APARATO PARA ACTIVAR ACIDO SILICICO EN AGUA.

UN APARATO PARA ACTIVAR ACIDO SILICICO CONTENIDO EN AGUA, EN EL CUAL UNA ANTENA EN HELICE QUE GENERA UN CAMPO MAGNETICO/ELECTRICO OSCILANTE POR USO DE UNA FUENTE DE ENERGIA DE ALTA FRECUENCIA Y QUE TIENE UNA LONGITUD DE 1,

1/2 O 1/4 VECES TAN GRANDE COMO LA LONGITUD DE ONDA DE LA ONDA DE ALTA FRECUENCIA, ESTA DISPUESTA EN LA DIRECCION DEL EJE CENTRAL DE UN DEPOSITO CILINDRICO; UN TUBO DE ENTRADA DE AGUA PROVISTO CON UN MIEMBRO TUBO DE INYECCION DE AGUA PARA INTRODUCIR AGUA EN EL DEPOSITO, ESTA DISPUESTO EN EL TECHO O EN LA PARTE SUPERIOR DE LA PARED LATERAL DEL DEPOSITO; UN TUBO PARA DRENAJE DEL AGUA ESTA DISPUESTO EN EL FONDO O EN LA PARTE INFERIOR DEL DEPOSITO; EL ANGULO (THETA) FORMADO POR EL EJE DEL TUBO DE INYECCION Y LA LINEA RECTA QUE UNE UN PUNTO DONDE EL EJE DEL TUBO DE INYECCION Y LA CIRCUNFERENCIA DEL DEPOSITO SE CORTAN Y EL EJE DEL CILINDRO DEL DEPOSITO, SATISFACE LA ECUACION: 0 (GRADOS) < (THETA) (MENOR O IGUAL) 90 (GRADOS) , DE FORMA QUE EL AGUA SUMINISTRADA DENTRO DEL DEPOSITO FORMA UN FLUJO EN TORBELLINO QUE CRUZA EL CAMPO MAGNETICO EN ANGULO RECTO. EL ACIDO SILICICO O EL ION SILICATO CONTENIDO EN EL AGUA PUEDE SER ACTIVADO DE UNA MANERA ALTAMENTE EFICAZ POR USO DEL SENCILLO APARATO DE ACUERDO CON LA INVENCION.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: NIPPON ZOKI PHARMACEUTICAL CO., LTD..

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 1-2, HIRANO-MACHI 2-CHOME, CHUO-KU,OSAKA-SHI, OSAKA-FU.

Inventor/es: OHE, TAKEO, KAWANO, NORIO.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 3 de Julio de 1996.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C02F1/48 QUIMICA; METALURGIA.C02 TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS.C02F TRATAMIENTO DEL AGUA, AGUA RESIDUAL, DE ALCANTARILLA O FANGOS (procedimientos para transformar las sustancias químicas nocivas en inocuas o menos perjudiciales, efectuando un cambio químico en las sustancias A62D 3/00; separación, tanques de sedimentación o dispositivos de filtro  B01D; disposiciones relativas a las instalaciones para el tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla en los buques, p. ej. para producir agua dulce, B63J; adición al agua de sustancias para impedir la corrosión C23F; tratamiento de líquidos contaminados por radiactividad G21F 9/04). › C02F 1/00 Tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla (C02F 3/00 - C02F 9/00 tienen prioridad). › por medio de campos magnéticos o eléctricos (C02F 1/46 tiene prioridad).

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