6 inventos, patentes y modelos de LEHNER, MARTIN

  1. 1.-

    DERIVADOS DE IMIDAZOPIRIDINA UTILES COMO INHIBIDORES DE INOS

    (11/2009)

    Compuestos de fórmula I **(Ver fórmula)** en la que A es alquileno C1-4 o cicloalquileno C3-7, R1 es fenilo, fenilo sustituido con R2 y/o R3, Har1, o Har1 sustituido con R4 y/o R5, R11 es hidrógeno, halógeno, alquilo C1-4 o alcoxi C1-4, en los que R2 es ciano, halógeno, carboxilo, alquilo C1-4, alcoxi C1-4, aminocarbonilo, mono- o di-alquil C1-4-aminocarbonilo, alquil C1-4-carbonilamino, alcoxi C1-4-carbonilo, amino, mono- o di-alquil C1-4-amino, trifluorometilo, hidroxilo, alquil C1-4-sulfonilamino, fenilsulfonilamino, fenil-alcoxi C1-4, o -SO2-N(R21)R22, en el que R21...

  2. 2.-

    DERIVADOS DE IMIDAZOPIRIDINAS COMO INHIBIDORES DE NO-SINTASA INDUCIBLE

    (12/2008)
    Ver ilustración. Solicitante/s: NYCOMED GMBH. Clasificación: A61P25/00, A61P31/00, C07D471/04, A61K31/437, A61P29/00, A61K31/444.

    Compuesto de fórmula I (Ver fórmula) en la que R1 es hidrógeno o alquilo de C1-4, R2 es hidrógeno o alquilo de C1-4, y R3 es hidrógeno o halógeno, R4 es hidrógeno, halógeno, alquilo de C1-4 o alcoxi de C1-4, R5 es alquilo de C1-4, A es alquileno de C1-4; y las sales, N-óxidos, las sales de los N-óxidos de estos compuestos, y los solvatos e hidratos de los mismos, en la que halógeno representa cloro o flúor, N-óxido representa el N-óxido sobre la piridina, que está sustituida con el radical -OR5.

  3. 3.-

    DERIVADOS DE IMIDAZOPIRIDINAS COMO INHIBIDORES DE NO-SINTASA INDUCIBLE

    (12/2008)

    Compuesto de fórmula I (Ver fórmula) en la que R1 es hidrógeno o alquilo de C1-4, R2 es hidrógeno o alquilo de C1-4, y R3 es alquilo de C1-4, trifluorometilo, o alcoxi C1-4 completa o predominantemente sustituido con flúor; o en la que R1 es cicloalquilo de C3-7, fenil-alquilo de C1-4, hidroxi-alquilo de C2-4, alcoxi de C1-4-alquilo de C2-4, fenilo, piridilo, o fenilo sustituido con R11 y/o R12, en el que R11 es alquilo de C1-4, halógeno, alcoxi de C1-4, o mono- o di-alquil C1-4-amino, R12 es alquilo de C1-4 o halógeno, R2 es hidrógeno, hidroxi-alquilo de C2-4, alcoxi de C1-4-alquilo de C2-4, o alquilo de C1-4, y R3 es hidrógeno, halógeno, alcoxi de C1-4, alquilo de C1-4, trifluorometilo, o alcoxi C1-4 completa o predominantemente...

  4. 4.-

    DISPOSITIVO DE IMPRESION CON UNA FORMA DE SERIGRAFIA FLEXIBLE EN UN BASTIDOR DE IMPRESION Y FORMA DE SERIGRAFIA PARA EL MISMO.

    (01/2002)

    LA INVENCION SE REFIERE A UN MOLDE DE IMPRESION POR TAMIZ QUE COMPRENDE UN TEJIDO ELABORADO BASANDOSE EN HILOS DE PLASTICO CON AUTOCRUZADO, CON UN REVESTIMIENTO DE EMULSION, DONDE LOS HILOS DE PLASTICO ESTAN RECUBIERTOS CON UNA CAPA DE ENVUELTA OBTENIDA POR PULVERIZACION IONICA O METALIZADO EN VACIO, QUE ESTA CUBIERTA POR UN REVESTIMIENTO METALICO SOPORTE DE EMULSION PRODUCIDO MEDIANTE ELECTROCHAPADO. LA INVENCION TAMBIEN SE REFIERE A UN DISPOSITIVO DE IMPRESION RECIBIENDO UN MOLDE DE IMPRESION POR TAMIZ FLEXIBLE EN UNA ESTRUCTURA DE IMPRESION....

  5. 5.-

    PROCEDIMIETO PARA LA ELABORACION DE UNA BANDA DE TEJIDO, EN PARTICULAR PARA UN MOLDE DE IMPRESION POR TAMIZ, ASI COMO TEJIDO, EN PARTICULAR TEJIDO DE IMPRESION POR TAMIZ

    (04/2001)
    Ver ilustración. Solicitante/s: SEFAR AG. Clasificación: B41N1/24.

    LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO PARA LA ELABORACION DE UNA BANDA DE TEJIDO, EN PARTICULAR PARA LA UTILIZACION COMO PLANTILLA DE IMPRESION POR TAMIZ A PARTIR DE UN TEJIDO DE PLASTICO, QUE ESTA PROVISTO CON UN REVESTIMIENTO METALICO, DONDE AL TEJIDO SE LE APLICA UNA CAPA DE CUBIERTA Y A CONTINUACION SE RECUBRE GALVANICAMENTE.

  6. 6.-

    SOPORTE DE PLANTILLA DE IMPRESION POR TAMIZ

    (01/1999)
    Solicitante/s: GALLUS FERD. RUESCH AG. Clasificación: B41C1/14, B41F15/34.

    EL SOPORTE DE IMPRESION POR TAMIZ SE MONTA SOBRE UN MARCO AUXILIAR, QUE MANTIENE ESTABLE DE MANERA COMPLETA LA FORMA DE LA PLACA. GRACIAS A LA CONFIGURACION ESPECIAL DE LOS PERFILES LONGITUDINALES DEL MARCO DE FORMA FLEXIBLE, EN DISPOSICION AUTOMATICA EN LA FORMA EXTENDIDA DEL PERFIL METALICO DE NUEVA FORMACION, POR EJEMPLO A BASE DE CHAPA ENDURECIDA ELASTICA, PUEDE SER CONFORMADO CADA VEZ UN CILINDRO A PARTIR DE LA PLACA ESTABLE RELATIVA.