7 inventos, patentes y modelos de KAWABATA, KOHJI

  1. 1.-

    Compuestos de cefem

    (04/2015)

    Un compuesto de la fórmula [I]: (Ver fórmula) en la que R 1 es alquilo C1-C6, hidroxialquilo (C1-C6) o haloalquilo (C1-C6), y R 2 es hidrógeno o un grupo protector amino, o R 1 y R 2 se unen juntos y forman un alquileno C1-C6 o alquenileno C1-C6; R 3 es hidrógeno o alquilo C1-C6; R 4 es: (Ver fórmula) en donde: A es: (Ver fórmula) en donde X es O o NH, R 7 es hidrógeno, alquilo C1-C6 o un grupo protector amino, R 8 es hidrógeno o hidroxi, R 9 es amino, mono- o di-alquil(C1-C6)amino, amino protegido, guanidino, guanidino protegido o un grupo heterocíclico de 3 a 8 miembros...

  2. 2.-

    COMPUESTOS DE CEFEM.

    (10/2002)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/59.

    NUEVOS COMPUESTOS CEFEM DE LA FORMULA (I), EN LA QUE R1 ES AMINO O AMINO PROTEGIDO, R2 ES HIDROGENO, ALQUILO BAJO O GRUPO PROTECTOR HIDROXI, R3 ES CARBOXI O CARBOXI PROTEGIDO, R4 ES PIRIDILO-3, PIRIDILO-4 O GRUPO MONOCICLICO HETERO SUSTITUIDO OPCIONALMENTE QUE CONTIENE DOS ATOMOS DE NITROGENO COMO ATOMOS HETERO Y EL CUAL TAMBIEN PUEDE CONTENER UN ATOMO DE OXIGENO O DE AZUFRE, Y N ES 0, 1 O 2 CON TAL DE QUE CUANDO R2 ES ALQUILO BAJO, ENTONCES N ES 1 O 2 Y R4 ES GRUPO MONOCICLICO HETERO SUSTITUIDO OPCIONALMENTE QUE CONTIENE DOS ATOMOS DE NITROGENO COMO ATOMOS HETERO Y EL CUAL TAMBIEN PUEDE CONTENER UN ATOMO DE OXIGENO O DE AZUFRE, Y SALES DE LOS MISMOS ACEPTABLES FARMACEUTICAMENTE QUE SON UTILES COMO MEDICAMENTOS.

  3. 3.-

    NUEVOS COMPUESTOS CEFEM.

    (08/2001)
    Ver ilustración. Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: C07D501/22, A61K31/545, C07D501/59, C07D501/24.

    SE DESCRIBE UN COMPUESTO DE FORMULA GENERAL (I), EN LA CUAL R 1 ES AMINO O AMINO PROTEGIDO, R 2 ES HIDROGENO O UN GRUPO PROTECTOR DE HIDROXI, R 3 ES CARBOXI O CARBOXI PROTEGIDO, R 4 ES HIDROGENO, ALQUENILO INFERIOR, ACILOXIALQUENILO INFERIOR, ALQUENILO INFERIOR HETEROCICLICO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, ALQUENILTIO INFERIOR HETEROCICLICO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, ALQUILTIO INFERIOR HETEROCICLICO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO O TIOALQUILTIO INFERIOR HETEROCICLICO OPCIONALMENTE SUSTITUIDO, Y R 5 ES HALOGENO O ALQUILO INFERIOR, Y LAS SALES FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLES DEL MISMO, QUE RESULTA UTIL COMO MEDICAMENTO PARA EL TRATAMIENTO PROFILACTICO Y TERAPEUTICO DE ENFERMEDADES INFECCIOSAS.

  4. 4.-

    COMPUESTOS DE CEFEMA DE ACTIVIDAD ANTIMICROBIANA.

    (12/1997)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/48.

    EL INVENTO SE REFIERE A UN COMPUESTO DE FORMULA (I) Y SU SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE, A LOS PROCESOS DE PREPARACION DEL MISMO, A UNA COMPOSICION FARMACEUTICA QUE CONTIENE EL MISMO Y A UN METODO PARA PREVENIR Y/O TRATAR LAS ENFERMEDADES INFECCIOSAS EN LOS SERES HUMANOS Y EN LOS ANIMALES. EN LA CITADA FORMULA (I), R1 ES AMINO O AMINO PROTEGIDO, R2 ES ETILO, PROPILO, CICLO(INFERIOR)ALQUILO , 1-METILPROPENILO O 2-METILPROPENILO, R3 ES HIDROXI(INFERIOR)ALQUILO O HIDROXI(INFERIOR)ALQUILO PROTEGIDO Y R4 ES AMINIO O AMINO PROTEGIDO.

