Sistema de planchado.

Un sistema de planchado que comprende un calentador (2) para la producción de vapor,

una placa (4) conectada a dicho calentador (2) para distribuir dicho vapor; comprendiendo dicha placa (4) una pared de fondo (8) que define una superficie de planchado (9); comprendiendo además dicho sistema de planchado al menos una primera pluralidad de conductos (39) de distribución de vapor, y

al menos una segunda pluralidad de conductos (39) de distribución de vapor, estando dispuestas dichas primera y dicha segunda pluralidades de distribución de vapor a lo largo de dos filas diferenciadas formadas en las paredes laterales opuestas (11) de dicha placa (4),

caracterizado porque dichos conductos (39) de distribución presentan secciones de salida (39a) dispuestas en un nivel elevado con respecto a dicha superficie de planchado (9) y unos respectivos ejes de desarrollo (A) inclinados con respecto a dicha superficie de planchado (9) en un ángulo que oscila entre 25º y 55º

Sistema de planchado

La presente invención tiene por objetivo un sistema de planchado. En particular, la presente invención tiene por objetivo un sistema de planchado con fines domésticos.

Son conocidos los sistemas de planchado que comprenden un calentador para la producción de vapor de agua y, en algunos casos y un depósito con agua.

El vapor producido por el calentador es conducido hasta una placa de distribución que comprende una cámara especial para recoger y distribuir dicho vapor. Los sistemas de planchado comprenden además un resistor asociado con la placa con el fin de calentarla de acuerdo con una temperatura predeterminada.

La distribución de vapor se produce a través de una pluralidad de agujeros de paso formados a través de una pared de fondo de la placa. Concretamente, los agujeros presentan una sección de entrada de vapor dispuesta frente a dicha cámara y una sección de salida formada en una superficie externa de la pared de fondo. Dicha superficie externa define una superficie de planchado.

El vapor así distribuido se caracteriza por una gran velocidad y una elevada temperatura, dado que, antes de escapar, está expuesto a elevadas temperaturas inducidas por el resistor.

La placa está también provista de un mango térmicamente aislado para permitir que un usuario maniobre dicha placa durante las operaciones de planchado. Unos miembros de control apropiados están asociados con la placa para hacer posible que el usuario seleccione, por ejemplo, la temperatura de la placa y / o la cantidad de vapor distribuido.

A modo de ejemplo, los medios de control comprenden un termostato para el ajuste de la temperatura de la placa, y una llave dispuesta corriente arriba de dicha cámara para ajustar el flujo de vapor.

En los sistemas conocidos, el calentador y el depósito están separados de la placa, y son fijos. También son conocidos sistemas en los que el depósito y el calentador están integrados en la placa.

Los documentos EP 0999303A2, EP 1772551A1 y DE 3819132 describen sistemas de planchado al vapor de la técnica anterior.

Desgraciadamente, si es necesario planchar concretamente tejidos delicados, como por ejemplo tejidos sintéticos, seda o similares, los sistemas de planchado no aseguran la consecución de condiciones apropiadas para dicho tipos de tejidos.

De hecho, por mucho que pueda reducirse el flujo de vapor, dicho vapor tiene en cualquier caso que pasar a través del tejido. Dicha condición frecuentemente es inapropiada con la fragilidad de las fibras en cuestión.

En este contexto, la finalidad técnica de la presente invención consiste en proponer un sistema de planchado que obvie el inconveniente citado.

En particular, constituye un objetivo de la presente invención proponer un sistema de planchado que permita un planchado eficiente y seguro también en tejidos particularmente delicados.

De acuerdo con la presente invención, la finalidad técnica y el objetivo descritos se consiguen mediante un sistema de planchado que comprende las características técnicas definidas en las reivindicaciones adjuntas.

