8 inventos, patentes y modelos de DIETLIKER, KURT

  1. 1.-

    ALQUILSULFONILOXIMAS PARA FOTORESISTS DE LINEA I DE ALTA RESOLUCION, DE ALTA SENSIBILIDAD.

    (11/2003)

    LA PRESENTE INVENCION DESCRIBE EL USO DE LOS COMPUESTOS DE SULFONATO ALKILO OXIME QUE CORRESPONDE A LA FORMULA DONDE RREPRESENTA EL NAFTILO O . R0 REPRESENTA O UN GRUPO R1 -X, O SEA R2 , MIENTRAS QUE X REPRESENTA UN ENLACE DIRECTO, UN ATOMO DE OXIGENO O UN ATOMO DE AZUFRE. R1 REPRESENTA EL HIDROGENO, ALKILO C1-C4 O UN GRUPO FENIL QUE OCASIONALMENTE PUEDE SUSTITUIRSE MEDIANTE UN SUSTITUYENTE EN EL GRUPO QUE COMPRENDE EL CLORO, EL BROMO, EL ALKILO C1-C4 Y ALQUILOXI C1-C4 . R2 REPRESENTA EL OXIGENO O EL ALKILO C1-C4 , MIENTRAS QUE R3 REPRESENTA UN ALKILO C1-C12 DE CADENA DERECHA O RETICULADA QUE PUEDE, A VECES SUSTITUIRSE PORUNO O VARIOS ATOMOS HALOGENOS. ESTOS COMPUESTOS SE UTILIZAN EN CALIDAD DE GENERADORDE ACIDO FOTOSENSIBLE EN UNA FOTORESINA QUIMICAMENTE...

  2. 2.-

    NUEVOS FOTOINICIADORES DE O-ACILOXIMAS.

    (06/2003)
    Ver ilustración. Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Clasificación: C08F2/50, C07D295/12, G03F7/031, C07C323/47, C07C251/64.

    Nuevos fotoiniciadores de o-aciloximas, que responden a las fórmulas I, II, III o IV, en las que R{sub,1}, R{sub,2}, R{sub,3}, R{sub,4}, R{sub,5}, R{sub,6}, R{sub,7}, R'{sub,1}, R'{sub,4}, R'{sub,5} y R'{sub,6} tienen los significados, explicados en la reivindicación 1. La invención se refiere también a composiciones polimerizables que tiene a) por lo menos un compuesto fotopolimerizable insaturado, y b) como fotoiniciador por lo menos un compuesto de las fórmulas I, II, III y/o IV. Estos compuestos son idóneos como fotoiniciadores para la fotopolimerización de compuestos polimerizables por radicales.

  3. 3.-

    FOTOINICIADORES FUNCIONALIZADOS, DERIVADOS Y MACROMEROS DE LOS MISMOS Y SU USO.

    (04/2000)

    LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A AL - AMINOACETOFENONAS FUNCIONALIZADAS CON DIISOCIANATOS ORGANICOS QUE TIENEN LA ESTRUCTURA GENERAL (I) Y QUE PUEDEN SER UTILIZADOS COMO FOTOINICIADORES REACTIVOS; A OLIGOMEROS Y POLIMEROS A LOS CUALES ESTAN UNIDAS DICHAS {AL} - AMINOACETOFENONAS FUNCIONALIZADAS; A {AL} - AMINOACETOFENONAS QUE PRESENTAN UNA CADENA LATERAL INSATURADA POLIMERIZABLE; A FOTOINICIADORES DIMEROS Y TRIMEROS; A LA UTILIZACION DE DICHOS FOTOINICIADORES; A MATERIALES REVESTIDOS CON DICHOS FOTOINICIADORES; Y A LA UTILIZACION DE {AL} - AMINOAETOFENONAS FUNCIONALIZADAS PARA MODIFICAR SUPERFICIES. EN LA CITADA ESTRUCTURA (I) X ES - O - BIVALENTE, - NH -, - S -, ALQUILENO INFERIOR O (A); Y ES UN ENLACE DIRECTO O - O...

  4. 4.-

    TELOMEROS VINILICOS TERMINADOS EN NCO.

    (01/2000)

    LA INVENCION SE REFIERE A NUEVOS TELOMEROS VINILO CON TERMINACIONES NCO, QUE SON ADECUADOS EN PARTICULAR PARA UTILIZACION COMO AGENTES DE MODIFICACION DE SUPERFICIES Y COMO MATERIALES DE RECUBRIMIENTO, PERO TAMBIEN EN LA ELABORACION DE COMPUESTOS POLIMERIZABLES O COPOLIMEROS DE BLOQUE QUE REACCIONAN PARA OBTENER POLIMEROS QUE PUEDEN SER UTILIZADOS PARA LA ELABORACION DE ARTICULOS MOLDEADOS, EN PARTICULAR LENTES DE CONTACTO. LOS TELOMEROS VINILO CON TERMINACIONES NCO PROPUESTOS SON COMPUESTOS DE LA FORMULA (I) O - C - N - PI* - (-A-) {SUB,P} - R{SUB,A}, DONDE PI* ES UN GRUPO FOTOINICIADOR BIVALENTE;...

