Sistema de planchado.

Un sistema de planchado que comprende un hervidor (2) para la producción de vapor,

una placa (4) conectada con dicho hervidor (2) para dispensar dicho vapor, una resistencia (13) para calentar dicha placa (4), comprendiendo dicha placa (4) una pared inferior (8) que define una superficie de planchado (9); comprendiendo 5 además dicha placa (4) primeros medios de dispensación (M1) que están conectados con dicho hervidor (2) para dispensar un primer vapor a través de dicha superficie de planchado (9); en el que:

dicha placa (4) comprende además segundos medios de dispensación de vapor (M2), que son diferentes de dichos primeros medios de dispensación (M1), conectados con dicho hervidor (2) para dispensar un segundo vapor que tiene características físicas predeterminadas diferentes de dicho primer vapor, siendo operables selectivamente dichos primeros (M1) y segundos (M2) medios de dispensación, y comprendiendo dichos primeros medios de dispensación de vapor (M1) una cámara de sobrecalentamiento (19) que está conectada con dicho hervidor (2) para aumentar la temperatura del vapor producido y dispensar dicho primer vapor, y

dicha cámara de sobrecalentamiento (19) se obtiene en dicha resistencia y en dicha placa (4), comprendiendo dicha cámara de sobrecalentamiento (19) una pluralidad de paredes de partición (22) que definen una trayectoria en forma de laberinto para dicho vapor;

caracterizado porque dichos segundos medios de dispensación (M2) comprenden una cámara de dispensación (25) de dicho segundo vapor y una cámara de expansión (24) conectada con dicho hervidor (2) y en comunicación fluida con dicha cámara de dispensación (25) para reducir la temperatura y presión del vapor dispensado.

Sistema de planchado La presente invenciïn tiene como objeto un sistema de planchado. Concretamente, la presente invenciïn tiene como objeto un sistema de planchado destinado a su aplicaciïn domïstica.

Son conocidos sistemas de planchado que comprenden un hervidor necesario para la producciïn de vapor de agua y, en algunos casos, un tanque para contener agua.

El vapor producido por el hervidor es transportado a una placa de dispensaciïn que comprende una cïmara especial para recoger y dispensar el propio vapor. Los sistemas de planchado conocidos comprenden ademïs una resistencia asociada con la placa con el fin de calentarla de acuerdo a una temperatura predeterminada.

La dispensaciïn de vapor tiene lugar mediante una pluralidad de orificios pasantes obtenidos a travïs de una pared inferior de la placa. En detalle, los orificios tienen una secciïn de entrada de vapor orientada hacia dicha cïmara, y una secciïn de salida obtenida en una superficie externa de la pared inferior. Tal superficie externa define una superficie de planchado.

El vapor asï dispensado estï caracterizado por una elevada velocidad y una elevada temperatura, ya que, antes de escapar, estï expuesto a las temperaturas elevadas inducidas por la resistencia.

La placa estï provista ademïs de un mango aislado tïrmicamente para permitir que un usuario maniobre la propia placa durante las operaciones de planchado. Miembros de control adecuados estïn asociados con la placa para permitir que el usuario seleccione, por ejemplo, la temperatura de la placa y/o la cantidad dispensada de vapor.

A modo de ejemplo, los miembros de control comprenden un termostato para el ajuste de la temperatura de la placa, y una toma dispuesta aguas arriba de dicha cïmara para ajustar el flujo de vapor.

En los sistemas conocidos, hervidor y tanque son diferentes de la placa, y son fijos. Ademïs se conocen sistemas en los cuales el tanque y el hervidor estïn integrados en la placa.

Desventajosamente, los sistemas de planchado del tipo conocido, aunque permiten el ajuste de la temperatura de la placa y del flujo de vapor dispensado, proporcionan sin embargo un ïnico tipo de vapor, en tïrminos de temperatura,

velocidad y humedad de este ïltimo, asï como en relaciïn a la posiciïn y direcciïn del alimentaciïn de vapor.

En otras palabras, los sistemas de planchado conocidos aseguran una flexibilidad extremadamente limitada en relaciïn con las caracterïsticas de los diferentes tejidos que van a ser planchados.

De hecho, el vapor dispensado por los sistemas conocidos estï determinado directamente por la temperatura que se ajusta en el termostato del sistema de planchado, y por lo tanto es por lo general un vapor sobrecalentado a alta presiïn, temperatura y velocidad, y de baja humedad cuando el termostato se ajusta a la mïxima temperatura (aproximadamente 210 ïC) , mientras que en general es un vapor muy hïmedo (prïximo a la saturaciïn) a una temperatura relativamente baja y baja presiïn y velocidad cuando el termostato se ajusta a la mïnima temperatura 45 (aproximadamente 120 ïC) .

