DERIVADOS DE CEFALOSPORINA.

DERIVADOS DE CEFALOSPORINA DE LA FORMULA GENERAL EN DONDE R1 ES UN GRUPO ACILO DERIVADO DE UN ACIDO CARBOXILICO; R2 ES HIDROGENO, HIDROXILO, ALQUILO-QM INFERIOR, CICLOALQUILO, ALCOXILO INFERIOR, ALQUENILO INFERIOR, CICLOALQUENILO, ALQUINILO INFERIOR, ARALQUILO QM, ARILO ILLO HETEROCICLICO, SIENDO EL ALQUILO INFERIOR, CICLOALQUILO, ALCOXILO INFERIOR, ALQUENILO INFERIOR, CICLOALQUENILO, ALQUINILO INFERIOR, ARALQUILO, ARILO, ARILOXILO, ARALCOXILO Y EL ANILLO HETEROCICLICO INSUSTITUIDOS O SUSTITUIDOS CON AL MENOS UN GRUPO SELECCIONADO DE CARBOXILO, AMINO, NITRO, CIANO, ALQUILO INFERIOR, ALCOXILO INFERIOR, HIDROXILO, HALOGENO, -CONR4R5, -N

(R5)COOR9, R5CO-, R5OCO INFERIOR, O CICLOALQUILO; R5 ES HIDROGENO O ALQUILO INFERIOR; R9 ES HIDROGENO, ALQUILO INFERIOR, O CICLOALQUILO; R5 ES HIDROGENO O ALQUILO INFERIOR; R9 ES HIDROGENO, ALQUILO INFERIOR, ALQUENILO INFERIOR O UN ACIDO CARBOXILICO PROTECTOR DE GRUPO; Q ES -CO ELLOS FACILMENTE HIDROLIZABLES, SALES FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLES DE DICHOS COMPUESTOS E HIDRATOS DE LOS COMPUESTOS DE FORMULA I Y DE SUS ESTERES Y SALES. LOS PRODUCTOS SON ACTIVOS ANTI BACTERIANAMENTE.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: F. HOFFMANN-LA ROCHE AG.

Nacionalidad solicitante: Suiza.

Dirección: POSTFACH 3255,CH-4002 BASEL.

Inventor/es: WEI, CHUNG, CHEN, ANGEHRN, PETER.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 13 de Noviembre de 2002.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION A — NECESIDADES CORRIENTES DE LA VIDA > CIENCIAS MEDICAS O VETERINARIAS; HIGIENE > PREPARACIONES DE USO MEDICO, DENTAL O PARA EL ASEO... > Preparaciones medicinales que contienen ingredientes... > A61K31/545 (Compuestos que contienen sistemas cíclicos 5-tia-1-aza biciclo [4.2.0] octano, es decir, compuestos que contienen un sistema cíclico de fórmula , p. ej. cefalosporinas, cefaclor, cefalexina)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > QUIMICA ORGANICA > COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares... > Compuestos heterocíclicos que contienen sistemas... > C07D501/48 (Radicales de metileno, sustituidos por heterociclos (C07D 501/38 - C07D 501/46 tienen prioridad))
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