Otras características y ventajas de la presente invención se entenderán con mayor claridad a partir de la descripción indicativa y, por tanto, no limitativa, de una forma de realización preferente pero no exclusiva, de un sistema de planchado, según se ilustra en los dibujos adjuntos, en los que:

- la figura 1 ilustra una vista en perspectiva de un sistema de planchado de acuerdo con la presente invención habiéndose suprimido algunos detalles con el fin de destacar otros con mayor claridad;

la figura 2 ilustra una vista en despiece ordenado del sistema de planchado de la figura 1,

la figura 3 ilustra un primer componente del sistema de planchado de la figura 1, en una primera vista en planta;

la figura 4 ilustra el primer componente de la figura 3 en una segunda vista en planta;

la figura 5 ilustra una vista lateral en sección de un segundo componente del sistema de planchado de la figura 1;

la figura 6 ilustra una vista en perspectiva de un tercer componente del sistema de planchado de la figura 1; la figura 7 ilustra una vista en perspectiva de un detalle del primer componente de las figuras. 3 y 4; y la figura 8 ilustra una vista en sección de un detalle de la figura 7.

Con referencia ahora a las figuras adjuntas, un sistema de planchado de acuerdo con la presente invención se indica globalmente con 1.

El sistema de planchado 1 comprende un calentador 2, necesario para producir vapor de agua, el cual extrae el agua necesaria de un depósito (no mostrado) integrado en el calentador 2 y accesible por medio de una clavija 3.

El sistema de planchado 1 comprende además una placa de planchado 4 conectada al calentador 2 para distribuir el vapor producido.

En la forma de realización descrita, el calentador 2 y la placa 4 están separados y diferenciados. Un tubo flexible especial 5 conecta el calentador 2 a la placa 4 para conducir el vapor producido hasta esta última.

Sin embargo, se debe destacar que la presente invención encuentra aplicación ventajosa también en relación con aquellos sistemas de planchado en el que el calentador 5 está integrado con la placa 4.

La placa 4 comprende un cuerpo principal 6 que está fabricado, a modo de ejemplo, mediante fusión y una tapa 7 de recubrimiento del cuerpo principal 6.

La placa 4 comprende además una pared de fondo 8 que presenta una superficie externa 8a la cual define una superficie de planchado 9 de la placa 4.

La pared de fondo 8 de la placa 4 tiene una forma esencialmente de triángulo isósceles plana con unos lados mayores redondeados y que confluyen en un vértice 10 dispuesto en una porción delantera 4a de la placa 4.

Un lado menor está dispuesto con relación al vértice citado 10 y está dispuesto en una porción trasera 4b de la placa 4.

Así mismo, la placa 4 comprende dos paredes laterales 11 conectadas a la pared de fondo 8 y también convergentes en el vértice 10 de la pared de fondo 8. Una pared trasera 12 está conectada a las paredes laterales 11 y a la pared de fondo 8 en la porción trasera 4b de la placa 4.

La pared de fondo 8, las paredes laterales 11 y la pared trasera 12 están conformadas en el cuerpo principal 6 de la

placa 4.

La placa 4 comprende además un resistor 13 dispuesto dentro de la placa 4. En concreto, el resistor 13 está

simétricamente dispuesto sobre la pared de fondo 8 con respecto a un plano medio "P" de la placa 4. Más

exactamente aún, en la forma de realización descrita, el resistor 13 se extiende sobre la pared de fondo 8 de la placa 4 a lo largo de una trayectoria esencialmente con forma de "U".

Unos conectores eléctricos apropiados 14 permiten el suministro eléctrico del resistor 13. Más concretamente, los conectores eléctricos citados 14 están dispuestos en los extremos libres del resistor 13 en la porción 4b de la placa trasera 4.

El suministro es conducido hasta la placa 4 gracias a un cable eléctrico 5 asociado con el tubo flexible 5.

El resistor 13 calienta la placa 4 de acuerdo con una temperatura predeterminada seleccionada por el usuario.

Unos medios de control apropiados permiten seleccionar y mantener dicha temperatura preseleccionada. A modo de ejemplo, dichos medios de control comprenden un termostato (no mostrado).

En la forma de realización descrita, la placa 4 está provista de un mango 16 para permitir que un usuario maniobre la placa 4, haciendo así posible la operación de planchado.