Por consiguiente, los sistemas calefactores conocidos no permiten obtener un tipo de vapor que sea independiente de la temperatura de la placa ajustada, mediante el termostato del sistema de planchado.

Este tipo de vapor, que es dependiente de la temperatura de la placa, aunque estï adaptado para planchar muchos tipos de tejido no es adecuado, sin embargo, para planchar tejidos particularmente delicados, tales como tejidos sintïticos o de seda, o particularmente resistentes, tales como algodïn o lino.

En este contexto, la tarea tïcnica de la presente invenciïn es proponer un sistema de planchado libre del 55 inconveniente citado.

Concretamente, el objeto de la presente invenciïn es proponer un sistema de planchado que se caracterice por una mayor flexibilidad con relaciïn al tipo de tejido que va a ser planchado.

El documento WO 2004/085732 A divulga un sistema de planchado que tiene las caracterïsticas del preïmbulo de la reivindicaciïn 1.

De acuerdo con la presente invenciïn, la tarea tïcnica y los objetos descritos se consiguen mediante un sistema de planchado que comprende las caracterïsticas tïcnicas establecidas en una o mïs de las reivindicaciones adjuntas.

Caracterïsticas y ventajas adicionales de la presente invenciïn se entenderïn mïs claramente de la descripciïn indicativa, y por lo tanto no limitativa, de un modo de realizaciïn preferido, aunque no exclusivo, del sistema de planchado, como se ilustra en los dibujos adjuntos, en los cuales:

- la figura 1 ilustra una vista en perspectiva de un sistema de planchado de acuerdo con la presente invenciïn con 5 algunos detalles eliminados con el fin de evidenciar mejor otros;

- la figura 2 ilustra una vista en despiece del sistema de planchado de la figura 1,

- la figura 3 ilustra un primer componente del sistema de planchado de la figura 1 en una primera vista en planta; 10

- la figura 4 ilustra el primer componente de la figura 3 en una segunda vista en planta;

- la figura 5 ilustra una vista lateral en secciïn de un segundo componente del sistema de planchado de la figura 1; 15 - la figura 6 ilustra una vista en perspectiva de un tercer componente del sistema de planchado de la figura 1;

- la figura 7 ilustra una vista en perspectiva de un detalle del primer componente de las figuras 3 y 4; y

- la figura 8 ilustra una vista en secciïn de un detalle de la figura 7.

Con referencia a las figuras adjuntas, un sistema de planchado de acuerdo con la presente invenciïn se indica generalmente por 1.

El sistema de planchado 1 comprende un hervidor 2, necesario para producir vapor de agua, que extrae el agua 25 necesaria de un tanque (no mostrado) integrado en el hervidor 2 y accesible a travïs de un tapïn 3.

El sistema de planchado 1 comprende ademïs una placa de planchado 4 conectada con el hervidor 2 para dispensar el vapor producido.

En el modo de realizaciïn descrito, el hervidor 2 y la placa 4 son separables y distintos. Una manguera 5 especial conecta el hervidor 2 con la placa 4 para llevar el vapor producido hasta esta ïltima.

Sin embargo, se apreciarï que la presente invenciïn encuentra una aplicaciïn ventajosa asimismo en relaciïn con aquellos sistemas de planchado en los cuales el hervidor 2 estï integrado en la placa 4.

La placa 4 comprende un cuerpo principal 6 que se fabrica, a modo de ejemplo, por fundido, y una tapa 7 que puede solapar con el cuerpo principal 6.

La placa 4 comprende ademïs una pared inferior 8 que tiene una superficie exterior 8a que define una superficie de 40 planchado 9 de la placa 4.

La pared inferior 8 de la placa 4 tiene una planta esencialmente en forma de triïngulo isïsceles con lados principales que son redondeados y confluyen en un vïrtice 10 dispuesto en una porciïn delantera 4a de la placa 4.

Un lado menor se opone relativamente al citado vïrtice 10 y estï dispuesto en una porciïn trasera 4b de la placa 4.

Ademïs, la placa 4 comprende dos paredes laterales 11 conectadas con la pared inferior 8 y convergentes ademïs en el vïrtice 10 de la pared inferior 8. Una pared trasera 12 estï conectada con las paredes laterales 11 y con la pared inferior 8 en la porciïn trasera 4b de la placa 8.

La pared inferior 8, las paredes laterales 11, y la pared trasera 12 estïn formadas en el cuerpo principal 6 de la placa 4.

La placa 4 comprende ademïs una resistencia 13 dispuesta dentro de la placa 4. Concretamente, la resistencia 13

estï dispuesta simïtricamente en la pared inferior 8 con relaciïn a un plano intermedio “P” de la placa 4. Todavïa mïs concretamente, en el modo de realizaciïn descrito, la resistencia 13 se extiende sobre la pared inferior 8 de la placa 4 a lo largo de una trayectoria esencialmente en forma de U.

