7 inventos, patentes y modelos de WEIDMANN, ULRICH

  1. 1.-

    Composición de resina epoxídica

    (06/2013)

    Material compuesto de fibras impregnado con una matriz de resina epoxídica libre de disolventes, curable, que comprende (a) una resina epoxídica líquida o una mezcla líquida de resinas epoxídicas, (b) un compuesto que puede obtenerse haciendo reaccionar un benzaldehído de fórmula I en la que R1 es hidrógeno, hidroxilo, alquilo C1-C5 o alcoxilo C1-C5 con una amina primaria, y como agente de curado una mezcla compuesta por (c) una monoamina primaria y/o diamina disecundaria alifática o cicloalifática y (d) una amina terciaria de curado catalítico, conteniendo la matriz de resina epoxídica curable de desde 0,15 hasta 0,8 equivalentes de hidrógeno de amina del componente de amina (c) y de desde 0,01 hasta 0,1 moles de la amina...

  2. 2.-

    COMPOSICION DE TENACIDAD A LA FRACTURA AUMENTADA

    (03/2010)

    Composición de resina epoxídica que comprende: (a) una resina epoxídica líquida a temperatura ambiente que tiene en promedio más de un grupo 1,2-epóxido en la molécula; (b) un sistema de endurecedor-acelerador que consiste esencialmente en un endurecedor de tipo polioxialquilenamina; y (c) un modificador de impacto que es un copolímero de bloque que tiene al menos un bloque compuesto predominantemente de metacrilato de metilo

  3. 3.-

    SISTEMAS DE ACELERADOR PARA EL CURADO A BAJA TEMPERATURA DE COMPUESTOS DE RESINAS EPOXIDICAS.

    (05/2007)

    Composición que comprende como componente A) un compuesto de 2-naftol sustituido con 1-imidazolilmetilo de la fórmula general (I) en la que R1, R2 y R3 son cada uno independientemente entre sí H; alquilo C1-17; cicloalquilo C3-12, opcionalmente sustituido por grupos alquilo C1-4; cicloalquil-C4-20-alquilo , opcionalmente sustituido por grupos alquilo C1-4; arilo C6-10, opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo C1-4; fenilalquilo C7-15, opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo C1-4; alquenilo C3-17; alquinilo C3-12; o acilo C3-12 aromático o alifático; R4, R5, R6, R7, R8, y R9 son cada uno independientemente entre sí H; alquilo C1-12; cicloalquilo C3-12, opcionalmente sustituido por grupos alquilo C1-4;...

  4. 4.-

    2-NAFTOL 1-IMIDAZOLILMETIL-SUSTITUIDOS Y SU USO COMO ACELERADORES PARA CURACION A BAJA TEMPERATURA.

    (12/2006)

    Compuestos de fórmulas generales (I) y (II): en las que R1, R2 y R3 son cada una independientemente de la otra H; alquilo C1-17; cicloalquilo C3-12, opcionalmente sustituido por grupos alquilo C1-4; cicloalquil-alquilo C4-20, opcionalmente sustituido por grupos alquilo C1-4; arilo C6-10, opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo C1-4; -CN, Hal, OH, o alcoxilo C1-10; fenilalquilo C7-15, opcionalmente sustituido por 1-3 grupos alquilo C1-4; alquenilo C3-12; alquinilo C3-12; o acilo C3-12 aromático o alifático; R4, R5, R6, R7, R8 y R9 son cada una independientemente de la otra H; alquilo C1-17; cicloalquilo C3-12, opcionalmente sustituido por grupos alquilo C1-4; cicloalquil-alquilo C4-20, opcionalmente sustituido...

  5. 5.-

    AGENTES INCOMBUSTIBLES.

    (06/2005)
    Ver ilustración. Solicitante/s: VANTICO AG. Clasificación: C08K5/00, C07F9/6571, C07D265/14, C07D265/20.

