6 inventos, patentes y modelos de OHWA,MASAKI

  1. 1.-

    COMPOSICIÓN DE RESINA FOTOSENSIBLE

    (03/2012)

    Una composición fotosensible que comprende, (A) un oligómero o polímero que contiene al menos un grupo de ácido carboxílico en la molécula y tiene un peso molecular de 200000 o menos; (B) al menos un compuesto fotoiniciador de fórmula I R1 es alquiloC1-C12 lineal o ramificado; R2 es alquilo C1-C4 lineal o ramificado; R3 y R4 independientemente uno de otro son alquilo C1-C8 lineal o ramificado; y (C) un compuesto monomérico, oligomérico o polimérico que tiene al menos un doble enlace olefínico.

  2. 2.-

    FOTOINICADORES DE ESTERES DE OXIMA

    (10/2004)
    Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08F2/50, C07D333/22, G03F7/031, C07C251/54, G03C9/08, C07C251/36, C07C251/52, C07C323/47.

    Fotoiniciadores de esteres de oxima, correspondientes a las fórmulas I, II, III, IV y V, en donde los radicales Ar{sub,1}, Ar{sub,2}, R{sub,1}, R{sub,2}, M{sub,1}, M{sub,2}, y M{sub,3} se corresponden con lo expresado en las reivindicaciones. La invención describe también composiciones fotopolimerizables que contienen (a) por lo menos un compuesto fotopolimerizable etilénicamente no saturado y (b) como fotoiniciador por lo menos uno de los compuestos de fórmulas I, II, III, IV, y/o V. Se refiere también a un procedimiento para la fotopolimerización de compuestos que contienen enlaces etilénicamente no saturados. Estos compuestos y sus composiciones son adecuados como fotoiniciadores, en particular, en aplicaciones en resists.

  3. 3.-

    COMPOSICION DE RESINA FOTOSENSIBLE.

    (04/2004)
    Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: G02B5/20, C08F2/50, G03F7/038, G03F7/031, C08K5/33.

    Composiciones de resinas fotosensibles. El invento se refiere a composiciones fotosensibles que contienen (A) un compuesto soluble en álcalis; (B) por lo menos un compuesto de fórmula I ó II, en donde R{sub,1}, Ar{sub,1}, X, R{sub,3}, R{sub,4}, R{sub,5} y R{sub,6} tienen el significado expuesto en las reivindicaciones y (C) un compuesto fotopolimerizable. Estas composiciones presentan un buen e inesperado rendimiento, en particular en la tecnología de los fotoresists.

  4. 4.-

    DERIVADOS DE OXIMA Y SU USO COMO ACIDOS LATENTES

    (10/2003)

    Los compuestos de la fórmula I, II y III, en donde R{sub,1} por ejemplo es hidrógeno, alquilo C{sub,1}-C{sub,12}, cicloalquilo C{sub,3}-C{sub,30}, alquenilo C{sub,2}-C{sub,12}, cicloalquenilo C{sub,4}-C{sub,8}, fenilo, el cual no se encuentra sustituido o se encuentra sustituido, naftilo, antracilo o fenantrilo, no sustituido o sustituido, radical heteroarilo el cual no se encuentra sustituido o se encuentra sustituido; en donde todos los radicales R{sub,1} a excepción del hidrógeno, pueden ser sustituidos adicionalmente...

  5. 5.-

    NUEVOS FOTOINICIADORES DE O-ACILOXIMAS.

    (06/2003)
    Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08F2/50, C07D295/12, G03F7/031, C07C323/47, C07C251/64.

    Nuevos fotoiniciadores de o-aciloximas, que responden a las fórmulas I, II, III o IV, en las que R{sub,1}, R{sub,2}, R{sub,3}, R{sub,4}, R{sub,5}, R{sub,6}, R{sub,7}, R'{sub,1}, R'{sub,4}, R'{sub,5} y R'{sub,6} tienen los significados, explicados en la reivindicación 1. La invención se refiere también a composiciones polimerizables que tiene a) por lo menos un compuesto fotopolimerizable insaturado, y b) como fotoiniciador por lo menos un compuesto de las fórmulas I, II, III y/o IV. Estos compuestos son idóneos como fotoiniciadores para la fotopolimerización de compuestos polimerizables por radicales.

  6. 6.-

    NUEVOS FOTOINICIADORES DE ALFA-AMINOACETOFENONA.

    (02/2001)
    Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA ESPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC. Clasificación: C08F2/50, C07C323/32, C07C323/29, C07C225/10.

    Nuevos fotoiniciadores de alfa-aminoacetofenona. Compuestos de las fórmulas I, II, III y IV en donde Ar por ejemplo es un grupo de fenilo, difenilo o benzoilfenilo, que está no-sustituido o sustituido; Ar sub,1 , por ejemplo, tiene el mismo significado que Ar; Ar sub,2 es entre otros fenilo; X puede ser un enlace directo; Y hidrógeno, etc.; R sub,1 y R sub,2 por ejemplo C sub,1 -C sub,8 alquilo; R sub,3 entre otros hidrógeno o C sub,1 -C sub,12 alquilo; R sub,4 es entre otros C sub,1 -C sub,12 alquilo; o R sub,3 y R sub,4 juntos son C sub,3 -C sub,7 alquileno; R sub,5 es por ejemplo C sub,1 -C sub,6 alquileno; y Z es un radical divalente; con la condición de que por lo menos uno de los radicales Ar, Ar sub,1 , Ar sub,2 , Ar sub,3 , R sub,1 , R sub,2 , R sub,3 , R sub,4 , R sub,5 o Y está sustituido por 1 a 5 grupos SH, o con la condición de que y contiene por lo menos un grupo -SS-, son fotoiniciadores para la polimerización de compuestos etilénicamente insaturados.