ESTERES FENILGLIOXALICOS NO VOLATILES.

LA INVENCION SE REFIERE A COMPUESTOS DE FORMULA (I), EN LOS QUE R 1 Y R 2 , INDEPENDIENTEMENTE ENTRE SI, SON, POR EJEMPLO, UN GRUPO DE FORMULA

(II); R 3 , R 4 , R SUB,5 , R 6 Y R 7 , INDEPENDIENTEMENTE ENTRE SI, SON, POR EJEMPLO, HIDROGENO, ALQUILO C 1 - C 12 , OR 8, SR 9 , NR 10 R 11 , HALOGENO O FENILO; R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , INDEPENDIENTEMENTE ENTRE SI, SON, POR EJEMPLO, ALQUILO C 1 - C 12 ; R 12 ES, POR EJEMPLO, ALQUILO C 1 - C 8 ; R 13 ES, POR EJEMPLO, ALQUILO C 1 - C 12 ; R 14 ES, POR EJEMPLO, HIDROGENO; Y ES ALQUILENO C 1 - C 12 , ALQUENILENO C4 - C 8 , ALQUINILENO C 4 - C 8 O CICLOHEX ILENO, O ES FENILENO O ALQUILENO C 4 - C 40 INTERRUMPIDO UNA O MAS VECES POR - O -, - S - O - NR 15 -, O Y ES UN GRUPO DE FORMULA (III), (IV), (V), (VI), (VII), (VIII), (IX), (X) O (XI); Y 1 ES TAL Y COMO SE DEFINIO Y, CON EXCEPC ION DE LA FORMULA (V); R 15 ES HIDROGENO, ALQUILO C 1 - C 12 O FENILO; Y R 16 ES HIDROGENO, CH 2 OH O ALQUILO C 1 - C 4 . SE INCLUYEN ASIMISMO MEZCLAS DE DICHOS COMPUESTOS CON FOTOINICIADORES ADICIONALES, QUE SON ADECUADAS PARA FOTOPOLIMERIZAR COMPUESTOS QUE PRESENTAN DOBLES ENLACES ETILENICAMENTE INSATURADOS.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC..

Nacionalidad solicitante: Suiza.

Dirección: KLYBECKSTRASSE 141,4057 BASEL.

Inventor/es: LEPPARD, DAVID, GEORGE, KOHLER, MANFRED.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 23 de Enero de 1998.

Fecha Concesión Europea: 30 de Octubre de 2002.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos... > Esteres de ácidos carboxílicos; Esteres del ácido... > C07C69/76 (Esteres de ácidos carboxílicos en los que un grupo carboxilo esterificado está unido a un átomo de carbono de un ciclo aromático de seis miembros)
  • SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE... > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS,... > Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica,... > G03F7/031 (Compuestos orgánicos no cubiertos por el grupo G03F 7/029)

Países PCT: Bélgica, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Italia, Países Bajos, Suecia, Oficina Europea de Patentes, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Tayikistán, Turkmenistán, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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