7 inventos, patentes y modelos de YAMADA, KENJI

  1. 1.-

    Método de laminación y aparato de laminación para materiales metálicos laminados planos

    (07/2013)

    Un método de laminación para un material metálico laminado plano para ejecutar una laminación usando unequipo de laminación que incluye un laminador y al menos un par de rodillos de arrastre para sujetar elmaterial laminado en el lado de salida de dicho laminador, que tiene una construcción en la que o bien uno, oambos, montajes de rodillos, superior e inferior, tienen un mecanismo para soportar un rodillo de trabajo, medianterodillos de respaldo divididos en al menos tres segmentos en la dirección axial, teniendo dicho grupo derodillos de respaldo divididos, una construcción para soportar a la vez una carga en la dirección vertical y unacarga en la dirección de la laminación que actúa sobre dicho rodillo...

  2. 2.-

    METODO Y APARATO PARA FABRICAR UNA CUBIERTA

    (12/2008)
    Ver ilustración. Solicitante/s: BRIDGESTONE CORPORATION. Clasificación: B29D30/30, B29D30/06, B29C47/32, B29D30/60, B60C9/00, B29B11/10.

    Método de fabricación de cubiertas que comprende los pasos de arrollar y laminar helicoidalmente una tira de caucho sobre un mandril rígido o un tambor de formación ; aplanar bajo presión mediante un laminador aplanador un saliente de una parte escalonada producida por una parte de la tira de caucho y otra parte de la tira de caucho solapada sobre la misma; donde el paso de arrollamiento y laminación helicoidal y el paso de aplanamiento son realizados independientemente, y donde un rodillo (25A) del laminador aplanador tiene una superficie provista de moleteado.

  3. 3.-

    DERIVADO DE PROSTAGLANDINA.

    (07/2004)
    Ver ilustración. Solicitante/s: TAISHO PHARMACEUTICAL CO., LTD SATO, FUMIE. Clasificación: A61K31/557, C07C405/00.

    Un derivado de prostaglandina representado por la fórmula (I): **FORMULA** en la que X es un átomo de halógeno, n es un entero de 1 a 5, R1 es un grupo cicloalquilo de C3_10, un grupo cicloalquilo de C3_10 sustituido con un grupo alquilo de C1_4, un grupo cicloalquilalquilo de C4_13, un grupo alquilo de C5_10, un grupo alquenilo de C5_10, un grupo alquinilo de C5_10 o un grupo hidrocarburo cíclico con puente, y R2 es un átomo de hidrógeno, un grupo alquilo de C1_10 o un grupo cicloalquilo de C3_10, o una sal farmacéuticamente aceptable del mismo.

  4. 4.-

    PROCESO PARA PRODUCIR MICROESFERAS INORGANICAS Y MICROBALONES DE VIDRIO.

    (11/2000)
    Solicitante/s: ASAHI GLASS COMPANY LTD.. Clasificación: B01J2/04, B01D1/18, C03B19/10, C03C11/00.

    UN PROCEDIMIENTO DE PRODUCCION DE MICROESFERAS INORGANICAS (ESFERAS SOLIDAS O ESFERAS HUECAS) QUE COMPRENDE LAS FASES DE PULVERIZACION DE UN MATERIAL MEDIANTE PULVERIZACION HUMEDA CON UN TAMAÑO DE PARTICULA MEDIO DE COMO MAXIMO 5 {MI}M, OBTENIENDOSE UNA SUSPENSION DE UN MATERIAL EN POLVO PULVERIZADO; PULVERIZACION DE DICHA SUSPENSION PARA FORMAR GOTITAS LIQUIDAS, Y CALENTAMIENTO DE DICHAS GOTITAS PARA FUNDIR O SINTERIZAR EL MATERIAL PULVERULENTO Y OBTENER MICROESFERAS INORGANICAS. ASIMISMO, SE DESCRIBEN MICROGLOBOS DE VIDRIO DE DENSIDAD APARENTE DE ENTRE 0,1 Y 1,5 G/CM{SUP,3} Y UN TAMAÑO MEDIO DE PARTICULA ENTRE 1 Y 20 {MI}M, DONDE 80 % DE LAS PARTICULAS TIENEN UN TAMAÑO COMPRENDIDO ENTRE 1 Y 50 {MI}M.

