DISPOSITIVO DE PLASMA DE ARCO.

Un modulo de circuito de transición de arco para lámpara de plasma.

El módulo incluye un par de ramas de circuito (40, 50, La rama de circuito (40) se utiliza para generar un arco piloto entre el electrodo y una boquilla de lámpara (20) La rama de circuito (50) se utiliza para generar un arco operativo entre el electrodo y la boquilla. La rama de circuito (50) lleva un detector de corriente. Cuando la corriente detectada en la rama (50) sobrepasa un nivel predeterminado, se activa un conmutador para conmutar a la rama (40). Un circuito de detección emite dos señales que representan un valor de la corriente existente y de la corriente objetivo a alcanzar, respectivamente. Un circuito comparador compara las dos señales. Basado en el resultado de la comparación, se ajusta el valor de corriente de la rama (40). Cuando la corriente detectada en la rama es superior a un valor de umbral pero inferior al valor objetivo, el valor de corriente continua de la fuente de alimentación se incrementa utilizando la salid de un circuito de formación de ondas.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: THE LINCOLN ELECTRIC COMPANY.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 22801 ST. CLAIR AVENUE,CLEVELAND, OHIO 44117-1199.

Inventor/es: DANIEL, JOSEPH ALLEN.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 17 de Noviembre de 2004.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • H05H1/36 ELECTRICIDAD.H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.H05H TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00; generadores magnetohidrodinámicos H02K 44/08; producción de rayos X utilizando la generación de un plasma H05G 2/00 ); PRODUCCION DE PARTICULAS ACELERADAS ELECTRICAMENTE CARGADAS O DE NEUTRONES (obtención de neutrones a partir de fuentes radiactivas G21, p. ej. G21B, G21C, G21G ); PRODUCCION O ACELERACION DE HACES MOLECULARES O ATOMICOS NEUTROS (relojes atómicos G04F 5/14; dispositivos que utilizan la emisión estimulada H01S; regulación de la frecuencia por comparación con una frecuencia de referencia determinada por los niveles de energía de moléculas, de átomos o de partículas subatómicas H03L 7/26). › H05H 1/00 Producción del plasma; Manipulación del plasma (aplicación de la técnica del plasma a reactores de fusión termonuclear G21B 1/00). › Disposiciones de circuitos (H05H 1/38, H05H 1/40 tienen prioridad).

Patentes similares o relacionadas:

Flujos de plasma que oscilan volumétricamente, del 22 de Mayo de 2019, de Plasma Surgical Investments Limited: Un sistema para generar un flujo de plasma que oscila volumétricamente, que comprende: una fuente de alimentación; y un dispositivo generador […]

Fuente de alimentación para calentador de gas por arco eléctrico, del 26 de Septiembre de 2018, de UMICORE: Una fuente de alimentación CC para accionar un calentador de gas por arco eléctrico no transferido, que comprende: - un rectificador de CA a CC que proporciona […]

Dispositivo de pulverización de plasma, así como un método para controlar el estado de un dispositivo de pulverización de plasma, del 4 de Octubre de 2017, de Oerlikon Metco AG, Wohlen: Dispositivo de pulverización de plasma, que comprende un soplete de plasma para calentar un polvo de pulverización en una zona de calentamiento , y una unidad de […]

Método y dispositivo de control para hacer funcionar un aparato de generación de plasma, del 16 de Agosto de 2017, de Oerlikon Metco AG, Wohlen: Un método para hacer funcionar un aparato de generación de plasma, en el cual se aplica una tensión de mantenimiento (UA) entre un ánodo y un cátodo entre los cuales […]

Flujos de plasma de oscilación volumétrica, del 14 de Diciembre de 2016, de Plasma Surgical Investments Limited: Sistema que comprende: a) una fuente de energía ; y b) un dispositivo de generación de plasma que comprende una punta que tiene una salida , estando […]

Aparato manual de plasma frío para el tratamiento de superficies con plasma, del 1 de Julio de 2015, de Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V: Herramienta de plasma para la generación de un chorro de plasma frío con una tobera de plasma que comprende un cuerpo hueco para la alimentación […]

Dispositivo para la generación de un chorro de plasma frío, del 29 de Octubre de 2014, de Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V: Dispositivo para la generación de un chorro de plasma frío, comprendiendo una carcasa metálica , que actúa en la región del plasma saliente como electrodo […]

Circuito de cebado del arco piloto para antorchas de arco de plasma, del 5 de Marzo de 2014, de TRAFIMET S.P.A.: Un circuito de cebado para el cebado del arco piloto en una antorcha de arco de plasma , comprendiendo dicho circuito, como mínimo, un generador de señal […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .