DERIVADOS DE OXIMA Y SU USO COMO ACIDOS LATENTES.

Los compuestos de la fórmula I, II y III, en donde R{sub,1} por ejemplo es hidrógeno

, alquilo C{sub,1}-C{sub,12}, cicloalquilo C{sub,3}-C{sub,30}, alquenilo C{sub,2}-C{sub,12}, cicloalquenilo C{sub,4}-C{sub,8}, fenilo, el cual no se encuentra sustituido o se encuentra sustituido, naftilo, antracilo o fenantrilo, no sustituido o sustituido, radical heteroarilo el cual no se encuentra sustituido o se encuentra sustituido; en donde todos los radicales R{sub,1} a excepción del hidrógeno, pueden ser sustituidos adicionalmente por un grupo que presente un enlace - O-C- ó un enlace -O-Si- el cual se escinde bajo la acción de un ácido; R'{sub,1} es por ejemplo fenileno, naftileno, difenileno u oxidifenileno, en donde estos radicales se encuentran no sustituidos o sustituidos; R{sub,2} es halógeno o haloalquilo C{sub,1}-C{sub,10}; R{sub,3} es por ejemplo alquilsulfonilo C{sub,1}-C{sub,18}, fenilsulfonilo, naftilsulfonilo, antracilsulfonilo o fenantrilsulfonilo, en donde los grupos se encuentran no sustituidos o sustituidos, ó R{sub,3} es por ejemplo haloalcanoílo C{sub,2}-C{sub,6}, halobenzoílo, R'{sub,3} es por ejemplo fenilendisulfonilo, naftilendisulfonilo, difenilendisulfonilo u oxidifenilendisulfonilo , en donde estos radicales se encuentran no sustituidos o sustituidos, X es halógeno; son especialmente adecuados como donadores de ácido fotosensibles en formulaciones resistentes amplificadas de forma química.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: CIBA SPECIALITY CHEMICAL HOLDING INC.

Nacionalidad solicitante: Suiza.

Dirección: KLYBECKSTRASSE, 141,BASEL.

Inventor/es: OHWA,MASAKI, TANABE,JUNICHI, YAMATO,HITOSHI, ASAKURA,TOSHIKAGE, BRIBAUM,JEAN-LUC, DIETLINKER,KURT.

Fecha de Solicitud: 30 de Marzo de 2000.

Fecha de Publicación: .

Fecha de Concesión: 12 de Septiembre de 2003.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION G — FISICA > FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE... > PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS,... > Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica,... > G03F7/004 (Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad))
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos... > Acidos sulfónicos; Sus halogenuros, ésteres o anhídridos > C07C309/65 (de una estructura carbonada saturada)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos... > Sulfonas; Sulfóxidos > C07C317/32 (con grupos sulfona o sulfóxido unidos a átomos de carbono de ciclos aromáticos de seis miembros de la estructura carbonada)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos... > Compuestos que contienen átomos de nitrógeno, unidos... > C07C251/62 (con átomos de oxígeno de grupos oxiimino esterificados)
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DERIVADOS DE OXIMA Y SU USO COMO ACIDOS LATENTES.