COMPOSICION DE RESINA FOTOCURABLE.

SE PRESENTA UNA COMPOSICION DE RESINA FOTOCURABLE QUE COMPRENDE LOS COMPONENTES A), B), C) Y D) O LOS COMPONENTES A), B) Y E) DE LOS SIGUIENTES COMPONENTES: A) UN COMPUESTO POLIMERIZABLE QUE TENGA AL MENOS UN GRUPO ETILENICAMENTE INSATURADO POR MOLECULA; B) UN INICIADOR DE LA FOTOPOLIMERIZACION; C) AL MENOS UN COMPUESTO DE LA FORMULA GENERAL: EN DONDE R1 REPRESENTA UN ATOMO DE HIDROGENO O UN GRUPO DE ALQUIL INFERIOR, A REPRESENTA -OESENTA UN GRUPO DE ALQUIL INFERIOR, X REPRESENTA UN GRUPO DE ALCOXIDO INFERIOR O UN ATOMO DE HALOGENO, Y M REPRESENTA 0, 1 O 2, O AL MENOS UN PRODUCTO DE HIDROLISIS QUE CONTIENE UN GRUPO DE SILANO DEL MISMO; D) AL MENOS UN COMPUESTO DE LA FORMULA GENERAL: EN DONDE R4 REPRESENTA GLICIDOXIDO O UN GRUPO DE HEPOXICICLOALQUIL C5-C6, R5 REPRESENTA UN GRUPO DE ALQUILENO C1C6, R6 REPRESENTA UN GRUPO DE ALQUIL INFERIOR, Y REPRESENTA UN GRUPO DE ALCOXIDO INFERIOR O UN ATOMO DE HALOGENO Y N REPRESENTA 0, 1 O 2, O AL MENOS UN PRODUCTO DE HIDROLISIS DEL MISMO QUE COMPRENDA UN GRUPO DE SILANO; E) UN PRODUCTO DE HIDROLISIS QUE CONTENGA UN GRUPO DE SILANO DE UNA MEZCLA DE AL MENOS UN COMPUESTO DE LA FORMULA

(I) Y AL MENOS UN GRUPO DE LA FORMULA (II).

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: NATIONAL STARCH AND CHEMICAL INVESTMENT HOLDING CORPORATION.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 501 SILVERSIDE ROAD, SUITE 27,WILMINGTON, DELAWARE 19809.

Inventor/es: NAGAHATA, MASAJI, MASAOKA, HIROSHI.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 28 de Agosto de 1996.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION... > COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES... > Copolímeros de compuestos que tienen uno o más... > C08F230/08 (que contienen silicio)
  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION... > COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES... > Compuestos macromoleculares obtenidos por interreacción... > C08F299/08 (a partir de polisiloxanos)
google+ twitter facebook