COMPOSICIONES ACUOSAS A BASE DE ACIDO FOSFORICO PARA LA LIMPIEZA DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES.

Una solución limpiadora acuosa de semiconductores, comprendiendo:

al menos, alrededor del 75% en peso de agua; desde alrededor del 0,5% hasta alrededor del 10% en peso de ácido fosfórico al 85% en agua; al menos, un compuesto alcalino seleccionado de entre: un hidróxido de amonio cuaternario, un derivado de la hidroxilamina poseyendo la fórmula estructural: (Ver fórmula) en donde R3 es hidrógeno o un hidrocarburo lineal, ramificado o cíclico, conteniendo de 1 a 7 átomos de carbono, y en donde X e Y son, independientemente, hidrógeno o un hidrocarburo lineal, ramificado o cíclico conteniendo de 1 a 7 átomos de carbono, o en donde X e Y se encuentran ligados entre sí y forman un anillo heterocíclico C4-C7 conteniendo nitrógeno, y una mezcla de los mismos; y opcionalmente, uno o más compuestos ácidos distintos, uno o más compuestos conteniendo fluoruro, y/o una o más alcanolaminas poseyendo la fórmula estructural: (Ver fórmula) en donde R1, R1¿, R2, R2¿ y R3 son, independientemente en cada caso, hidrógeno o un hidrocarburo lineal, ramificado o cíclico conteniendo de 1 a 7 átomos de carbono; en donde Z es un grupo que posee la fórmula -(-Q-CR1R1¿-CR2 R2¿-)m-, de tal forma que m es un número entero de 0 a 3 (i.e., cuando m=0, no existe ningún átomo entre el grupo -CR2R2¿- y el grupo -OR3 en la fórmula anterior), R1, R1¿, R2 y R2¿ pueden ser independientemente definidos en cada unidad de repetición, si m>1, dentro de los parámetros establecidos más arriba para estos restos, y Q puede ser definida independientemente en cada unidad de repetición, si m>1, siendo cada Q independientemente bien -O- o -NR3-; y en donde X e Y son, independientemente en cada caso, hidrógeno, un hidrocarburo C1-C7 lineal, ramificado o cíclico, o un grupo poseyendo la fórmula -CR1R1¿-CR2R2¿-Z-F, siendo F bien -O-R3 o -NR3R4, donde R4 es definido de forma similar a R1, R1¿, R2, R2¿ y R3 más arriba, y con Z, R¿ R1¿, R2, R2¿ y R3 definidos conforme más arriba, o en donde X e Y se encuentran ligados entre sí para formar un anillo C4-C7 heterocíclico conteniendo nitrógeno, en donde el pH de la solución se encuentra desde alrededor de 1.5 a alrededor de 6.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: THE GOVERNMENT OF THE UNITED STATES OF AMERICA, AS REPRESENTED BY THE SECRETARY, DEPARTMENT OF HEAL
CLEAN AIR FILTER
.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: CENTERS FOR DISEASE CONTROL AND PREVENTION, TECHNOLOGY TRANSFER OFFICE, 4770 B ,ATLANTA, GEORGIA 30341.

Inventor/es: SCHMITZ, MICHAEL, ORGANISCAK,JOHN,A.

Fecha de Publicación: .

Clasificación PCT:

  • C09K13/00 QUIMICA; METALURGIA.C09 COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES; ADHESIVOS; COMPOSICIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE LOS MATERIALES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.C09K SUSTANCIAS PARA APLICACIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE SUSTANCIAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.Composiciones para el ataque químico, el grabado, el abrillantado de superficie o el decapado.
  • C11D11/00 C […] › C11 ACEITES, GRASAS, MATERIAS GRASAS O CERAS ANIMALES O VEGETALES; SUS ACIDOS GRASOS; DETERGENTES; VELAS.C11D COMPOSICIONES DETERGENTES; UTILIZACION DE UNA SOLA SUSTANCIA COMO DETERGENTE; JABON O SU FABRICACION; JABONES DE RESINA; RECUPERACION DE LA GLICERINA.Métodos particulares para la preparación de composiciones que contienen mezclas de detergentes.
  • C11D7/06 C11D […] › C11D 7/00 Composiciones de detergentes basadas esencialmente en compuestos no tensioactivos. › Hidróxidos.
  • C11D7/08 C11D 7/00 […] › Acidos.
  • C11D7/32 C11D 7/00 […] › que contienen nitrógeno.
COMPOSICIONES ACUOSAS A BASE DE ACIDO FOSFORICO PARA LA LIMPIEZA DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES.

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