    Un compuesto de **fórmula**, en donde R1 es alquilo C1-C18; cicloalquilo C5-C12 que está no sustituido o sustituido por uno o mas grupos alquilo C1-C8 o grupos alcoxilo C1-C6; arilo C5-C22 que está no sustituido o sustituido por uno o mas grupos alquilo C1-C6 o grupos alcoxilo C1-C6; o aralquilo C7-C30 que está no sustituido o sustituido por uno o mas grupos alquilo C1-C6 o grupos alcoxilo C1-C6, y los radicales R2 a R13 son cada uno, independientemente de los otros, hidrógeno; -NO2; dialquilamino; alquiltio; alquilsulfonilo; halógeno, alquilo C1-C18; alcoxilo C1-C18; alcoxialquilo C1-C18; cicloalquilo C5-C12 que está no sustituido o sustituido por uno o mas grupos alquilo C1-C6 o grupos alcoxilo C1-C6; arilo C5-C22 que está no sustituido o sustituido por uno o mas grupos alquilo C1-C5 o grupos alcoxilo C1-C6; o aralquilo C7-C3 que está no sustituido o sustituido por uno o mas grupos alquilo C1-C6 o grupos alcoxilo C1-C6.

  6. 6.-

    COMPOSICIONES RETICULABLES DE RESINA EXPOXI.

    (07/2003)
    Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08L63/00.

    LAS COMPOSICIONES DE RESINAS EPOXI QUE CONTIENEN (A) UNA RESINA EPOXI LIQUIDA POR DEBAJO DE 160 (GRADOS) C CON MAS DE UN GRUPO EPOXIDO POR TERMINO MEDIO POR MOLECULA (B) UN ACIDO DI O POLICARBOXILICO O SU ANHIDRIDO, (C) ENTRE 0,1 Y 15 % EN PESO REFERIDO A LA CANTIDAD DE LOS COMPONENTES (A) Y (B) DE UNA CERA CON UN PUNTO DE GOTEO DE ENTRE 80 Y 90 (GRADOS) C Y OPCIONALMENTE (D) LOS AGENTES DE RELLENO HABITUALES O ADITIVOS PARA RESINAS EPOXI PARA PIEZAS COLADAS, SE UTILIZAN PREFERENTEMENTE COMO MASAS DE RESINA EPOXI PARA LA FABRICACION DE MATERIAL PARA MOLDEADO SEGUN EL PROCEDIMIENTO DE GELATINIZACION POR PRESION.

  7. 7.-

    MASAS DE COLADA ENDURECIBLES, A BASE DE RESINA EPOXI, QUE CONTIENEN UN PROMOTOR DE TENACIDAD DEL TIPO NUCLEO/ENVOLTURA.

    (01/2001)
    Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: C08K3/22, C08L63/00, C08L51/00, C08K9/06.

    MASAS FLUIDAS DE EPOXIRRESINA CONTENIENDO A) UNA EPOXIRRESINA AROMATICA O CICLOALIFATICA CON MAS DE UN GRUPO EPOXI 1,2 POR TERMINO MEDIO EN LA MOLECULA, B) UN ENDURECEDOR PARA LA EPOXIRESINA EN CANTIDAD SUFICIENTE PARA QUE SE ENDUREZCA, C) UN INTERMEDIARIO DE VISCOSIDAD, Y D) U OXIDO DE ALUMINIO ESTRATIFICADO CON UN SILANO DE FORMULA (I) R{SUB,4.(N+1)}-SI(OR{SUP ,'){SUB,N+1}, DONDE R SIGNIFICA ALQUILO DE 1 A 4 ATOMOS DE C, UN GRUPO FENILO, GLICIDILOXIPROPILO, MERCAPTOPROPILO O AMINOPROPILO, R{SUP,'} SIGNIFICA UN ALQUILO CON 1 A 12 ATOMOS DE C, Y N ES CERO O UN NUMERO DE 1 A 3. ESTAS MASAS FLUIDAS SON MUY APROPIADAS Y DE MODO VENTAJOSO PARA RECUBRIR O TAPAR PIEZAS ELECTRICAS O ELECTRONICAS.