11 inventos, patentes y modelos de NGUYEN, DUY

  1. 1.-

    Imidazopirazinas

    (11/2015)

    Un compuesto de fórmula general (I):**Fórmula** X representa un grupo -SR5, -S(≥O)R5, -S(≥O)2R5, -S(≥O)(≥NR5a)R5b, o -S(≥O)2N(R5b)R5c; R1 representa un átomo de hidrógeno o un átomo de halógeno, o un grupo -CN, alquilo de C1-C6-, haloalquilo de C1-C6-, R6(R6a)N-alquilo de C1-C6-, HO-alquilo de C1-C6-, -alquilo de C1-C6-CN, -C(≥O)N(H)R8 - C(≥O)N(R8a)R8b, -C(≥O)O-R6, o -N(R8a)R8b; R2 representa un grupo -C(≥O)N(H)R8, -C(≥O)N(R8a)RBb, -N(H)C(≥O)R8 ; -N(R8a)C(≥O)R8b, -N(H)C(≥O)NH2, -N(H)C(≥O)N(H)R8b,...

  2. 2.-

    Nuevos derivados de amida del ácido tiazol-4-carboxílico 2-sustituidos, su preparación y uso como medicamentos

    (10/2013)

    Compuestos de la fórmula general (I) con los componentes A, B, C y D, **Fórmula** en la que los componentes B y D están situados en posición orto entre sí yQ1 representa un anillo heteroarilo con 5 átomos del anillo,R1 y R2, independientemente uno de otro, representan (i) hidrógeno, hidroxi, nitro, halógeno, ciano, -CF3, -NR5R6 o (ii) -C(O)-OR10, -C(O)-R7, -C(O)-fluoroalquilo C1-C3, -C(O)-NR5R6, NH-C(O)-R7 o (iii) un radical alquilo C1-C6, alquenilo C2-C6, alquinilo C2-C6, alcoxi C1-C6,fluoroalquilo C1-C6 o un radical fluoroalcoxi C1-C6,en cada caso eventualmente sustituido una o varias veces, de manera igual odistinta, con -alcoxi C1-C3, hidroxi, -C(O)-OR10...

  3. 3.-

    Nuevos derivados de amidas de ácidos 2-hetaril-tiazol-4-carboxílicos, su preparación y su utilización como un medicamento

    (05/2012)

    Compuestos de la fórmula general (I) con los eslabones A, B, C y D, **Fórmula** en los que los eslabones B y D están situados en posición orto entre ellos yQ1 representa un anillo de heteroarilo con 6 átomos de anillo, yR1 y R2 representan independientemente uno de otro (i) hidrógeno, hidroxi, nitro, halógeno, ciano, -CF3, -NR5R6 o (ii) -C(O)-OR10, -C(O)-R7, -C(O)-fluoroalquilo de C1-C3, -C(O)-NR5R6, -NH-C(O)-R7 o (iii) un radical alquilo de C1-C6, alquenilo de C2-C6, alquinilo de C2-C6, alcoxi de C1-C6, fluoroalquilo deC1-C6 o fluoroalcoxi de C1-C6, en cada caso eventualmente sustituido una vez o múltiples veces, de igual o diferente...

  4. 4.-

    Derivados de quinazolina sustituidos con sulfono como agentes inmunomoduladores para el tratamiento de enfermedades inflamatorias y alérgicas

    (05/2012)

    Compuestos de la fórmula general (I)**Fórmula** en la que R1 representa (i) un anillo de arilo o de heteroarilo eventualmente sustituido una vez o múltiples veces, de igual o diferente manera, con hidroxi, -NR6R7, -NR5-C(O)-R10, -NR5-C(O)-OR10, -NR5-C(O)-NR6R7, -NR6-SO2-R10, ciano, halógeno, alcoxi de C1-C6, -OCF3, -CF3, alquilo de C1-C6, cicloalquilo de C3-C6 y/o heterociclilo con 3 hasta 8 átomos de anillo, o (ii) un radical alquilo de C1-C6, alquenilo de C2-C6 o alquinilo de C2-C6 eventualmente sustituido unavez o múltiples veces, de igual o diferente manera, con hidroxi, -NR6R7, -NR5-C(O)R10, -NR5-C(O)-OR10, -NR5-C(O)-NR6R7, -NR5-SO2-R10, ciano, halógeno, alcoxi de C1-C6, -OCF3, -CF3, alquilo...

