8 inventos, patentes y modelos de TAKAYA, TAKAO

  1. 1.-

    COMPUESTOS DE CEFEMA DE ACTIVIDAD ANTIMICROBIANA.

    (12/1997)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/48.

    EL INVENTO SE REFIERE A UN COMPUESTO DE FORMULA (I) Y SU SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE, A LOS PROCESOS DE PREPARACION DEL MISMO, A UNA COMPOSICION FARMACEUTICA QUE CONTIENE EL MISMO Y A UN METODO PARA PREVENIR Y/O TRATAR LAS ENFERMEDADES INFECCIOSAS EN LOS SERES HUMANOS Y EN LOS ANIMALES. EN LA CITADA FORMULA (I), R1 ES AMINO O AMINO PROTEGIDO, R2 ES ETILO, PROPILO, CICLO(INFERIOR)ALQUILO , 1-METILPROPENILO O 2-METILPROPENILO, R3 ES HIDROXI(INFERIOR)ALQUILO O HIDROXI(INFERIOR)ALQUILO PROTEGIDO Y R4 ES AMINIO O AMINO PROTEGIDO.

  2. 2.-

    NUEVO ACIDO CRISTALINO 7 - (2 - (2 - AMINOTIAZOL - 4 - IL ) - 2 HIDROXIAMINOACETAMIDO) - 3 -VINIL - 3 - CEFEM - 4 - CARBOXILICO ( SYN ISOMERO)

    (08/1995)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D501/22, A61K31/545.

    ACIDO CRISTALINO 7 - (2 - (2 - AMINOTIAZOL - 4 - IL) - 2 HIDROXIAMINOACETAMIDO) - 3 - VINIL - 3 - CEFEM - 4 - CARBOXILICO (SYN ISOMERO) QUE ES OBTENIDO ACIDULANDO UNA SOLUCION CONTENIENDO ACIDO 7 - (2 - (2 AMINOTIAZOL - 4 - IL) - 2 - HIDROXIAMINOACETAMIDO - 3 - VINIL - 3 - CEFEM - 4 - CARBOXILICO (SYN ISOMERO) A TEMPERATURA AMBIENTE O TEMPLADA. TAL COMPUESTO CRISTALINO MUESTRA UN DIBUJO CARACTERISTICO EN LA DIFRACCION DE LOS RAYOS X. EL INVENTO COMPRENDE TAMBIEN PROCESOS PARA PREPARAR TAL COMPUESTO CRISTALINO Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS CONTENIENDOLO COMO INGREDIENTE ACTIVO.

  3. 3.-

    NUEVOS COMPUESTOS CEFEM PARA SU PREPARACION Y PREPARADOS FARMACEUTICOS QUE LOS CONTIENEN.

    (12/1994)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/18, C07D501/46.

    LA INVENCION SE REFIERE A UN COMPUETSO DE FORMULA (I) EN LA QUE R1 Y R4 SON CADA UNO UN GRUPO AMINO O AMINO PROTEGIDO; R2 ES UN GRUPO CARBOXI-ALQUILO DE CADENA CORTA QUE PUEDE ESTAR PROTEGIDO; R3 ES ALQUILO O HIDROXI-ALQUILO DE CADENA CORTA QUE PUEDE ESTAR PROTEGIDO Y R5 ES HIDROGENO O ALQUILO DE CADENA CORTA. TAMBIEN SE REFIERE A UNA SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE DEL COMPUESTO I, A PROCESOS PARA SU PREPARACION Y A PREPARACIONES FARMACEUTICAS QUE LO CONTIENEN COMO INGREDIENTE ACTIVO. ASIMISMO SE DESCRIBEN COMPUESTOS INTERMEDIOS DE FORMULA (II) Y SU PREPARACION.

  4. 4.-

    NUEVOS COMPONENTES CEFEM Y PROCESO PARA LA PREPARACION DE ELLO

    (12/1994)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/46.

    UN COMPONENTE DE LA FORMULA (I) EN DONDE R1 ES AMINO O AMINO PROTEGIDO, R2 ES ALKIL BAJO O ALKENIL BAJO, R3 ES ALKIL BAJO, HIDROXI (BAJO) ALKIL O HIDROXI (BAJO) ALKIL PROTEGIDO; R4 ES AMINO, AMINO PROTEGIDO, ALKILAMINO BAJO, ALKILAMINO BAJO PROTEGIDO, CARBOXI (BAJO) ALKILAMINO. N - [ALKIL (BAJO) CARBOXI PROTEGIDO] AMINO Y R7 ES HIDROGENO O ALKIL BAJO, Y UNA SAL ACEPTABLE FARMACEUTICAMENTE DE ELLO, PROCESOS PARA SU PREPARACION Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LAS COMPRENDEN COMO UN INGREDIENTE ACIVO EN MEZCLAS CON PORTADORES ACEPTABLES FARMACEUTICAMENTE.

  5. 5.-

    NUEVOS COMPUESTOS HETEROCICLICOS QUE CONTIENEN N, PROCESOS PARA LA PREPARACION DE LOS MISMOS Y COMPOSICION QUE LOS CONTIENE.

    (07/1993)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/44, C07D471/04, A61K31/50, C07D213/30, C07D213/82, C07D213/80, C07D213/26, C07D213/36, C07D237/24, C07D237/08.