Conectores elïctricos 14 adecuados permiten la alimentaciïn elïctrica de la resistencia 13. En mayor detalle, los 60 conectores elïctricos 14 citados estïn dispuestos en los extremos libres de la resistencia 13 en la porciïn trasera 4b de la placa 4.

La alimentaciïn llega hasta la placa 4 gracias a un cable elïctrico 15 asociado con la manguera 5.

La resistencia 13 calienta la placa 4 de acuerdo con una temperatura predeterminada seleccionada por el usuario.

Medios de control adecuados permiten seleccionar y mantener dicha temperatura predeterminada. A modo de ejemplo, los medios de control comprenden un termostato (no mostrado) .

En el modo de realizaciïn descrito, la placa 4 estï provista de un mango 16 para... [Seguir leyendo]

1. Un sistema de planchado que comprende un hervidor (2) para la producciïn de vapor, una placa (4) conectada con dicho hervidor (2) para dispensar dicho vapor, una resistencia (13) para calentar dicha placa (4) , comprendiendo dicha placa (4) una pared inferior (8) que define una superficie de planchado (9) ; comprendiendo ademïs dicha placa (4) primeros medios de dispensaciïn (M1) que estïn conectados con dicho hervidor (2) para dispensar un primer vapor a travïs de dicha superficie de planchado (9) ; en el que:

dicha placa (4) comprende ademïs segundos medios de dispensaciïn de vapor (M2) , que son diferentes de dichos primeros medios de dispensaciïn (M1) , conectados con dicho hervidor (2) para dispensar un segundo vapor que tiene caracterïsticas fïsicas predeterminadas diferentes de dicho primer vapor, siendo operables selectivamente dichos primeros (M1) y segundos (M2) medios de dispensaciïn, y comprendiendo dichos primeros medios de dispensaciïn de vapor (M1) una cïmara de sobrecalentamiento (19) que estï conectada con dicho hervidor (2) para aumentar la temperatura del vapor producido y dispensar dicho primer vapor, y

dicha cïmara de sobrecalentamiento (19) se obtiene en dicha resistencia y en dicha placa (4) , comprendiendo dicha cïmara de sobrecalentamiento (19) una pluralidad de paredes de particiïn (22) que definen una trayectoria en forma de laberinto para dicho vapor;

caracterizado porque dichos segundos medios de dispensaciïn (M2) comprenden una cïmara de dispensaciïn (25) de dicho segundo vapor y una cïmara de expansiïn (24) conectada con dicho hervidor (2) y en comunicaciïn fluida con dicha cïmara de dispensaciïn (25) para reducir la temperatura y presiïn del vapor dispensado.

2. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn 1, caracterizado porque comprende ademïs terceros 25 medios de dispensaciïn de vapor (M3) para dispensar un tercer vapor a travïs de dicha placa (4) .

3. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn 1, caracterizado porque dichos primeros medios de dispensaciïn (M1) comprenden una pluralidad de boquillas de dispensaciïn (23) obtenidas a travïs de dicha pared inferior (8) ; estando dichas boquillas (23) en comunicaciïn fluida con dicha cïmara de sobrecalentamiento (19) .

4. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn 3, caracterizado porque dicha cïmara de sobrecalentamiento (19) comprende una porciïn terminal de dispensaciïn (19a) , conectada directamente con dichas boquillas (23) .

5. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn 3 o 4, caracterizado porque dichas boquillas (23) tienen un diïmetro entre 1, 5 y 3 mm, preferiblemente entre 2 y 2, 5 mm.

6. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn 1, caracterizado porque dicha cïmara de expansiïn (24) estï situada por fuera de dicha placa (4) .

7. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn 6, caracterizado porque dicha cïmara de expansiïn (24) estï situada por encima de dicha placa (4) .

8. El sistema de planchado de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, caracterizado porque dicha

cïmara de expansiïn (24) estï conectada directamente con dicha cïmara de dispensaciïn (25) a travïs de un orificio de paso (29) .

9. El sistema de planchado de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8, caracterizado porque dichos segundos medios de dispensaciïn (M2) comprenden ademïs una precïmara (31) , dispuesta dentro del dicha placa (4) , estando conectada dicha precïmara (31) con dicho hervidor (2) y en comunicaciïn fluida con dicha cïmara de expansiïn (24) para evitar la entrada de una porciïn de agua en dicha cïmara de expansiïn (24) .

10. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn 9, caracterizado porque dicha precïmara (31) se

obtiene en una porciïn trasera (4b) de dicha placa (4) . 55

11. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn 9 o 10, caracterizado porque dicha precïmara (31) estï conectada directamente con dicha cïmara de expansiïn (24) mediante un tubo de conexiïn (39) .

12. El sistema de planchado de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque dichos orificios (26) tienen un diïmetro entre 2 y 3, 5 mm, preferiblemente entre 2, 5 y 3 mm.

