DETECCION Y RETIRADA DEL COBRE DE CORRIENTES DE AGUA RESIDUAL PROCEDENTES DE LA FABRICACION DE SEMICONDUCTORES Y PLACAS DE CIRCUITO IMPRESO.

Sistema (10) para detectar y retirar el cobre de corrientes de agua residual (18) en la fabricación de semiconductores o de placas de circuito impreso, comprendiendo: medios

(23; 28) para añadir un polímero al agua residual en un primer tanque (14), reaccionando dicho polímero, cuando se añade a la corriente de agua residual (18), con todo el cobre presente en forma de ion Cu+2, para producir la precipitación de dicho ion cobre; medios de separación (36) para separar el precipitado de la corriente de agua residual conectados a una línea de lodo (25) provista de una válvula de lodo (38); caracterizado porque comprende además: (a) un fluorímetro (44) que comprende medios para añadir un reactivo fluorescente que cuando se añade al agua residual reacciona con todo el cobre presente en forma de ion Cu+2, para amortiguar la fluorescencia de dicho reactivo; y en el que (b) dicho medio de separación (36) está también conectado a una línea de corriente rechazada (42) que contiene agua rechazada con hasta un 10% de sólidos aproximadamente, realimentada a un segundo tanque (16) localizado aguas abajo de dicho primer tanque (14).

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: NALCO CHEMICAL COMPANY.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: ONE NALCO CENTER,NAPERVILLE ILLINOIS 60563-1.

Inventor/es: HOOTS, JOHN, E., SALMEN, KRISTINE, S., KOWALSKI, ANGELA, S., JENKINS, BRIAN, V.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 1 de Julio de 1999.

Fecha Concesión Europea: 30 de Noviembre de 2005.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION G — FISICA > METROLOGIA; ENSAYOS > INVESTIGACION O ANALISIS DE MATERIALES POR DETERMINACION... > Investigación o análisis de los materiales por... > G01N21/64 (Fluorescencia; Fosforescencia)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA... > TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA... > C02F1/00 (Tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla (C02F 3/00 - C02F 9/00 tienen prioridad))
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA... > TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA... > Tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla... > C02F1/52 (por floculación o precipitación de las impurezas en suspensión)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA... > TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA... > Tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla... > C02F1/68 (por adición de sustancias específicas, para mejorar el agua potable, p. ej. por adición de elementos en estado de trazas)

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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