ESTRUCTURA DE REJILLA BINARIA QUE DIFRACTA LA LUZ.

Elemento de seguridad que tiene una estructura de rejilla binaria que difracta la luz, con una estructura mesa microscópica

(2) compuesta por mesetas (5) separadas por valles (4) sensiblemente rectangulares, siendo la disposición de los valles (4), que se repite periódicamente dentro de un periodo (T) de la estructura mesa (2), una superposición aditiva de por lo menos tres estructuras rectangulares desplazadas en fase (R) con una anchura de impulso (t1, t2, t3 ...) del periodo (T) de la estructura mesa (2), presentando entre ellas las estructuras rectangulares (R) un desplazamiento de fase (1; 2; 3..), de tal modo que las mesetas (5) de una estructura rectangular (R) caigan en los valles de las otras estructuras rectangulares (R) y que la estructura mesa (2) posea una altura de perfil (h) ópticamente eficaz con un valor del orden de 25 nm hasta 5000 nm, caracterizado por una superficie límite (14) de la estructura mesa (2) para luz incidente visible (22) de una longitud de onda () realizada de forma metálicamente reflectante y porque el periodo (T) de la estructura mesa (2) presenta un valor del orden de 250 nm hasta 5000 nm y al menos un valle (4) entre dos mesetas (5) presenta una anchura mayor que un séptimo del periodo (T).

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: OVD KINEGRAM AG.

Nacionalidad solicitante: Suiza.

Dirección: ZAHLERWEG 12,6301 ZUG.

Inventor/es: STAUB, RENE, TOMPKIN, WAYNE, ROBERT, SCHILLING, ANDREAS.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 2 de Noviembre de 2001.

Fecha Concesión Europea: 9 de Febrero de 2005.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION G — FISICA > OPTICA > ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS (G02F tiene... > Elementos ópticos distintos de las lentes (guías... > G02B5/18 (Rejillas de difracción)

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Guinea Ecuatorial, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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