13. El sistema de planchado de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 2 a 12, caracterizado porque dichos terceros medios de dispensaciïn de vapor (M3) comprenden al menos una primera pluralidad de conductos de dispensaciïn de vapor (39) , estando caracterizado dicho sistema de planchado porque comprende ademïs al

menos una primera pluralidad de conductos de dispensaciïn de vapor (39) dispuestos en al menos una pared lateral

(11) de dicha placa (4) .

14. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn anterior, caracterizado porque comprende ademïs al menos una segunda pluralidad de conductos de dispensaciïn de vapor (39) , estando dispuestas dichas primera y segunda pluralidad de conductos de dispensaciïn a lo largo de dos filas distintas obtenidas en cada pared lateral

(11) de dicha placa (4) .

15. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn 13 o 14, caracterizado porque dichos conductos de dispensaciïn (39) tienen ejes de desarrollo (A) respectivos inclinados con relaciïn a dicha superficie de planchado (9) ; estando inclinados dichos ejes de desarrollo (A) relativamente a dicha superficie de planchado (9) en un ïngulo entre 25ï y 55ï, preferiblemente entre 35ï y 45ï.

16. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn 13, 14 o 15, caracterizado porque dichos conductos de dispensaciïn (39) tienen ejes de desarrollo (A) respectivos dispuestos paralelamente entre sï; siendo dichos ejes de desarrollo (A) paralelos a un plano intermedio (P) que es perpendicular a dicha placa (4) .

17. El sistema de planchado de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 13 a 16, caracterizado porque dichos conductos de dispensaciïn (39) tienen ejes de desarrollo (A) respectivos inclinados de tal modo que dispensan el vapor hacia la parte delantera de la placa.

18. El sistema de planchado de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 13 a 17, caracterizado porque dichos conductos de dispensaciïn (39) tienen secciones de salida (39a) respectivas dispuestas en un nivel elevado con relaciïn a dicha superficie de planchado (9) .

19. El sistema de planchado de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 13 a 18, caracterizado porque dicha placa (4) tiene cavidades (40) obtenidas en dichas paredes laterales (11) respectivas; siendo obtenidos dichos conductos de dispensaciïn (39) en dichas cavidades (40) .

20. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn anterior, caracterizado porque cada cavidad (40) tiene una porciïn superficial (40a) ; teniendo dichos conductos de dispensaciïn (39) secciones de salida (39a) respectivas 30 que descansan sobre dicha porciïn superficial (40a) .

21. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn anterior, caracterizado porque cada porciïn superficial (40a) es esencialmente paralela a dicha superficie de planchado (9) .

22. El sistema de planchado de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 13 a 21, caracterizado porque comprende al menos una cïmara de vapor lateral (41) para recoger y dispensar dicho vapor, obtenido en dicha placa (4) ; comprendiendo dicha cïmara de vapor lateral (41) una porciïn de recogida (41a) , y una porciïn de dispensaciïn (41b) conectada con dicha porciïn de recogida (41a) y en comunicaciïn fluida directa con dichos conductos de dispensaciïn (39) .

23. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn anterior, caracterizado porque comprende una pareja de dichas cïmaras de vapor laterales (41) , cada una dispuesta en la proximidad de dichas paredes laterales (11) .

24. El sistema de planchado de acuerdo con la reivindicaciïn 22 o 23, caracterizado porque cada cïmara de vapor

lateral (41) comprende un tabique (43) para dividir parcialmente dicha porciïn de recogida (41a) respecto a dicha porciïn de dispensaciïn (41b) ; desarrollïndose dicho tabique (43) desde dicha pared inferior (8) para reducir el paso de agua lïquida desde dicha porciïn de recogida (41a) hasta dicha porciïn de dispensaciïn (41b) .

25. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicaciïn 22 a 24, caracterizado porque dichas cïmaras 50 de vapor laterales (41) estïn en comunicaciïn fluida con dicho hervidor (2) a travïs de un conducto de conexiïn (44) .

26. El sistema de planchado de acuerdo con cualquier reivindicaciïn anterior, caracterizado porque comprende ademïs un deflector (46) para operar al menos dichos primeros (M1) y segundos (M2) medios de dispensaciïn de 55 vapor; comprendiendo dicho deflector (43) un conducto de entrada (47) que estï conectado con dicho hervidor (2) y al menos un primer (48) y un segundo (49) conducto de salida, que estïn conectados respectivamente con dichos primeros (M1) y segundos (M2) medios de dispensaciïn de vapor.

27. El sistema de planchado de acuerdo con las reivindicaciones 2 y 26, caracterizado porque dicho deflector (46)

comprende ademïs un tercer conducto de salida (50) conectado con dichos terceros medios de dispensaciïn de vapor (M3) .