  5. 5.-

    Derivados de quinazolina sustituida con sulfoximina como inmunomoduladores, su preparación y uso como medicamentos

    (04/2012)

    Compuestos de fórmula general (I) **Fórmula** en la que R1 representa (i) un anillo arilo o heteroarilo mono- o polisustituido opcionalmente sustituido idéntica o diferentementecon hidroxilo, -NR7R8, -NR6-C(O)-R11, -NR6-C(O)-OR11, -NR6-C(O)-NR7R8, -NR7-SO2-R11, ciano,halógeno, alcoxi de C1-C6, -OCF3, -CF3, alquilo de C1-C6, cicloalquilo de C3-C6 y/o heterociclilo quetiene 3 a 8 átomos anulares, o (ii) un radical alquilo de C1-C6, alquenilo de C2-C6 o alquinilo de C2-C6, opcionalmente mono- opolisustituido idéntica...

  6. 6.-

    NUEVOS DERIVADOS DE AMIDA DEL ÁCIDO 2-ARIL-TIAZOL-4-CARBOXÍLICO, SU PREPARACIÓN Y USO COMO MEDICAMENTO

    (09/2011)

    Compuestos de la formula general (I), con los módulos A, B, C y D, en la que los módulos B y D están en posición orto uno respecto de otro y Q1 representa un anillo de fenilo o un anillo de heteroarilo bicíclico hidrogenado, y R 1 y R 2 , independientemente uno de otro, representan (i) hidrógeno, hidroxi, nitro, halógeno, ciano, -CF 3, -NR 5 R 6 o (ii) -O-SO2-NR 5 R 6 , -SO 2-R 7 , -SO 2-NR 5 R 6 (iii) -C(O)-OR 10 , -C(O)-R 7 , -C(O)-fluoro-alquilo C 1-C 3, -C(O)-NR 5 R 6 , -NH-C(O)-R 7 o (iv) un radical alquenilo...

  7. 7.-

    SULFIMIDAS COMO AGENTES INHIBIDORES DE PROTEÍNA CINASAS

    (02/2011)

    Compuestos de la fórmula general I en la queR1representa (i)hidrógeno, halógeno, ciano, nitro, -NR8R9, -NR7-C(O)-R12, -NR7-C(O)-OR12, -NR7-C(O)-NR8R9, -NR7-SO2-R12, -CF3 ó -OCF3, ó (ii)un radical alquilo de C1-C6, alquenilo de C2-C6, alcoxi de C1-C6 o alquinilo de C2-C6, que eventualmente está sustituido una vez o múltiples veces, de igual o diferente manera, con hidroxi, -NR8R9, -NR7-C(O)-R12, -NR7-C(O)-OR12, -NR7-C(O)-NR8R9, -NR7-SO2-R12, ciano, halógeno, alcoxi de C1-C6, -CF3 y/o -OCF3, ó (iii)un anillo de fenilo o de heteroarilo monocíclico, que eventualmente está sustituido una vez o múltiples veces, de igual o diferente manera, con hidroxi, -NR8R9, -NR7-C(O)-R12, -NR7-C(O)-OR12, -NR7-C(O)-NR8R9, -NR7-SO2-R12,...

