7 inventos, patentes y modelos de Van Stralen,Mattheus Jacobus Nicolaas

  1. 1.-

    Proceso de deposición en fase de vapor interna

    (06/2014)

    Procedimiento para fabricar una preforma primaria para fibras ópticas utilizando un proceso de deposición en fase de vapor interna que comprende las etapas de: i) proporcionar un tubo de sustrato de vidrio hueco que tiene un lateral de suministro y un lateral de descarga, ii) rodear al menos parte del tubo de sustrato de vidrio hueco mediante un horno , iii) suministrar un flujo de gas, dopado o sin dopar, de gases de formación de vidrio al interior del tubo de sustrato de vidrio hueco a través del lateral de suministro del mismo, iv) creación de una zona reactiva con condiciones tales que la deposición de...

  2. 2.-

    Procedimiento y dispositivo para fabricar una preforma primaria para fibras ópticas

    (04/2014)

    Procedimiento para fabricar una preforma primaria para fibras ópticas utilizando un proceso de deposición interna en fase de vapor, que comprende las etapas de: i) proporcionar un tubo de sustrato de vidrio hueco que tiene un lateral de suministro y un lateral de descarga , ii) rodear, al menos, una parte del tubo de sustrato de vidrio hueco mediante un horno , iii) suministrar gases de formación de vidrio en el interior del tubo de sustrato de vidrio hueco a través de su lateral de suministro , iv) crear una zona de reacción con condiciones tales que la deposición...

  3. 3.-

    Proceso de deposición en fase de vapor interna

    (10/2013)

    Procedimiento para la fabricación de una preforma primaria para fibras ópticas utilizando un proceso de deposición en fase de vapor interna, que comprende las etapas de: i) proporcionar un tubo de sustrato de vidrio hueco que tiene un lado de suministro y un lado de descarga , ii) rodear mediante un horno, al menos, una parte del tubo de sustrato de vidrio hueco , iii) suministrar de gases de formación de vidrio dopados o sin dopar en el interior del tubo de sustrato de vidrio hueco a través del lado de suministro del mismo, iv) crear una zona de reacción en la que son creadas condiciones de tal manera que la deposición de vidrio se llevarán a cabo en el interior del tubo de vidrio hueco y v) desplazar...

  4. 4.-

    Aparato y procedimiento para llevar a cabo un proceso de deposición química en fase de vapor asistida por plasma (PCVD)

    (08/2012)

    Aparato para llevar a cabo un proceso de deposición PCVD, donde una o más capa de vidrio dopado o sindopar son depositadas en el interior de un tubo de substrato de vidrio teniendo un lado de admisión y un ladode descarga , cuyo aparato comprende un aplicador que tiene una pared interior y una pared exterior y unaguía de microondas para guiar microondas, cuya guía de microondas se abre en el aplicador , con elaplicador extendiéndose sobre un eje cilíndrico y estando provisto con un canal adyacente a la cara interior,a través del cual las microondas...

  5. 5.-

    Método para fabricar una preforma óptica

    (07/2012)

    Método para fabricar una preforma óptica mediante la realización de una o más reacciones de deposición químicaen fase de vapor en un tubo de substrato, dicho método comprende las etapas siguientes: i) suministrar uno o más precursores de formación de vidrio dopados o sin dopar al tubo de substrato, y ii) llevar a cabo una reacción entre los reactivos suministrados en la etapa i) en el tubo de substrato a fin de formaruna o más capas de vidrio en el interior del tubo de substrato, cuya etapa ii) comprende la creación únicamente dezona de plasma pulsado en el interior de tubo de substrato, caracterizado porque la zona de plasma formada en el interior del tubo de substrato esta realizada...

  6. 6.-

    APARATO PARA LLEVAR A CABO UNA DEPOSICIÓN QUÍMICA EN FASE DE VAPOR POR PLASMA Y PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACIÓN DE UNA PREFORMA ÓPTICA

    (03/2012)

    Aparato para llevar a cabo un proceso de deposición química en fase de vapor por plasma, mediante la cual se depositan una o más capas de sílice, dopado o sin dopar, en el interior de un tubo de sustrato de vidrio hueco y alargado, incluyendo dicho aparato un resonador con una cavidad resonante con una forma esencialmente cilíndrica, dispuesta simétricamente alrededor de un eje de cilindro , situándose el tubo de sustrato a lo largo de dicho eje, teniendo dicha cavidad resonante una forma sustancialmente anular, con una pared interior cilíndrica y una pared exterior cilíndrica , incluyendo...

  7. 7.-

    HORNO PARA LLEVAR A CABO UN PROCESO DE DEPOSICIÓN QUÍMICA EN FASE DE VAPOR POR PLASMA (PCVD) Y MÉTODO ASOCIADO

    (12/2011)

    Horno para llevar a cabo un proceso de deposición química en fase de vapor por plasma (PCVD), caracterizado porque dicho horno está equipado con una carcasa metálica para impedir las fugas de energía de alta frecuencia al entorno, en el que una hendidura del horno a través de la cual se desplaza la guía de ondas está cubierta por dicha carcasa metálica