7 inventos, patentes y modelos de MURATA, MASAYOSHI

PROCEDIMIENTO Y APARATO PARA GENERAR PLASMA Y PROCEDIMIENTO Y APARATO PARA FABRICAR UN DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR.

(28/09/2010) Un procedimiento de generación de un plasma de descarga que comprende las etapas de: (a)oponer un electrodo (303, 313, 323, 323a) de descarga que tiene una porción de descarga sustancialmente plana a un sustrato para ser tratado en un recipiente (2, 2C, 2J, 2K) de reacción al vacío de tal modo que dicho electrodo de descarga y dicho sustrato estén sustancialmente paralelos entre sí; (b)evacuar dicho recipiente de reacción al vacío y suministrar un gas de tratamiento a un espacio entre dicho electrodo de descarga y dicho sustrato; y caracterizado por (c)aplicar energía de alta frecuencia a dicho electrodo de descarga de tal modo que una envolvente que representa la distribución espacial de una tensión f de alta frecuencia en dicho electrodo de descarga cambie y se desplace…

DISPOSITIVO DE DEPOSITO QUIMICO EN FASE VAPOR QUE UTILIZA UN PLASMA.

(16/12/2003) SE DESCRIBE UN APARTO PARA DEPOSITAR VAPOR QUIMICO DE PLASMA A FIN DE FORMAR UNA PELICULA DELGADA AMORFA, UNA PELICULA DELGADA MICROCRISTALINA O UNA PELICULA DELGADA POLICRISTALINA SOBRE UNA SUPERFICIE DE UN SUBSTRATO DE ANTICATODO UTILIZANDO UNA DESCARGA LUMINISCENTE GENERADA POR UNA ENERGIA ELECTRICA SUMINISTRADA DE UNA FUENTE DE ENERGIA, QUE COMPRENDE UN DEPOSITO DE REACCION MEDIOS PARA SUMINISTRAR UN GAS REACTANTE AL INTERIOR DEL DEPOSITO DE REACCION , MEDIOS DE DESCARGA PARA DESCARGAR UN GAS RESIDUAL DEL GAS REACTANTE FUERA DEL DEPOSITO DE REACCION , UN ELECTRODO EN FORMA DE ESCALA PARA LA GENERACION DE DESCARGAS DISPUESTO DENTRO DEL DEPOSITO DE REACCION , UNA FUENTE DE ALIMENTACION PARA SUMINISTRAR UNA ENERGIA…

Derivados de ácido 3-pirrolidiniltio-1-azabiciclo(3.2.0)hept-2-eno-2-carboxílico y procedimientos para su preparación.

(01/11/1994) Un procedimiento para preparar un compuesto de la fórmula: (I) en la que R 1 es carboxi o carboxi protegido, R 2 es hidroxi-alquilo C1 C4 o hidroxi alquilo C1 C4 protegido, R 3 es hidrógeno o alquilo C1 C6, R 4 es hidroxi-alquilo C1 C6 protegido o no protegido; hidroxi-alquilo C1 C6 protegido o no protegido que tiene amino protegido o no protegido; halo alquilo C1 C6; carbamoil-alquilo C1 C6 protegido o no protegido; amino-alquilo C1 C6 protegido o no protegido; ureido-alquilo C1 C6 protegido o no protegido; ureidocarbonil-alquilo C1 C6 protegido o no protegido; triazolil-alquilo C1 C6; un grupo heteromonocíclico saturado o insaturado de 5 ó 6 miembros que contiene 1 a 4 átomo(s) de nitrógeno, o que contiene…

COMPONENTES DE ACIDO: 3-PIRROLIDININILTIO-1-AZABICIBLO (3, 2, 0) HEPT-2-ENO-CARBOXILICO.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Necesidades corrientes de la vida

(16/10/1994). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D487/04, A61K31/40.

UN COMPONENTE DE LA FORMULA (I): EN EL CUAL R1 ES CARBOXI O CARBOXI PROTEGIDO, R2 ES HIDROXIALQUILO INFERIOR O EL MISMO PROTEGIDO R3 ES HIDROGENO O ALQUILO, INFERIOR, R4 ES UN GRUPO ETEROCICLICO INSATURADO QUE PUEDE SER SUSTITUIDO POR SUSTITUYENTES ADECUADOS, R5 ES HIDROGENO O UN GRUPO HIMINOPRECTOR O UN ALCANIMIDOIL INFERIOR, Y A ES UN ALQUILENO INFERIOR, O SALES FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLES DE ELLO, PROCESO PARA SU PREPARACION Y COIMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LAS COMPRENDEN COMO INGREDIENTE ACTIVO MEZCLADO CON UN PORTADOR ACEPTABLE FARMACEUTICAMENTE O UN EXCIPIENTE.