El mango 16 es soportado sobre la placa 4 por una pieza de sujeción 17 rígidamente conectada a la referida placa 4. Una cubierta 18 fabricada en material termoaislante envuelve el mango 16 para evitar que el usuario se queme y para incrementar las condiciones de seguridad del sistema de planchado 1.

Por otro lado, la placa 4 comprende un protector de cubierta que no se ¡lustra en las figuras adjuntas.

El sistema de planchado comprende una cámara de sobrecalentamiento 19 conectada al calentador 2 para incrementar la temperatura del vapor que debe ser distribuido (figura 4).

Más exactamente, la cámara de sobrecalentamiento 19 está formada en la placa 4. Más exactamente aún, la cámara de sobrecalentamiento 19 está formada en el cuerpo principal 6 de la placa 2 y se define en cooperación con la tapa 7.

La cámara de sobrecalentamiento 19 comprende un conector de entrada 20 que hace posible la conexión de un conducto de suministro 21 que induce el vapor que procede del calentador 2 dentro de la misma cámara de sobrecalentamiento 19. En concreto el calentador de entrada 20 está formado... [Seguir leyendo]

1Un sistema de planchado que comprende un calentador (2) para la producción de vapor, una placa (4) conectada a dicho calentador (2) para distribuir dicho vapor; comprendiendo dicha placa (4) una pared de fondo (8) que define una superficie de planchado (9); comprendiendo además dicho sistema de planchado al menos una primera pluralidad de conductos (39) de distribución de vapor, y

al menos una segunda pluralidad de conductos (39) de distribución de vapor, estando dispuestas dichas primera y dicha segunda pluralidades de distribución de vapor a lo largo de dos filas diferenciadas formadas en las paredes laterales opuestas (11) de dicha placa (4),

caracterizado porque dichos conductos (39) de distribución presentan secciones de salida (39a) dispuestas en un nivel elevado con respecto a dicha superficie de planchado (9) y unos respectivos ejes de desarrollo (A) inclinados con respecto a dicha superficie de planchado (9) en un ángulo que oscila entre 252 y 552.

2.- El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicación 1, en el que dichos conductos (39) de distribución presentan unos respectivos ejes de desarrollo (A) inclinados con respecto a dicha superficie de planchado (9) de un ángulo que oscila entre 352 y 452.

3.- El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicación precedente, caracterizado porque dichos conductos (39) de distribución presentan unos respectivos ejes de desarrollo (A) dispuestos paralelos entre sí; siendo dichos ejes de desarrollo (A) paralelos a un plano medio (P) que es ortogonal con dicha placa (4).

4.- El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicación precedente, caracterizado porque dichos conductos (39) de distribución presentan unos respectivos ejes de desarrollo (A) inclinados de forma que distribuyan el vapor hacia la parte delantera de la placa.

5.- El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicación precedente, caracterizado porque dicha placa (4) presenta unos rebajos (40) formados en dichas paredes laterales respectivas (11), formándose dichos conductos (39) de distribución en dichos rebajos (40).

6.- El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicación precedente, caracterizado porque cada rebajo (40) presenta una porción de superficie (40a); presentando dichos conductos (39) de distribución unas respectivas secciones de salida (39a) dispuestas sobre dicha porción de superficie (40a).

7.- El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicación precedente, caracterizado porque cada porción de superficie (40a) es esencialmente paralela con dicha superficie de planchado (9).

8.- El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicación precedente, caracterizado porque comprende al menos una cámara (41) de vapor lateral para la recogida y distribución de dicho vapor, formada en dicha placa (4); comprendiendo dicha cámara (41) de vapor lateral una porción de recogida (41a), y una porción de distribución (41b) conectada a dicha porción de recogida (41a) y directamente en comunicación fluida con dichos conductos (39) de distribución.

9.- El sistema de acuerdo con la reivindicación precedente caracterizado porque comprende un par de dichas cámaras de vapor laterales (41), cada una dispuesta en las inmediaciones de dichas paredes laterales (11).

