APARATO Y METODO PARA EL ENSAYO NO DESTRUCTIVO DE ARTICULOS UTILIZANDO METROLOGIA OPTICA.

Aparato para inspeccionar o ensayar una muestra (17) utilizando técnicas de cizallografía,

que incluye: un interferómetro (3) de corte con láser que incluye: una fuente (5) de radiación coherente; medios (7) de generación de línea para producir una línea de radiación coherente (19) desde dicha fuente (5), medios (15) de exploración de línea para explorar dicha línea de radiación coherente (19) sobre dicha muestra (17), medios de elemento de corte o cizalladura (29, 41) para generar dos imágenes de la muestra (17) desplazadas lateralmente, y medios (31) de escalonamiento o inclinación de fase para escalonar o inclinar la fase de una de las dos imágenes, y .una cámara de vídeo (11) para visualizar imágenes de las muestra (17) y para proporcionar las señales (21) de salida de vídeo correspondientes, un procesador de imágenes (23) operativo para recibir las señales (21) de salida de vídeo y para extraer de él el régimen de fotogramas de la cámara (11) en tiempo esencialmente real, medios (25) de generación de señales para proporcionar a dichos medios (31) de escalonamiento o inclinación y a dichos medios (15) de exploración de línea una señal esencialmente en fase con el régimen de fotogramas de dicha cámara (11), medios descodificadores para la desenvoltura o extracción de fase, una cámara de vacío (1) para contener al menos el interferómetro (3) de corte por láser y la muestra (17), medios de control de presión (43, 45) capacitados para variar la presión dentro de la cámara de vacío (1) entre varios valores de presión predeterminados, y medios (47) de unidad de control para acoplar entre sí y sincronizar dicho procesador (23), dichos medios (25) generadores de señal, dichos medios descodificadores y dichos medios (43, 45) de control de presión.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: BAE SYSTEMS PLC.

Nacionalidad solicitante: Reino Unido.

Dirección: WARWICK HOUSE, P.O. BOX 87, FARNBOROUGH AEROSPACE CENTRE,FARNBOROUGH, HAMPSHIRE GU14.

Inventor/es: PARKER, STEVE CARL JAMIESON, SMITH, JOHN PATRICK W25A BR.AEROSP.MILIT.AIRCRAFT, SALTER, PHILLIP LANGLEY FPC 267 BRITISH AEROSPACE.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 3 de Agosto de 1999.

Fecha Concesión Europea: 9 de Abril de 2003.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G01B11/16 FISICA.G01 METROLOGIA; ENSAYOS.G01B MEDIDA DE LA LONGITUD, ESPESOR O DIMENSIONES LINEALES ANALOGAS; MEDIDA DE ANGULOS; MEDIDA DE AREAS; MEDIDA DE IRREGULARIDADES DE SUPERFICIES O CONTORNOS.G01B 11/00 Disposiciones de medida caracterizadas por la utilización de medios ópticos (instrumentos de los tipos cubiertos por el grupo G01B 9/00 en sí G01B 9/00). › para la medida de la deformación de un sólido, p. ej. galga extensiométrica óptica.
  • G01B9/02 G01B […] › G01B 9/00 Instrumentos según se especifica en los subgrupos y caracterizados por la utilización de medios de medida ópticos (disposiciones para la medida de parámetros particulares G01B 11/00). › Interferómetros.
  • G01J9/02 G01 […] › G01J MEDIDA DE LA INTENSIDAD, DE LA VELOCIDAD, DEL ESPECTRO, DE LA POLARIZACION, DE LA FASE O DE CARACTERISTICAS DE IMPULSOS DE LA LUZ INFRARROJA, VISIBLE O ULTRAVIOLETA; COLORIMETRIA; PIROMETRIA DE RADIACIONES.G01J 9/00 Medida del desfase de rayos luminosos; Investigación del grado de coherencia; Medida óptica de la longitud de onda (espectrometría G01J 3/00). › por métodos interferométricos.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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