  8. 8.-

    DERIVADOS DE ALQUILIDEN-TETRAHIDRONAFTALENO, PROCEDIMIENTO PARA SU PREPARACION Y SU USO COMO AGENTES ANTIINFLAMATORIOS

    (06/2008)

    Estereoisómeros de fórmula general (I) (Ver fórmula) en la que significan R 1 y R 2 independientemente un átomo de hidrógeno, un grupo hidroxi, un átomo de halógeno, un grupo alquilo C1-C10 dado el caso sustituido, un grupo alcoxi C1-C10, un grupo alquiltio C1-C10, un grupo perfluoroalquilo C1-C5, un grupo ciano, un grupo nitro, o R 1 y R 2 forman juntos un grupo seleccionado entre los grupos -O-(CH2)n-O-, -O-(CH2)n-CH2-, -O-CH=CH-, -(CH2)n+2-, -NH-(CH2)n+1, -N-(alquil-C1-C3)-(CH2)n+1, -NH-N=CH-, en los que n = 1 ó 2 y los átomos terminales están enlazados con los átomos de carbono del anillo directamente adyacentes,...

  9. 9.-

    DERIVADOS DE TETRAHIDRONAFTALENO SUSTITUIDOS CON 1-AMINO-2-OXI, PROCEDIMIENTOS PARA SU PREPARACION Y SU UTILIZACION COMO ANTI-INFLAMATORIOS

    (08/2007)

    Compuestos de la Fórmula general (I), (Ver fórmula) en la que R 1 y R 2 independientemente uno de otro, significan un átomo de hidrógeno, un grupo hidroxi, un átomo de halógeno, un grupo alquilo (C1-C10) eventualmente sustituido, un grupo alcoxi (C1-C10) eventualmente sustituido, un grupo alquil (C1-C10)-tio, un grupo perfluoroalquilo (C1-C5), un grupo ciano, un grupo nitro, o R 1 y R 2 en común significan un grupo seleccionado entre los grupos -O-(CH2)n-O-, -O-(CH2)n-CH2-, -O-CH=CH-, -(CH2)n+2-, -NH-(CH2)n+1-, -N(alquil C1-C3)-(CH2)n+1-, -NH-N=CH-, siendo n = 1 ó 2 y estando unidos los átomos de oxígeno y/o átomos de carbono y/o átomos de nitrógeno,...

  10. 10.-

    PENTANOLES TRANSPUESTOS, UN PROCEDIMIENTO PARA SU PREPARACION Y SU UTILIZACION COMO AGENTES ANTI-INFLAMATORIOS

    (07/2007)

    Estereoisómeros de la formula general I (I) en la que R1 significa un radical fenilo eventualmente sustituido, R2 significa un sistema anular aromático, parcialmente aromático o no aromático, mono- o bicíclico, que eventualmente contiene 1-3 átomos de nitrógeno, 1-2 átomos de oxígeno y/o 1-2 átomos de azufre, y que eventualmente está sustituido una vez o múltiples veces con un radical seleccionado entre el conjunto formado por carbonilo, halógeno, hidroxi, alquilo (C1-C5), que eventualmente puede estar sustituido con 1-3 grupos hidroxi, 1-3 grupos alcoxi (C1-C5) y/o 1-3 grupos COOR6, o alcoxi (C1-C5), alquil (C1-C5)-tio,...

  11. 11.-

    PROCEDIMIENTO PARA LA INHIBICION DE DEPOSITOS CONTAMINANTES EN LA PASTA DE PAPEL Y SISTEMAS DE FABRICACION DE PAPEL

    (04/2000)
    Solicitante/s: BETZDEARBORN INC. Clasificación: D21C9/00, D21C9/08, D21C5/02.

    PROCEDIMIENTO PARA INHIBIR LOS DEPOSITOS DE CONTAMINANTES ORGANICOS DE LA PASTA DE PAPEL Y SISTEMAS DE FABRICACION DE PAPEL. SE LE AÑADEN ALBUMINAS, GLOBULINAS O MEZCLAS DE AMBAS Y CELULAS SANGUINEAS ANIMALES SECADAS EN AEROSOL A LA PASTA DE PAPEL O SE ROCIAN SOBRE LAS SUPERFICIES CON TENDENCIA A LOS DEPOSITOS DE UN SISTEMA DE FABRICACION DE PAPEL AFECTADO POR CONTAMINANTES ORGANICOS.