10.- El sistema de acuerdo con la reivindicación 8 o 9, caracterizado porque cada cámara (41) de vapor lateral comprende un tabique (43) para dividir parcialmente dicha porción de recogida (41a) respecto de dicha porción de distribución (41b); desarrollándose dicho tabique (43) desde dicha pared de fondo (8) para reducir el paso de agua desde dicha porción de recogida (41 a) hasta dicha porción de distribución (41 b).

11.- El sistema de planchado de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 8 a 10, caracterizado porque dicha al menos una cámara (41) de vapor lateral está en comunicación fluida con dicho calentador (2) a través de un conducto de conexión (44).

12.- El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicación precedente, caracterizado porque comprende además una cámara de distribución (25) dispuesta en dicha placa (4), y una pluralidad de agujeros (26) formados de manera uniforme en dicha placa (4) y en comunicación fluida con dicha cámara de distribución (25) para distribuir dicho vapor; comprendiendo además dicho sistema de planchado una cámara de expansión (24) conectada a dicho calentador (2) y en comunicación fluida con dicha cámara de distribución (25) para reducir la temperatura y la presión del vapor distribuido.

13.- El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicación precedente, caracterizado porque dicha cámara de expansión (24) está dispuesta por fuera de dicha placa (4).

14.- El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicación precedente, caracterizado porque dicha cámara de expansión (24) está dispuesta por encima de dicha placa (4).

15.- El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicación 14, caracterizado porque dicha cámara de expansión (24) está dispuesta sobre dicha cámara de distribución (25).

16.- El sistema de planchado de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 12 a 15, caracterizado porque dicha cámara de expansión (24) está directamente conectada a dicha cámara de distribución (25) a través de dicho orificio de paso (29).

17.- El sistema de planchado de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 12 a 16, caracterizado porque comprende además una precámara (31) dispuesta por dentro de dicha placa (4), estando conectada dicha precámara (31) a dicho calentador (2) y estando en comunicación fluida con dicha cámara de expansión (24) para impedir la entrada de una porción de agua dentro de dicha cámara de expansión (24).

18.- El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicación precedente, caracterizado porque dicha precámara (31) está formada en dicha porción trasera (4b) de dicha placa (4).

19.- El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicación 17 o 18, caracterizado porque dicha precámara (31) está directamente conectada a dicha cámara de expansión (24) a través de un tubo de conexión (36).

20.- El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicación precedente, caracterizado porque dichos agujeros (26) tienen un diámetro que oscila entre 2 y 3,5 mm, de modo preferente entre 2,5 y 3,5 mm.

21.- El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicación precedente, caracterizado porque comprende además una cámara de sobrecalentamiento (19) conectada a dicho calentador (2) para incrementar la temperatura del vapor que se produce y para distribuir dicho primer vapor.

22.- El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicación 21, caracterizado porque dicha cámara de sobrecalentamiento (19) está formada en dicha placa (4); comprendiendo dicha cámara de sobrecalentamiento (19) una pluralidad de paredes divisorias (22) para definir una trayectoria en forma de laberinto para dicho vapor.

23.- El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicación 21 o 22, caracterizado porque comprende además un resistor (13) sobre dicha placa de calentamiento (4); formándose dicha placa de sobrecalentamiento (19) en dicho resistor (13).

24.- El sistema de planchado de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 21 a 23, caracterizado porque comprende una pluralidad de boquillas de distribución (23) formadas a través de dicha pared de fondo (8); estando dichas boquillas (23) en comunicación fluida con dicha cámara de sobrecalentamiento (19).

25.- El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicación 21, caracterizado porque dicha cámara de sobrecalentamiento (19) comprende una porción terminal de distribución (19a) directamente conectada a dichas boquillas (23).

26.- El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicación 24 o 25, caracterizado porque dichas boquillas (23) tienen un diámetro que oscila entre 1,5 y 3 mm, de modo preferente, entre 2 y 2,5 mm.

27.- El sistema de planchado de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 9 a 26, caracterizado porque comprende además un deflector (46) para dirigir selectivamente dicho vapor por dentro de dichos conductos (39) de distribución y / o por dentro de dicha cámara de expansión (24) y / o por dentro de dicha cámara de sobrecalentamiento (19).