6 inventos, patentes y modelos de REBER,STEFAN

  1. 1.-

    Procedimiento y dispositivo para el revestimiento en continuo de sustratos

    (12/2015)

    Procedimiento para el revestimiento en continuo de sustratos, en el que en un dispositivo de revestimiento los sustratos son transportados a través de un espacio de deposición que está limitado por dos soportes de sustrato (1, 1') así como por un suelo y una tapa , en donde el suelo presenta un dispositivo para guiar los soportes de sustrato (1, 1'), y los sustratos son transportados sobre los soportes de sustrato (1, 1') a través del dispositivo de revestimiento, durante el transporte se realiza el revestimiento en continuo de los sustratos, y en donde la tapa está fijada a los soportes de sustrato (1, 1') y de esta manera se transporta junto con los soportes (1, 1') de sustrato mediante el dispositivo de...

  2. 2.-

    Segmento de filtro destinado a ser empleado en un filtro giratorio

    (04/2014)

    Segmento de filtro destinado a ser empleado en un filtro giratorio para filtrar líquidos, con un elemento de marco al menos parcialmente de plástico y que rodea la superficie de filtración , en el cual se incrusta al menos un material de filtro plano , que cubre la superficie de filtración, caracterizado porque la superficie de filtración no tiene puntales transversales intermedios y el material de filtro está pretensado.

  3. 3.-

    Célula solar de película delgada y procedimiento para su fabricación

    (05/2013)

    Una célula solar de película delgada con una cara frontal en la que entra la luz y una cara trasera que tiene - un sustrato de calidad no solar que tiene al menos un agujero pasante que conecta la cara frontalcon la cara trasera; - al menos una capa de base depositadaactiva de manera fotovoltaica y al menos una capa (1') deemisor formadas al menos en regiones de la cara frontal y enrolladas a través de dicho agujero pasantedesde la cara frontal hasta la cara trasera que proporciona un contacto de emisor de enrollamientopasante (EWT); y - al menos una región de contacto de emisor y al menos una región de contacto de base en la caratrasera aisladas...

  4. 4.-

    PROCEDIMIENTO PARA LA RECRISTALIZACIÓN Y EL DOPAJE SIMULTÁNEOS DE CAPAS SEMICONDUCTORAS Y SISTEMAS DE CAPAS SEMICONDUCTORAS FABRICADOS SEGÚN ESTE PROCEDIMIENTO

    (05/2011)

    Procedimiento para la fabricación de un sistema de capas semiconductoras dopadas para la electrónica o la fotovoltaica en el que en una primera etapa se fabrica una capa de base de sustrato , en una segunda etapa, sobre esta capa de base de sustrato se deposita un sistema de capas intermedias constituido por al menos una capa parcial, en el que al menos una de las capas parciales del sistema de capas intermedias se enriquece con un primer dopante en la primera concentración, en una tercera etapa, una capa absorbente...

  5. 5.-

    PROCEDIMIENTO PARA LA RECRISTALIZACIÓN DE ESTRUCTURAS DE CAPAS MEDIANTE FUSIÓN POR ZONAS Y SU USO

    (04/2011)

    Procedimiento para la recristalización de estructuras de capas mediante fusión por zonas, en el que con al menos dos fuentes térmicas se estiran zonas de fusión generadas con forma de líneas por la capa mediante un movimiento relativo de las fuentes térmicas con respecto a la capa en dirección perpendicular con respecto a las zonas de fusión con forma de líneas, estirándose las zonas de fusión simultáneamente por toda la capa con solapamiento por áreas de las zonas de fusión con zonas ya recristalizadas, de tal forma que se garantiza una recristalización sin huecos de la capa, caracterizado porque a) en una primera fase (fase de fusión), las al menos dos zonas de fusión se estiran en dirección perpendicular con respecto a las zonas de fusión...

  6. 6.-

    DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA LA PRECIPITACION CONTINUA DE UNA FASE GASEOSA A LA PRESION ATMOSFERICA, Y UTILIZACION DE ESTOS

    (10/2009)
    Ver ilustración. Solicitante/s: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FORDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.. Clasificación: C23C16/455, C23C16/54.

    Dispositivo para la precipitación continua sobre sustratos de una fase de gas a la presión atmosférica comprendiendo una cámara de reacción abierta por dos lados opuestos entre sí, a lo largo de cuyos lados abiertos se pueden transportar los sustratos, estando cerrada la cámara de reacción, presentando la cámara de reacción sendas paredes frontal y posterior con respecto al sentido de transporte de los sustratos, que están unidas entre sí a través de dos paredes laterales opuestas, caracterizado porque las paredes laterales presentan por lo menos cada una dos entradas y salidas para gases de proceso, que están dispuestas alternadas en el sentido de transporte, al menos por zonas.