... > PROCESOS DE IMPRESION, DE REPRODUCCION, DE MARCADO... > Procesos de reproducción o de marcado; Materiales... > B41M5/46 (caracterizadas por los medios para convertir la luz en calor; caracterizadas por los medios o las capas de filtración o de absorción del calor o de la radiación)

PDF original: ES-2536563_T3.pdf

 

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Fragmento de la descripción:

Método para fabricar una plancha de impresión litográfica fotosensible positiva La presente invención hace referencia a un método para aplicar un recubrimiento de una composición fotosensible positiva sensible a un haz de luz de una longitud de onda de entre 650 y 1.300 nm, en particular una composición fotosensible positiva adecuada para la fabricación directa de una plancha mediante un láser semiconductor o un láser YAG, obteniendo asi una plancha de impresión litográfica fotosensible positiva.

De manera paralela a los avances tecnológicos en el tratamiento de imagenes por ordenador, cabe destacar un sistema directo, fotosensible o termosensible, para la fabricación de planchas en el que la imagen en el material fotoresistente se forma directamente a partir de la información de la imagen digital mediante un haz láser o cabezal térmico sin utilizar una pelicula de enmascaramiento de sales de plata. En especial, ha existido un gran interés en ejecutar un sistema directo, fotosensible y con láser de alta resolución para la fabricación de una plancha empleando un láser semiconductor o láser YAG de gran potencia con el fin de reducir la luz ambiental necesaria durante la fabricación de la plancha y los costes de fabricación de la misma.

Por otra parte, al igual que sucede en los métodos de formación de imágenes en los que se utiliza la fotosensibilidad al láser o la termosensibilidad, hasta la fecha se conocia un método de formación de imágenes en cotor mediante un tinte de transferencia sublimabte y un método de preparación de una plancha de impresión litográfica. Un ejempto de éste último es un método de preparación de una plancha de impresión litográfica mediante la reacción de curado de un compuesto diazo (como el que figura en los documentos JP-A 52-151024, JP-B 2-51732, JP-A 50-15603, JP-B 334051 , JP-B 61-21831, JP-B 60-12939 Y la patente US-P 3 664 737) o un método para la preparación de una plancha de impresión litográfica mediante la reacción de descomposición de la nitrocelulosa (como el que figura en los documentos JP-A 50-102403 Y JP-A 50-102401) .

En los últimos años se ha propuesto una técnica en la que se combina una fotorresina de amplificación química con un tinte absorbente de haz de luz con una longitud de onda larga. Por ejemplo, el documento JP-A 6-43633 describe un material fotosensible en el que un tinte squa rilio especifico se combina con un generador de fotoácido y un aglutinante.

Además, como técnica de este tipo, se ha propuesto una técnica para la preparación de una plancha de impresión litográfica mediante la exposición de una capa fotosensible que contiene un tinte absorbente de rayos infrarrojos, un ácido latente de Bronsted, una resina resol y una resina tipo novolac en un patrón de imagen establecido, por ejemplo, mediante un láser semiconductor (JP-A-7-20629) . También se ha propuesto la misma técnica usando un compuesto s-triazina en lugar del mencionado ácido latente de Bronsted (JP-A 7-271029) .

Sin embargo, desde un punto de vista práctico, estas técnicas convencionales no resultaban necesariamente adecuadas en su funcionamiento. Un problema de gran importancia es que, en el caso de dicha plancha fotosensible de amplificación qu¡mica, solla ser esencial contar con una etapa de tratamiento térmico tras la exposición. Sin embargo, debido a las variaciones en las condiciones del tratamiento térmico, la estabilidad de la calidad de la imagen obtenida de este modo no siempre resultaba adecuada, por lo cual es preferible disponer de una técnica que no comprenda dicha etapa. En los documentos JP-A 7-20629 Y JP-A 7-271029 citados anteriormente se propone un método para la obtención de una imagen positiva que no requiere el susodicho postratamiento térmico. A pesar de ello, no se exponen Ejemplos espec¡ficos ni se describe un procedimiento ni un método para la obtención de dichas imágenes positivas. Además, en dicha técnica el material fotosensible también es sensible a la luz ultravioleta, por lo que es necesario llevar a cabo la operación con luz amarilla que no contenga luz ultravioleta, lo cual presenta complicaciones desde el punto de vista de la eficiencia de la operación.

Además, en la patente US 5 491 046 se propone un procedimiento para la preparación de planchas, más concretamente un método de exposición que emplea la composición descrita, pero no se proporciona ningún Ejemplo de imagen positiva.

El documento JP-A 60-175046 también describe una composición sensible a la radiación que contiene una resina fenólica soluble en álcali y una sal de onium sensible a la radiación folosoluble. Dicho documento revela que en la composición, la fotodescomposición de la sal de onium induce la readquisición de la solubilidad de la resina, con lo que se satisfacen los requisitos básicos de un sistema fotosoluble. Además, se revela que la sal de onium puede sensibilizarse mediante un espectro electromagnético de intervalo amplio (luz ultravioleta, luz visible e incluso luz infrarroja) .

Dicha imagen se forma esencialmente por una diferencia de solubilidad en un revelador, entre una área expuesta y una área no expuesta. Para generar tal diferencia, es frecuente que uno de los componentes de la composición experimente un cambio quimico, y para inducir dicho cambio quimico, suele requerirse un aditivo como un generador de fotoácido, un iniciador de radicales, un agente de reticulación o un sensibilizador, lo cual complica este sistema.

Materiales de plancha de impresión litográfica positiva que son sensibles a la radiación infrarroja y que funcionan a base de la decomposición quimica de un generador de fotoácido yo que ¡son sensibles a la luz blanca que contiene luz ultravioleta, se han descrito también en los documentos WO 96120429, DE 4426820 Y US 5466557.