  5. 5.-

    NUEVOS COMPONENTES CEFEM Y PROCESO PARA LA PREPARACION DE ELLO

    (12/1994)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/46.

    UN COMPONENTE DE LA FORMULA (I) EN DONDE R1 ES AMINO O AMINO PROTEGIDO, R2 ES ALKIL BAJO O ALKENIL BAJO, R3 ES ALKIL BAJO, HIDROXI (BAJO) ALKIL O HIDROXI (BAJO) ALKIL PROTEGIDO; R4 ES AMINO, AMINO PROTEGIDO, ALKILAMINO BAJO, ALKILAMINO BAJO PROTEGIDO, CARBOXI (BAJO) ALKILAMINO. N - [ALKIL (BAJO) CARBOXI PROTEGIDO] AMINO Y R7 ES HIDROGENO O ALKIL BAJO, Y UNA SAL ACEPTABLE FARMACEUTICAMENTE DE ELLO, PROCESOS PARA SU PREPARACION Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LAS COMPRENDEN COMO UN INGREDIENTE ACIVO EN MEZCLAS CON PORTADORES ACEPTABLES FARMACEUTICAMENTE.

  6. 6.-

    NUEVO COMPONENTE CEFEM Y UN PROCESO PARA SU PREPARACION.

    (12/1994)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/46.

    UN COMPONENTE DEFEM DE LA FORMULA: EN DONDE R1 ES AMINO O UN AMINO PROTEGIDO, R2 ES ALKIL BAJO QUE DEBE TENER UNO O MAS SUSTITUYENTES CONVENIENTES, R3 ES COO(THETA), CARBOXI O UN CARBOXI PROTEGIDO, R4 ES HIDROXI (BAJO ALKIL O HIDROXI (BAJO) ALKIL PROTEGIDO , R5 ES AMINO O UN AMINO PROTEGIDO, R6 ES HIDROGENO O ALKIL BAJO, X(THETA) ES UN ANION Y N ES 0 O 1, CON PREVISTO QUE: (I) CUANDO R3 ES COO(THETA), ENTONCES N ES 0 Y (II) CUANDO R3 ES CORBOXI O UN CARBOXI PROTEGIDO, ENTONCES N ES 1. Y SALES ACEPTABLES FARMACEUTICAMENTE DE ELLO, PROCESO PARA SU PREPARACION Y COMPOSICIONES FARMACEUTICAS QUE LES COMPRENDAN COMO INFGREDIENTES ACTIVOS EN MEZCLA CON PORTADORES ACEPTABLES FARMACEUTICAMENTE.

  7. 7.-

    NUEVOS COMPUESTOS CEFEM PARA SU PREPARACION Y PREPARADOS FARMACEUTICOS QUE LOS CONTIENEN.

    (12/1994)
    Solicitante/s: FUJISAWA PHARMACEUTICAL CO., LTD.. Clasificación: A61K31/545, C07D501/18, C07D501/46.

    LA INVENCION SE REFIERE A UN COMPUETSO DE FORMULA (I) EN LA QUE R1 Y R4 SON CADA UNO UN GRUPO AMINO O AMINO PROTEGIDO; R2 ES UN GRUPO CARBOXI-ALQUILO DE CADENA CORTA QUE PUEDE ESTAR PROTEGIDO; R3 ES ALQUILO O HIDROXI-ALQUILO DE CADENA CORTA QUE PUEDE ESTAR PROTEGIDO Y R5 ES HIDROGENO O ALQUILO DE CADENA CORTA. TAMBIEN SE REFIERE A UNA SAL FARMACEUTICAMENTE ACEPTABLE DEL COMPUESTO I, A PROCESOS PARA SU PREPARACION Y A PREPARACIONES FARMACEUTICAS QUE LO CONTIENEN COMO INGREDIENTE ACTIVO. ASIMISMO SE DESCRIBEN COMPUESTOS INTERMEDIOS DE FORMULA (II) Y SU PREPARACION.