  5. 5.-

    ESTERES DE ACIDOS OXIMSULFONICOS Y SU EMPLEO COMO ACIDOS SULFONICOS LATENTES.

    (08/1999)

    ESTERES DE ACIDOS OXIMSULFONICOS Y SU EMPLEO COMO ACIDOS SULFONICOS LATENTES. LA INVENCION SE REFIERE AL EMPLEO DE ESTERES DE ACIDO OXIMSULFONICO DE ACUERDO CON LA FORMULA I EN LA CUAL M ES 0 O 1, X ES 1 O 2; R1 REPRESENTA POR EJEMPLO FENILO SUBSTITUIDO, R2 TIENE POR EJEMPLO, UNA DE LAS DEFINICIONES DE R1 O DENOTA FENILO INSUBSTITUIDO, ALCANOILO CON 1 A 6 ATOMOS DE CARBONO, BENZOILO INSUBSTITUIDO O BIEN SUBSTITUIDO, ALCOXICARBONILO CON 2 A 6 ATOMOS DE CARBONO O FENOXICARBONILO; O R1 Y R2, POR EJEMPLO, EN SU CASO EN CONJUNTO FORMAN UN ANILLO CON EL GRUPO CO, R3 CUANDO X EQUIVALE A 1 REPRESENTA POR EJEMPLO ALQUILO CON 1 A 18 ATOMOS DE CARBONO, FENILO O FENANTRILO, EN QUE LOS RADICALES FENILO Y FENANTRILO PUEDEN SER DE TIPO...

  6. 6.-

    POLIMEROS A BASE DE COPOLIMEROS EN BLOQUE.

    (03/1999)
    Ver ilustración. Solicitante/s: NOVARTIS AG. Clasificación: C08F290/04, G02B1/04, C08F2/50, G03F7/031.

    LA INVENCION TRATA DE POLIMEROS RETICULADOS QUE SON PRODUCTOS DE POLIMERIZACION DE UNA MEZCLA POLIMERIZABLE QUE CONTIENE LOS SIGUIENTES COMPONENTES: A) UN MACROMERO DE FORMULA (C), EN DONDE MACRO ES UN RADICAL DE VALENCIA - M DE UN MACROMERO DEL QUE SE HAN ELIMINADO M GRUPOS R{SUB,X} - H, SIENDO LOS GRUPOS R{SUB,X}, INDEPENDIENTEMENTE, UN ENLACE, - O -, - NR{SUB,N} O - S -, EN DONDE R{SUB,N} CORRESPONDE A HIDROGENO O ALQUILO INFERIOR, PI{SUP,*} A UN RADICAL BIVALENTE DE UN FOTOINICIADOR, R{SUB,AA} A LA PARTE DEL FOTOINICIADOR QUE CONFORMA EL RADICAL MENOS REACTIVO CUANDO EL FOTOINICIADOR SE ESCINDE, Y M A UN NUMERO ENTERO ENTRE 1 Y 100, B) UN MONOMERO VINILICO COPOLIMERIZABLE Y C) UN RETICULANTE COPOLIMERIZABLE. ESTOS POLIMEROS SON ESPECIALMENTE IDONEOS PARA LA FABRICACION DE PRODUCTOS MOLDEADOS TALES COMO LENTES DE CONTACTO.

  7. 7.-

    OXIDO MONO Y DIACIDOFOSCINO

    (05/1997)
    Solicitante/s: CIBA SC HOLDING AG. Clasificación: C07F9/6568, C08F2/50, G03F7/029, C07F9/53.

    EL INVENTO SE REFIERE A UN COMPUESTO DE FORMULA (I) QUE SE UTILIZA COMO FOTOINICIADOR COMPLETAMENTE ACTIVO EN LA FOTOPOLIMERIZACION DE COMPUESTOS INSATURADOS ETILENICAMENTE. SIENDO R1, R2 Y R3 UN RESTO ALQUILO O UN RESTO CICLOALQUILO O R1 Y R2 CONJUNTAMENTE CON EL ATOMO DE FOSFORO FORMAN UN ANILLO MONO O TRICICLICO.

  8. 8.-

    NUEVAS ALFA-AMINOCETOFENONAS COMO FOTOINICIADORES.

    (08/1994)
    Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Clasificación: C07C323/22, G03F7/00, C07D295/10, C08F2/50, C07D295/12, C07C225/16, C07C317/24, C07C225/02.

    COMPUESTOS DE FORMULA I, II, III Y IIIA DONDE AR1 SIGNIFICA UN RESTO AROMATICO NO SUSTITUIDO O SUSTITUIDO Y AL MENOS UNO DE LOS RESTOS R1 Y R2 SON UN GRUPO ALQUENILO, CICLOALQUENILO O ARILMETILO, SON FOTOINICIADORES PARA LA POLIMERIZACION DE COMPUESTOS NO SATURADOS. SON ADECUADOS EN ESPECIAL PARA EL FOTOENURECIMIENTO DE SISTEMAS PIGMENTADOS.