COMPUESTOS DE ACIDO PIRROLIDINTIO-1-AZABICICLICO [3.2.0] HEPT-2-EN-2-CARBOXILICOS Y PROCEDIMIENTOS PARA SU PREPARACION.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Necesidades corrientes de la vida

(01/08/1994). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D487/04, A61K31/40, C07D207/12.

SE PRESENTA UN COMPUESTO DE FORMULA (I), EN LA QUE R1 ES CARBOXI O CARBOXI PROTEGIDO, R2 ES HIDROXIALQUILO INFERIOR O HIDROXIALQUILO INFERIOR PROTEGIDO, R3 ES HIDROGENO O ALQUILO INFERIOR, R4 ES UREIDO ALQUILO INFERIOR PROTEGIDO O NO PROTEGIDO, R5 ES HIDROGENO O GRUPO PROTECTOR DE ALCANIMIDOILO O DE IMINO, Y A ES ALQUILENO INFERIOR. SE PRESENTAN TAMBIEN SALES FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLES DEL MISMO, PROCEDIMIENTOS PARA SU PREPARACION Y PREPARACIONES FARMACEUTICAS QUE LOS CONTIENEN. LA INVENCION SE REFIERE TAMBIEN A COMPUESTOS INTERMEDIOS DE FORMULA (II).

COMPUESTOS DEL ACIDO 3 - PIRROLIDINILTIO - 1 - AZABICICLO (3, 2, 0) HEPT - 2 - ENO - 2 - CARBOXILICO.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Necesidades corrientes de la vida

(01/08/1994). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D487/04, A61K31/40.

UN COMPUESTO DE LA FORMULA (I) EN LA QUE R EXP1 ES CARBOXI O CARBOXI PROTEGIDO, R (AL CUADRADO) ES HIDROXI (INFERIOR) ALQUILO O HIDROXI (INFERIOR) ALQUILO PROTEGIDO, R EXP3 ES HIDROGENO O ALQUILO INFERIOR, R EXP4 ES UN GRUPO HETEROCICLICO ALIFATICO QUE PUEDE SER SUSTITUIDO POR SUSTITUYENTE (S) CONVENIENTE, R EXP5 ES HIDROGENO, GRUPO ALQUILO INFERIOR O IMINO PROTECTOR Y A ES ALQUILENO INFERIOR, O SALES DE ESTO FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLES, PROCESOS PARA SU PREPARACION Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LOS COMPRENDEN COMO INGREDIENTE ACTIVO EN MEZCLA CON UN SOPORTE O EXCIPIENTE ACEPTABLE FARMACEUTICAMENTE.

COMPUESTOS DE ACIDO 3-TIOPIRROLIDINIL-1-OZOBICICLO [3.2.0] HEPT-2-EN-2-CARBOXILICO.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Necesidades corrientes de la vida

(01/08/1994). Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D487/04, A61K31/40, C07D409/04, C07D413/04, C07D405/04, C07D417/04, C07D403/04.

SE PRESENTA UN COMPUESTO DE FORMULA (I) EN DONDE R1 ES CARBOXI O CARBOXI PROTEGIDO, R2 ES HIDROXIALQUILO(INFERIOR) O HIDROXIALQUILO (INFERIOR) PROTEGIDO; R3 ES HIDROGENO O ALQUILO INFERIOR, R4 ES UN GRUPO HETEROCICLICO QUE PUEDE TENER SUSTITUYENTES ADECUADOS, Y R5 ES HIDROGENO O UN GRUPO IMINOPROTECTOR. SE PRESENTAN TAMBIEN SALES FARMACOLOGICAMENTE ACEPTABLES DEL COMPUESTO, PROCEDIMIENTOS PARA SU OBTENCION Y COMPOSICIONES FARMACOLOGICAS QUE LAS CONTIENEN COMO INGREDIENTE ACTIVO. LA INVENCION INCLUYE ADEMAS PRODUCTOS INTERMEDIOS DE FORMULA (II) Y PROCEDIMIENTO PARA SU OBTENCION.

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