En el documento WQ 97/39894 , parte del cual constituye el estado de la técnica según el Art. 54{3) EPC, se divulgan materiales de plancha de impresión litográfica positiva que son sensibles a la radiación infrarroja y que no funcionan a base de cambio químico. Sin embargo. este documento no divulga ninguna información sobre los métodos utilizados para granular y anodizar un soporte de aluminio.

La presente invención se ha realizado teniendo en cuenta los diversos problemas descritos previamente.

Un objeto de la presente invención es proporcionar un método para fabricar una plancha de impresión litográfica fotosensible positiva cuya construcción sea sencilla y apropiada para el registro directo, por ejemplo mediante un láser semiconductor o YAG, y que tenga una alta sensibilidad y una estabilidad de almacenamiento excelente.

Otro objeto de la presente invención es proporcionar un método para fabricar una plancha de impresión litográfica fotosensible positiva altamente sensible a la radiación infrarroja y que no requiera tratamiento térmico tras la exposición.

Otro objeto de la presente invención es proporcionar un método para fabricar una plancha de impresión litográfica fotosensible positiva que no requiera operaciones con luz ama rilla y donde la operación pueda realizarse con luz blanca ordinaria que contenga luz ultravioleta.

Otro objeto adicional de la presente invención es proporcionar un método para fabricar una plancha de impresión litográfica fotosensible positiva con excelentes características de endurecimiento térmico como plancha de impresión litog ráfica.

Otro objeto adicional de la presente invención es proporcionar un procedimiento para la preparación de planchas en el que una plancha de impresión litográfica fotosensible positiva pueda exponerse a una alta sensibilidad.

Tales objetos de la presente invención pueden alcanzarse mediante el método como... [Seguir leyendo]

 


Reivindicaciones:

1. Método para fabricar un material de plancha de impresión litográfico fotosensible positivo, comprendiendo dicho método los pasos de -granUlar un soporte de aluminio mediante pulido con cepillo o grabado electrolitico en una solución de ácido clortlídrico o ácido nítrico, -anodizar el soporte de aluminio granulado en un disolvente de ácido sulfúrico, -recubrir la superfiCie del soporte con una solución de una composición fotosensible positiva en un disolvente,

y -seca r, en el que la solubilidad en un revelador alcalino de dicha composición, durante una exposición por barrido a la luz en el intervalo de longitud de onda de 650 a 1.300 nm, aumenta en la área expuesta, lo que permite formar una imagen mediante un revelador alcalino,

en el que la composición contiene como componentes esenciales inductores de dicho aumento de la solubilidad

(a) un tinte absorbente de la luz cuya banda de absorción cubre parte o la totalidad de la región de longitudes de onda de entre 650 y 1.300 nm como material de conversión fototérmica y

(b) una resina soluble en álcali seleccionada de entre una resina novolac, una resina resol, una resina de

polivin ilfenol y un copolimero de un derivado de ácido acrilico, yen el que dicho aumento de la solubilidad en un revelador alcal ino se induce por la conversión de luz en calor de la energía lumínica absorbida por el tinte y por un cambio que no es un cambio químico de la resina soluble en álcali en la área sometida a calor, induciendo así un aumento de la solubilidad en dicha área.

2. Método según la reivindicación 1, en el que el material de plancha de impresión litográfico fotosensible positivo es capaz de funcionar bajo luz blanca.

3. Método según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la composición fotosensible positiva no contiene sustancialmente un generador de fotoácido.

4. Método según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la solución contiene además un agente inhibidor de la solubilidad capaz de disminuir la velocidad de disolución en el revelador alcalino de una mezcla que comprende un tinte absorbente de la luz infrarroja del componente (a) y la resina soluble en álcali (b) .

5. Método según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la proporción en peso del disolvente a la cantidad total de la composición fotosensible es en el rango de 1 a 20.

6. Método según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, en el que el disolvente comprende un propilenglicol.

7. Método según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, en el que la solución contiene además un agente que mejora las propiedades de recubrimiento.

8. Método según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, en el que el tinte absorbente de la luz es un tinte de 45 cianina.

9. Método según la reivindicación 8, en el que el tinte de cianina es un tinte según la Fórmula (I> :

... -_. Z2 "' .

_------2 ' --".

+ • '. • R' -N, .C H -CH+'¡Cf Q ', ..c f C H-C H, ;; N-R' ... (1 )

x

en la que cada uno de Rl y R2 es un grupo alquilo GH que puede tener un sustituyente que puede ser un grupo fenilo, un grupo fenoxi, un grupo alcoxi, un grupo ácido sulfónico o un grupo carboxilo, Q es un grupo heptametino que puede tener un sustituyente que puede ser un grupo alqul10 Gl-s, un átomo de halógeno o un grupo amino o contener un anillo ciclohexeno o un anillo ciclopenteno con un sustituyente, formado por el enlace mutuo de sustituyentes en dos átomos de carbono de metino del qrupo heptametino en el que el

sustituyente es un grupo alquilo Cl -6, o un átomo de halógeno. cada uno de m y mes O o 1, cada uno de Zl y Z2 es un grupo de átomos necesario para formar un anillo heterociclico nitrogenado, y X-es un contraan iÓn.

10. Método según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, en el que la resina soluble en álcali (b) es una resina novolac.

11. Método según la reivindicación 10, en el que la resina novolac tiene un peso molecular promedio en peso de entre 1000 y 15000.

12. Método según una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, en el que el agente inhibidor de la solubilidad es una amina aromática.