CHAMPUES ANTICASPA CON ELEVADA FORMACION DE ESPUMA.
SE PRESENTAN COMPOSICIONES DE CHAMPUES ANTICASPA MUY ESPUMOSOS CON UNA DEPOSICION MEJORADA DEL AGENTE ACTIVO ANTICASPA EN PARTICULAS,
EN DONDE DICHA COMPOSICION CONTIENE: (A) DE UN 5% APROXIMADAMENTE A UN 29,5% EN PESO APROXIMADAMENTE DE UN SURFACTANTE ANIONICO SELECCIONADO DEL GRUPO QUE CONSISTE EN SULFATOS DE ALQUILO Y SULFATOS ETOXILADOS DE ALQUILO, ACIDOS DE LOS MISMOS, Y MEZCLAS DE LOS MISMOS; (B) DE UN 0,5% APROXIMADAMENTE A UN 5% EN PESO APROXIMADAMENTE DE UN SURFACTANTE ANIONICO ACIDO DE N-ACILAMINO Y SALES DEL MISMO; (C) DE UN 0,1% APROXIMADAMENTE A UN 10% EN PESO APROXIMADAMENTE DE UN AGENTE ANTICASPA EN PARTICULAS; (D) DE UN 0,5% APROXIMADAMENTE A UN 10% EN PESO APROXIMADAMENTE DE UN AGENTE DE SUSPENSION CRISTALINO PARA DICHO AGENTE ACTIVO ANTICASPA; (E) DE UN 40% APROXIMADAMENTE A UN 89% EN PESO APROXIMADAMENTE DE AGUA; EN DONDE LA CONCENTRACION DE SURFACTANTE DETERSIVO TOTAL DE DICHA COMPOSICION ES DE UN 10% APROXIMADAMENTE A UN 30% APROXIMADAMENTE; LA RELACION EN PESO DE COMPONENTE (B):COMPONENTE (A) ES DE AL MENOS 1:20 APROXIMADAMENTE; Y DICHA COMPOSICION NO CONTIENE SUSTANCIALMENTE SURFACTANTES DE BETAINA NI AUMENTADORES DE LA ESPUMA DE ALCANOLAMIDA.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: THE PROCTER & GAMBLE COMPANY.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: ONE PROCTER & GAMBLE PLAZA,CINCINNATI, OHIO 45202.
Inventor/es: COFFINDAFFER, TIMOTHY, WOODROW, COTHRAN, PHILIP, EARL, GAUTHIER, THOMAS, FRANCIS, MURRAY, KEVIN PATRICK.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 17 de Junio de 1994.
Fecha Concesión Europea: 30 de Septiembre de 1998.
Clasificación Internacional de Patentes:
- A61K7/075
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Oficina Europea de Patentes, Letonia, Australia, Barbados, Bulgaria, Brasil, Bielorusia, Canadá, China, República Checa, Georgia, Hungría, Japón, Kenya, Kirguistán, República de Corea, Kazajstán, Sri Lanka, República del Moldova, Madagascar, Mongolia, Malawi, Noruega, Nueva Zelanda, Polonia, Federación de Rusia, Sudán, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, República Popular Democrática de Corea.
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