7 inventos, patentes y modelos de BOETTCHER, ANDREAS, DR.

  1. 1.-

    DISPERSIONES POLIMERAS ACUOSAS QUE CONTIENEN COMPUESTOS ORGANICOS CON GRUPOS DE CARBONATOS Y CARBONILOS, ASI COMO SISTEMAS DE PINTURA Y DE REVESTIMIENTO PRODUCIDOS CON ESTOS.

    (01/1997)
    Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: C08K5/00, C09D133/06, C09D7/12, C04B41/48, C08L33/06.

    LA INVENCION ALUDE A UNAS DISPERSIONES POLIMERAS ACUOSAS QUE CONTIENEN SI SE DIERA EL CASO, MATERIALES SUPLEMENTARIOS Y/O PIGMENTOS Y QUE SE COMPONEN ESENCIALMENTE DE UNA MEZCLA DE: A) DE UNA DISPERSION ACUOSA DE UN 20 HASTA UN 65% DE PESO DE UN COPOLIMERO DE (A) GRUPOS DE CARBOXILO Y/O COMPUESTOS NO SATURADOS, OLEFINOSOS Y QUE CONTIENEN AMIDA, (B) DE AL MENOS DOS MONOMEROS DEL GRUPO DE LOS ACIDOS DE ESTER ACRILICOS Y METACRILICOS Y COMPUESTOS VINILOAROMATICOS Y, B) DE UN 0,1 HASTA UN 5% DE PESO, EN RELACION A LA CANTIDAD DEL COPOLIMERO CONTENIDO EN EL COMPONENTE (A), POR LO MENOS DE UNA CETONA AROMATICA DE LA FORMULA GENERAL (I), EN DONDE R ESTA PARA UN RESTO ALQUILO O ARILO Y R ELEVADO 1 PARA UN RESTO ARILO QUE CONTIENE UNIDOS 1 HASTA 3 RESTOS -O-C(O)-O RSIONES POLIMERAS SON APROPIADAS PARA LA PRODUCCION DE SISTEMAS DE PINTURA Y DE REVESTIMIENTO.

  2. 2.-

    COMPUESTOS SENSIBLES A LA RADIACION, ETILENICOS NO SATURADOS, COPOLIMERIZABLES Y PROCEDIMIENTO PARA SU ELABORACION

    (12/1994)
    Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: G03F7/027, C07C69/96, C07D335/16, C07C68/02, C07D295/104.

    EL INVENTO SE REFIERE A COMPUESTOS SENSIBLES A LA RADIACION, ETILENICOS Y NO SATURADOS Y AUN PROCEDIMIENTO PARA SU ELABORACION. LOS COMPUESTOS ETILENICOS, NO SATURADOS Y ORGANICOS CORRESPONDEN A LA FORMULA GENERAL...DONDE R ESTA EN LUGAR DEL RESIDUO... DONDE LOS RESIDUOS DE R2 HASTA R6 ESTAN POR H, ALCOHILO, OALCOHILO, SH, SALCOHILO, HALOGENURO, N(ALCOHILO)(ARILO) Y POR LO MENOS UNO, PERO COMO MAXIMO TRES DE LOS RESIDUOS DE R2 HASTA R6 ESTAN POR EL RESIDUO... X ESTA POR UN RESIDUO DE ALCOHLO, UN RESIDUO DE CICLOALCOHILO, UN RESIDUO DE OXAALCOHILO O UN RESIDUO DE ARILO, Y POR H O CH3 Y Z POR O O NY.

  3. 3.-

    MASA CONFORMADA A BASE DE COPOLIMERIZADO DE IXOCIMILOMETACRILATO RETICULABLE POR RADIACION ULTRAVIOLETA

    (08/1994)
    Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: C08F220/18, C09J133/06.

    EL INVENTO A UNAS MASAS QUE SE RETICULAN MEDIANTE RADIACION ULTRAVIOLETA EN CONDICIONES OXIDANTES, SE COMPONEN DE COPOLIMERIZADOS DE ESTER DE ACIDOS METACRILICOS CON UNA VALOR K ENTRE 10 Y 100 Y SE OBTIENEN MEDIANTE LA POLIMERIZACION DE SUBSTANCIAS O SOLUCION DE 5 A 97,4% EN PESO DE I-AMILOACRILATO Y/O I-AMILOMETACRILATO; DE 0 A 89,9% EN PESO DE ESTERES DE ACIDO METACRILICO CUYO HOMOPOLIMERIZADO TIENE UNA TEMPERATURA DE TRANSICION DE VIDRIO POR DEBAJO DE -30 C; DE 2,5 A 30% EN PESO DE COMPUESTOS INSATURADOS (ALFA), (BETA) - MONOOLEFINICAMENTE CUYO HOMOPOLIMERIZADO TIENE TEMPERATURA DE ESTADO VITREO POR DEBAJO DE -30 C; DE 0 A 10% EN PESO DE ACIDOS Y/O ANHIDRIDOS INSATURADOS MONOOLEFINICAMENTE; DE 0 A 20% EN PESO DE MONOMEROS INSATURADOS OLEFINICAMENTE CON GRUPOS FUNCIONALES ELEGIDOS ENTRE HIDROXIDO, AMIDA, EPOXIDO, ETER, ESTER, URETANO, UREA Y AMINA PRIMARIA, SECUNDARIA Y TERCIARIA Y DE 0,1 A 5% EN PESO DE UNOS DERIVADOS BENZOFENONA O ACETOFENONA COPOLIMERIZADOS.

