BAO ACIDO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE UN DEPOSITO DE COBRE QUE CONTIENE COMPUESTOS DE FENAZINIO MONOMEROS HALOGENADOS O SEUDOHALOGENADOS.
Compuestos de fenazinio monoméricos halogenados o seudohalogenados de una pureza por lo menos del 85% molar que tienen la fórmula química general siguiente:
(Ver fórmula) en la que R 1 , R 2 , R 4 , R 6 , R 7 ¿, R 7 ¿, R 8 y R 9 se eligen con independencia entre sí entre el grupo formado por hidrógeno, halógeno, amino, aminoalquilo, hidroxi, ciano, tiocianato, isotiocianato, cianato, isocianato, mercapto, carboxi, sus sales, ésteres de ácidos carboxílicos, sulfo, sus sales, ésteres de ácidos sulfónicos, alquilo C1-C4, arilo sin sustituir, arilo sustituido, heteroarilo y heterorradicales alicíclicos, R 5 se elige entre el grupo formado por alquilo C1-C4, arilo sin sustituir, arilo sustituido y heteroarilo, X es halógeno o a seudohalógeno y A- es un anión ácido, con la condición de que, si X es halógeno, los compuestos de fenazinio se eligen entre el grupo formado por: i) la sal 3-cloro-7-N,N-dimetilamino-2-metil-5-fenil-fenazinio, ii) la sal 3-bromo-7-N,N-dimetilamino-2-metil-5-fenil-fenazinio y iii) la sal 3-bromo-7-N,N-dietilamino-5-fenil-fenazinio.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: ERASMUSSTRASSE 20,10553 BERLIN.
Inventor/es: BRUNNER, HEIKO, DAHMS, WOLFGANG, GRIESER, UDO.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 7 de Mayo de 2008.
Clasificación PCT:
- C07D241/46 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07D COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares C08). › C07D 241/00 Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de diazina-1,4 o diazina-1,4 hidrogenada. › Fenazinas.
- C25D3/38 C […] › C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS. › C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados. › de cobre.
Patentes similares o relacionadas:
Niveladores para la deposición de cobre en la microelectrónica, del 1 de Julio de 2020, de MacDermid Enthone Inc: Una composición electrolítica acuosa útil en el relleno de elementos submicrónicos de un dispositivo de circuito integrado semiconductor, o de vías a través del silicio, […]
Lámina metálica para separadores de pilas de combustible de electrolito polimérico, del 17 de Junio de 2020, de JFE STEEL CORPORATION: Lámina metálica para separadores de pilas de combustible de electrolito polimérico, que comprende: un sustrato hecho de una lámina de acero inoxidable […]
Baño de galvanoplastia de cobre ácido acuoso y método para depositar electrolíticamente un revestimiento de cobre, del 18 de Septiembre de 2019, de ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH: Baño de galvanoplastia de cobre ácido acuoso que comprende: - iones cobre; - al menos un ácido; - iones haluro; - al menos un compuesto que contiene azufre […]
Beta-naftoletersulfonatos, procedimiento para su preparación y su uso como mejoradores de brillo, del 10 de Julio de 2019, de BASF SE: Acido beta-naftoletersulfónico o su sal con la fórmula general (I) R-O-(AO)n-CH2-CH2-S(O)3M (I), en la que R representa un radical naft-2-ilo, que es no sustituido […]
Composiciones de electrodeposición para deposición electrolítica de cobre, su uso y un método para depositar electrolíticamente una capa de cobre o aleación de cobre sobre al menos una superficie de un sustrato, del 15 de Mayo de 2019, de ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH: Una composición de electrodeposición para la deposición electrolítica de cobre, que comprende iones de cobre, iones haluro y al menos un […]
Método de revestimiento de cobre para la fabricación de celdas solares, del 8 de Mayo de 2019, de MacDermid Enthone America LLC: Un método de revestimiento de cobre sobre un sustrato que comprende: proporcionar un sustrato, en donde el sustrato es una capa semilla metálica […]
Método para monitorizar la cantidad total de abrillantadores presentes en un baño de recubrimiento ácido de cobre o de una aleación de cobre y proceso controlado para el recubrimiento, del 1 de Mayo de 2019, de ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH: método para monitorizar la cantidad total de abrillantadores presentes en un baño de recubrimiento ácido de cobre o de una aleación de cobre, durante […]
Placa de metal para su uso como separador de pila de combustible de polímero sólido, del 1 de Mayo de 2019, de JFE STEEL CORPORATION: Lámina metálica para separadores de pilas de combustible de electrolito polimérico, que comprende: un sustrato hecho de una lámina de acero inoxidable […]