  5. 5.-

    JUNTA DE PLACAS METALICAS CON DISPOSITIVO DE ACOPLAMIENTO.

    (05/2000)
    Solicitante/s: ISHIKAWA GASKET CO. LTD.. Clasificación: F16J15/08, F16J15/06.

    UNA GUARNICION DE LAMINADO DE METAL DE LA INVENCION SE ACOPLA CON UNA PROYECCION DE ACOPLAMIENTO DE UNA PARTE DE MOTOR PARA SITUAR DE MANERA INMOVIL LA GUARNICION SOBRE LA PARTE DE MOTOR. LA GUARNICION ESTA BASICAMENTE FORMADA POR UNA PRIMERA Y UNA SEGUNDA PLACA DE METAL QUE ESTAN LAMINADAS JUNTAS. LA PRIMERA PLACA COMPRENDE AL MENOS UN PRIMER ORIFICIOS Y AL MENOS UNA SEGUNDA PARTE DE ACOPLAMIENTO QUE SE EXTIENDE DENTRO DEL PRIMER ORIFICIO. LA SEGUNDA PLACA ESTA SITUADA POR ENCIMA Y CONECTADA A LA PRIMERA PLACA. LA SEGUNDA PLACA COMPRENDE AL MENOS UN SEGUNDO ORIFICIO Y AL MENOS UNA SEGUNDA PARTE DE ACOPLAMIENTO QUE SE EXTIENDE DENTRO DEL SEGUNDO ORIFICIO. CUANDO LA GUARNICION ES SOLICITADA CONTRA LA PARTE DE MOTOR, LA PRIMERA Y LA SEGUNDA PARTE DE ACOPLAMIENTO VERTICALMENTE SEPARADAS DEFORMAN Y ACOPLAN LA PROYECCION DE ACOPLAMIENTO PARA ASI EVITAR QUE LA GUARNICION SE DESACOPLE FACILMENTE DE LA PROYECCION DE ACOPLAMIENTO.

  6. 6.-

    UN DERIVADO DE TIOFENO Y PROCEDIMIENTO PARA OBTENERLO.

    (11/1993)
    Solicitante/s: TANABE SEIYAKU CO., LTD.. Clasificación: C07D409/12, A61K31/38, C07D333/20.

    SE DESCRIBE UN DERIVADO DE TIOFENO DE FORMULA (I), DONDE R1, R2 Y R3 SON UN GRUO ALQUENILO INFERIOR; EL ANILLO A ES UN GRUPO FENILO SUSTITUIDO O SIN SUSTITUIR; X ES -OCO-, -O- O -S-; M Y N SON 0 O 1; Y P Y Q SON 0, 1 O 2, O UNA DE SUS SALES, Y PROCEDIMIENTO PARA OBTENERLO. EL DERIVADO DE TIOFENO (I) ES UTIL COMO REGULADOR DE LA MOTILIDAD DEL TRACTO INTESTINAL. TAMBIEN SE DESCRIBEN METODOS PARA PREPARAR LOS COMPUESTOS NUEVOS, Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LOS CONTIENEN.

  7. 7.-

    UN DERIVADO DE TIOFENO Y UN PROCEDIMIENTO PARA SU OBTENCION.

    (06/1993)
    Solicitante/s: TANABE SEIYAKU CO., LTD.. Clasificación: A61K31/38, C07D333/20.

    SE DESCRIBE UN DERIVADO DE TIOFENO DE FORMULA (I), DONDE R1, R2 Y R3 SON UN GRUPO ALQUILO INFERIOR; EL ANILLO A ES UN GRUPO FENILO SUSTITUIDO O SIN SUSTITUIR; P ES UN ENTERO DE 1-3; O UNA DE SUS SALES, Y PROCEDIMIENTO PARA OBTENERLO. EL DERIVADO DE TIOFENO (I) ES UTIL COMO REGULADOR DE LA MOTILIDAD DEL TRACTO INTESTINAL.