  4. 4.-

    MASAS RETICULABLES POR UV A BASE DE POLIMERIZADOS DE METACRILOESTER

    (08/1994)
    Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: C08F220/58, C08F220/30.

    EL INVENTO SE REFIERE A UNA MASA RETICULABLE POR UV A BASE DE POLIMERIZADOS DE METACRILOESTER CON MONOMEROS MONOPOLIMERIZADOS DE FORMULA (I). SIENDO R UN RESTO ALQUILO DETERMINADO O UN RESTO ARILO DETERMINADO ; R11, EL RESTO DE FORMULA (II); R2 Y R3 H, ALQUILO UN GRUPO OH NO ORTO, OCH3, OC2H5, SH, SCH3, CL, F, CN, COOH, COO - ALQUILO DE C1 A 3, CF3, N(CH3)2, N(C2H5) X O LOS RESTOS DE FORMULA (IV), (V) O (VI); RI, RII, RIII H O UN HIDROCARBONO DETERMINADO; X RESTO ALQUILENO DOBLE, RESTO CICLOALQUILENO, FENILENO, LOS RESTOS X PUEDEN SER IGUALES O DIFERENTES; Y RESTO DEL GRUPO (FORMULA); SP GRUPOS ESPACIADORES DE FORMULA (VI) O (VII); X UN ANION ACIDO; K UN NUMERO ENTERO DE 1 A 10 Y 1 Y N UN NUMERO ENTERO DE 0 A 25.

  5. 5.-

    PROCEDIMIENTO PARA LA ELABORACION DE MONOACETALES SIMETRICOS Y ASIMETRICOS DE 1, 2 DICETONA AROMATICA.

    (01/1994)
    Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: C07C45/64, C07C49/84.

    EL PRESENTE INVENTO CONSISTE EN UN NUEVO PROCEDIMIENTO PARA LA ELABORACION DE MONOACETALES SIMETRICOS Y ASIMETRICOS DE 1, 2 DICETONA AROMATICA EN UNA SOLUCION APOLAR EN PRESENCIA DE DERIVADOS DE UREA COMO CATALIZADORES.

  6. 6.-

    COMPUESTOS SENSIBLES A LA RADIACION, ETILENICAMENTE NO SATURADOS, COPOLIMERIZABLES Y PROCESO DE OBTENCION.

    (10/1992)
    Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: C08F220/18, C08G18/00, C07C271/42.

    LA PATENTE AFECTA A COMPUESTOS SENSIBLES A LA RADIACION, ETILENICAMENTE NO SATURADOS Y A UN PROCESO PARA SU OBTENCION. LOS COMPUESTOS ORGANICOS ETILENICAMENTE NO SATURADOS CORRESPONDEN A LA FORMULA GENERAL 1, DONDE R ES UN RESTO ALQUILO, UN RESTO ARILO O EL RESTO R1, Y R1 ES EL RESTO 2, REPRESENTANDO LOS RESTOS R (AL CUADRADO) A R6 H, ALQUILO, OH, OALQUILO, SH, SALQUILO, HALOGENO, N(ALQUIL)2, N(ALQUIL)(ARIL) Y DONDE AL MENOS UNO DE LOS RESTOS R (AL CUADRADO) A R6, PERO CON UN MAXIMO DE TRE, REPRESENTAN EL RESTO 3, EN EL QUE X ES UN RESTO ALQUILENO O UN RESTO OXAALQUILENO CON 2- 10 ATOMOS DE CARBONO RESPECTIVAMENTE Y DONDE Y SIGNIFICA H O CH3.

  7. 7.-

    MASA DE GRABADO FOTOPOLIMERIZABLE, SOBRE TODO PARA LA FABRICACION DE PLACAS DE IMPRESION Y FORMAS DE RELIEVE

    (11/1991)
    Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Clasificación: G03F7/10, G03C1/68.

    EL INVENTO SE REFIERE A UNA MEJORA DE MASAS DE GRABADO FOTOPOLIMERIZABLES Y QUE PUEDEN REVELARSE CON AGUA O AGUA ALCALINA Y QUE SOBRE TODO SE COMPONEN DE UN FOTOINICIADOR CON UNA MEZCLA A) DE POR LO MENOS UNA UNION BAJA MOLECULAR CON POR LO MENOS UNA UNION DOBLE NO SATURADA FOTOPOLIMERIZABLE OLEFINA Y B) POR LO MENOS LIGANTE ORGANICO POLIMERO Y UN OXIDO DE FOSFINA BISACILICA COMO FOTOINICIADOR. ESTAS MASAS DE GRABADO SIRVEN SOBRE TODO PARA FABRICAR PLACAS DE IMPRESION Y FORMAS DE RELIEVE.