    UN COMPUESTO HETEROCICLICO QUE CONTIENE N DE LA FORMULA: EN DONDE R1 ES ALQUILO INFERIOR OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR HIDROXI, HALOGENO O UN GRUPO HETEROCICLICO, CARBOXI, CARBOXI ESTERIFICADO, CARBAMILO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR ALQUILO (INFERIOR) HETEROCICLICO O ALQUILAMINO(INFERIOR)ALQUILO INFERIOR, CARBONILO HETEROCICLICO QUE CONTIENE N OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR ALQUILO INFERIOR O UREIDO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR ALQUILAMINO(INFERIOR)ALQUILO INFERIOR Y R3 ES HIDROGENO O HALOGENO; R2 ES FENILO SUSTITUIDO POR NITRO Y X ES = N O EN QUE R4 ES ALQUILO INFERIOR O HALOALQUILO (INFERIOR) O JUNTOS CON R1 FORMAN UN GRUPO HETEROCICLICO QUE CONTIENE N OPCIONALMENTE SUSTITUIDO POR OXO O ALQUILAMINO(INFERIOR)ALQUILO INFERIOR; O R2 ES ALQUILO INFERIOR Y X ES EN QUE R4 ES FENILO SUSTITUIDO POR NITRO; Y UNA SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE DEL MISMO, PROCESOS PARA LA PREPARACION DEL MISMO Y UNA COMPOSICION QUE LO CONTIENE.

  6. 6.-

    PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR UN COMPUESTO DE CEFEM.

    (03/1989)
    Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D417/14.

    EL PROCEDIMIENTO DESCRITO PERMITE PRODUCIR COMPUESTOS DE FORMULAHACIENDO REACCIONAR UN COMPUESTO DE FORMULA:CON UN COMPUESTO DE FORMULAEN DONDE R1 ES UN GRUPO AMINO PROTEGIDO O NO, RY ES UN GRUPO CARBOXI PROTEGIDO O NO, R3 ES HIDROGENO O UN GRUPO PROTECTOR DE HIDROXI, E Y ES UN GRUPO REEMPLAZABLE PORLLEVANDOSE A CABO LA REACCION EN CONDICIONES DE TEMPERATURA AMBIENTE A CALENTAMIENTO, USUALMENTE EN UN DISOLVENTE CONVENCIONAL TAL COMO AGUA, ACETONA, CLOROFORMO, DICLOROMETANO O CUALQUIER OTRO DISOLVENTE ORGANICO QUE NO INFLUYA ADVERSAMENTE SOBRE LA REACCION. LOS COMPUESTOS OBTENIDOS SON PARTICULARMENTE UTILES PARA EL TRATAMIENTO DE ENFERMEDADES INFECCIOSAS CAUSADAS POR MICROORGANISMOS PATOGENOS.

  7. 7.-

    PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR UN COMPUESTO DE CEFEM.

    (03/1989)
    Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D417/14.

    EL PROCEDIMIENTO DESCRITO PERMITE PRODUCIR COMPUESTOS DE FORMULAHACIENDO REACCIONAR UN COMPUESTO DE FORMULA:CON UN COMPUESTO DE FORMULAEN DONDE RY ES UN GRUPO CARBOXI PROTEGIDO O NO Y X ES UN RESIDUO DE ACIDO, LLEVANDOSE A CABO LA REACCION EN CONDICIONES DE ENFRIAMIENTO A CALENTAMIENTO, USUALMENTE EN UN DISOLVENTE CONVENCIONAL TAL COMO AGUA, ACETATO DE ETILO, DIOXANO, DICLOROMETANO O CUALQUIER OTRO DISOLVENTE ORGANICO QUE NO INFLUYA ADVERSAMENTE SOBRE LA REACCION. LOS COMPUESTOS OBTENIDOS SON PARTICULARMENTE UTILES PARA EL TRATAMIENTO DE ENFERMEDADES INFECCIOSAS CAUSADAS POR MICROORGANISMOS PATOGENOS.

  8. 8.-

    PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE UN COMPUESTO DE CEFEM.

    (03/1988)
    Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D417/14.

    EL PROCEDIMIENTO DESCRITO PERMITE PRODUCIR COMPUESTOS DE FORMULA HACIENDO REACCIONAR UN COMPUESTO DE FORMULA: CON UN COMPUESTO DE FORMULA EN DONDE R1 ES UN GRUPO AMINO PROTEGIDO O NO, R2 ES UN GRUPO CARBOXI PROTEGIDO O NO Y R3 ES HIDROGENO O UN GRUPO PROTECTOR DE HIDROXI, LLEVANDOSE A CABO LA REACCION EN CONDICIONES DE ENFRIAMIENTO A CALENTAMIENTO, USUALMENTE EN UN DISOLVENTE CONVENCIONAL TAL COMO AGUA, ACETONA, DIOXANO, ACETONITRILO O CUALQUIER OTRO DISOLVENTE ORGANICO QUE NO INFLUYA ADVERSAMENTE SOBRE LA REACCION. LOS COMPUESTOS OBTENIDOS SON PARTICULARMENTE UTILES PARA EL TRATAMIENTO DE ENFERMEDADES INFECCIOSAS CAUSADAS POR MICROORGANISMOS PATOGENOS.