9 inventos, patentes y modelos de NADAUD, NICOLAS

  1. 1.-

    Acristalamiento provisto de un apilamiento de capas finas para la protección solar y/o el aislamiento térmico

    (04/2015)

    Acristalamiento que comprende al menos un sustrato transparente dotado de un apilamiento de capas delgadas que comprenden una alternancia de n capa(s) funcional(es) con propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar y de n+1 revestimientos compuestos por una o varias capas de material dieléctrico, de manera que cada capa funcional esté dispuesta entre dos revestimientos, al menos un revestimiento que comprende al menos dos capas de material dieléctrico, caracterizado porque al menos una capa absorbente en el visible se inserta...

  2. 2.-

    Procedimiento de deposición de capa fina y producto que incluye una capa fina

    (11/2014)

    Procedimiento de obtención de un substrato revestido sobre al menos una parte de su superficie de al menos una capa de óxido de un metal M cuyo espesor físico es inferior o igual a 30 nm, no estando dicha capa de óxido comprendida en un apilamiento de capas que incluye al menos una capa de plata, incluyendo dicho procedimiento las siguientes etapas: - se deposita por pulverización catódica al menos una capa intermedia un material elegido entre el metal M, un nitruro del metal M, un carburo del metal M o un óxido sub-estequiométrico en oxígeno del metal M, no estando dicha capa intermedia depositada por encima o por debajo de una capa a base de óxido...

  3. 3.-

    Procedimiento de depósito de capa delgada y producto obtenido

    (07/2014)

    Procedimiento de tratamiento de al menos una capa delgada continua a base de plata depositada sobre una primera cara de un sustrato, en el que se lleva cada punto de dicha al menos una capa delgada a una temperatura de al menos 300ºC manteniendo una temperatura inferior o igual a 150ºC en cualquier punto de la cara de dicho sustrato opuesta a dicha primera cara, con el fin de aumentar el porcentaje de cristalización de dicha capa delgada conservándola continua y sin etapa de fusión de dicha capa delgada.

  4. 4.-

    SUSTRATO, PARTICULARMENTE SUSTRATO DE VIDRIO, QUE LLEVA UNA CAPA CON PROPIEDAD FOTOCATALÍTICA MODIFICADA PARA PODER ABSORBER FOTONES DEL VISIBLE

    (03/2012)

    Procedimiento de fabricación de un sustrato de vidrio que, sobre al menos una parte de al menos una de sus caras, porta una capa con propiedad fotocatalítica, antisuciedad, a base de dióxido de titanio (TiO2), la cual fue aplicada sobre el sustrato o bien directamente, o bien con interposición de al menos una subcapa funcional, caracterizado por el hecho de que se lleva a cabo un tratamiento térmico del sustrato portador de dicha capa a base de TiO2 bajo una atmósfera de nitrógeno o de nitrógeno y al menos un gas reductor durante un lapso de tiempo suficiente para hacer que la capa a base de TiO2, la cual es naturalmente capaz de absorber los fotones en la región de los UV, sea igualmente...

  5. 5.-

    PROCEDIMIENTO DE ELABORACIÓN POR PROYECCIÓN TÉRMICA DE UNA DIANA A BASE DE SILICIO Y DE CIRCONIO

    (01/2011)

    Composición de un compuesto que comprende los componentes definidos a continuación y expresados en porcentaje en masa, el cual permite la elaboración de una diana por un procedimiento de elaboración por proyección térmica, especialmente por vía plasma, caracterizada porque está constituida esencialmente por: - Al : 2 a 20% - Si : 25 a 45% - ZrSi2 : 45 a 70%

  6. 6.-

    SUSTRATO, PARTICULARMENTE SUSTRATO DE VIDRIO, QUE TIENE UNA CAPA CON PROPIEDADES FOTOCATALITICAS REVESTIDA DE UNA CAPA PROTECTORA DELGADA

    (10/2010)

    Estructura que comprende un sustrato que lleva, sobre al menos una parte de su superficie, una capa con propiedades fotocatalíticas, antisuciedad, a base de dióxido de titanio (TiO2), revestida con una capa delgada que contiene silicio y oxígeno, de poder cubriente, no porosa, apta para asegurar una protección mecánica y química de la capa fotocatalítica subyacente manteniendo la actividad fotocatalítica del TiO2, caracterizada porque contiene, inmediatamente por debajo de la capa a base de TiO2, una subcapa que presenta una estructura cristalográfica que ha permitido una asistencia a la cristalización por crecimiento heteroepitaxial...

  7. 7.-

    ACRISTALAMIENTO PROVISTO DE UN APILAMIENTO DE CAPAS FINAS PARA LA PROTECCION SOLAR Y/O EL AISLAMIENTO TERMICO

    (05/2008)
    Ver ilustración. Solicitante/s: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Clasificación: C03C17/36.

    Acristalamiento que comprende al menos un sustrato transparente dotado de un apilamiento de capas delgadas que comprenden una alternancia de n capa(s) funcional(es) con propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar y de n+1 revestimientos compuestos por una o varias capas de material dieléctrico, de manera que cada capa funcional esté dispuesta entre dos revestimientos, al menos un revestimiento que comprende al menos dos capas de material dieléctrico, caracterizado porque al menos una capa absorbente en el visible se inserta entre dos capas de material dieléctrico de al menos uno de dichos revestimientos.

  8. 8.-

    SUSTRATO TRANSPARENTE CON REVESTIMIENTO ANTIRREFLEJOS DE BAJA EMISIVIDAD O ANTISOLAR.

    (06/2007)
    Solicitante/s: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Clasificación: G02B5/28, C03C17/34, G02B1/11.

    Sustrato transparente que incluye sobre al menos una de sus caras un revestimiento antirreflejos hecho de un apilamiento de capas finas, de índices de refracción alternativamente altos y bajos, a base de material dieléctrico, caracterizado porque al menos una de las capas finas de alto índice de dicho revestimiento antirreflejos comprende óxido de titanio depositado por pulverización catódica que se modifica químicamente por incorporación de nitrógeno de tal modo que reduzca su índice de refracción hasta un valor de a lo sumo 2, 40, en particular, 2, 38 y preferentemente hasta valores comprendidos entre 2, 25 y 2, 38 de una longitud de onda de 580 nm.

  9. 9.-

    SUSTRATO CON REVESTIMIENTO FOTOCATALITICO.

    (03/2007)
    Solicitante/s: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Clasificación: C23C14/08, C03C17/34, G02B1/11.

    Procedimiento de deposición por pulverización catódica de un revestimiento con propiedades fotocatalíticas que comprende óxido de titanio al menos parcialmente cristalizado, en particular, bajo forma anatasa sobre un substrato portador transparente o semitransparente del tipo vidrio, vitrocerámico, plástico en el cual se realiza la pulverización bajo una presión de deposición P de al menos 2 Pa, caracterizado porque se realiza la pulverización a temperatura ambiente y porque la deposición del revestimiento es seguida por un tratamiento de tipo recocido con el fin de obtener la cristalización del revestimiento.