PROCESO DE LAMINACION.

CONSISTE EN UN PROCESO PARA LA LAMINACION DE SECCIONES DISCRETAS DE UNA CAPA FOTOSENSIBLE SOPORTADA SOBRE UNA SERIE CONTINUA DE SUBSTRATOS (22).

CADA SUBSTRATO (22) SE HACE AVANZAR A TRAVES DE LA PRESION DE RODILLOS CALENTADOS (28) Y UNA LONGITUD CONTINUA DE LA CAPA FOTOSENSIBLE SOPORTADA (42,44) SE SUMINISTRA TAMBIEN A DICHOS RODILLOS. CUANDO EL SUBSTRATO (22) ALCANZA UNA PRIMERA POSICION SITUADA ENTRE LOS RODILLOS DE APLICACION (28), TODO EL MOVIMIENTO CESA EXCEPTO QUE LOS RODILLOS (28) SE MUEVEN DESDE UNA POSICION INACTIVA DESAJUSTADA EN RELACION CON EL SUBSTRATO (22) HACIA UNA POSICION ACTIVA PARA PROVOCAR CONTACTO DE PRESION ENTRE LA CAPA FOTOSENSIBLE (44) Y EL SUBSTRATO PARA LAMINAR DE ESTA FORMA LA CAPA FOTOSENSIBLE (44) AL SUBSTRATO (22). DURANTE UN PERIODO DE TIEMPO PREDETERMINADO SE HACE UNA PAUSA CON LOS RODILLOS (28) EN POSICION ACTIVA DESPUES EL SUBSTRATO (22) SE HACE AVANZAR OTRA VEZ CON LOS RODILLOS (28) TODAVIA EN LA POSICION ACTIVA Y LA CAPA FOTOSENSIBLE (44) SE SUMINISTRA OTRA VEZ A LA PRESION DE LOS MISMOS. CUANDO EL SUBSTRATO (22) ALCANZA UNA SEGUNDA POSICION, TODO EL MOVIMIENTO CESA UNA VEZ MAS Y DURANTE OTRO PERIODO DE TIEMPO PREDETERMINADO SE HACE OTRA PAUSA CON LOS RODILLOS (28) EN LA POSICION ACTIVA DESPUES DE LO CUAL LOS RODILLOS SE LLEVAN A LA POSICION INACTIVA. DURANTE LA SEGUNDA PAUSA, UN SUBSTRATO SUCESIVO (22) CONTINUA EL AVANCE HACIA EL SUBSTRATO ESTACIONARIO (22) PRECEDENTE. EN LOS MOMENTOS ADECUADOS, LA CAPA FOTOSENSIBLE SOPORTADA (44) SE RECORTA DE LA CAPA FOTOSENSIBLE LAMINADA (42). EL SUBSTRATO LAMINADO RESULTANTE (22) ESTA PROVISTO CON EJES (74,78) DE LA CAPA FOTOSENSIBLE (44) BIEN DEFINIDOS DONDE SE LAMINA DE MANERA FIRME EL SUBSTRATO (22) A LO LARGO DE LINEAS SEPARADAS DE LOS EJES (64,66) DELANTERO Y TRASERO DEL SUBSTRATO. ELLO DA LUGAR A UN MARGEN NO LAMINADO (72,76) ADYACENTE A LOS EJES DELANTERO Y TRASERO DEL SUBSTRATO.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: OLD ORCHARD ROAD, ARMONK, N.Y. 10504.

Inventor/es: CUMMINGS, MICHAEL JAMES, JAPP, ROBERT MAYNARD, HANFORD, DONALD EUGENE.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 14 de Noviembre de 1990.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • B29C67/18
  • B32B31/10
  • G03F7/16 FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Procesos de recubrimiento; Aparellaje con este fin (aplicación de capas sobre los materiales soporte en general B05; aplicación de capas fotosensibles sobre el soporte para la fotografía G03C 1/74).

Patentes similares o relacionadas:

Método mejorado para planchas de impresión de imágenes de relieve pre-expuestas, del 10 de Julio de 2019, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un proceso de producción de una plancha de impresión de imágenes en relieve, el proceso comprendiendo las etapas de: a) proporcionar un elemento de impresión […]

Dispositivo para el recubrimiento de sustratos planares, del 23 de Abril de 2019, de LEIBNIZ-INSTITUT FUR NEUE MATERIALIEN GEMEINNUTZIGE GMBH: Dispositivo para la aplicación de un compuesto de recubrimiento a un sustrato planar que comprende: a) un sustrato planar ; b) un cabezal de recubrimiento […]

Método para crear textura superficial en elementos de impresión flexográfica, del 3 de Abril de 2019, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método para fabricar un elemento de impresión de imágenes en relieve a partir de un blanco para impresión fotosensible, comprendiendo dicho blanco para […]

Composición fotopolimerizable por radiación UV para la fabricación de capas, patrones o impresiones conductores, del 21 de Marzo de 2019, de AGFA-GEVAERT.: Composición que comprende un polianión y un polímero o copolímero de un tiofeno sustituido o no sustituido como solución o dispersión en un medio […]

Resina negativa fotosensible para escritura directa de estructuras, del 24 de Mayo de 2016, de UNIVERSIDAD AUTONOMA DE MADRID: Resina negativa fotosensible para escritura directa de estructuras. La presente invención se refiere a una resina negativa fotosensible […]

Imagen de 'Composición, proceso de preparación y método de aplicación y…'Composición, proceso de preparación y método de aplicación y exposición para papel de formación de imágenes mediante luz, del 2 de Diciembre de 2015, de INTERNATIONAL PAPER COMPANY: Un artículo que comprende: una partícula que comprende una matriz de material polimérico y que contiene: uno o más agentes de formación de imágenes; y un […]

Soluciones de tensioactivos diol acetilénicos y procedimientos de su uso de las mismas, del 28 de Enero de 2015, de AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.: Un procedimiento para mejorar la humectabilidad de un substrato, comprendiendo el procedimiento: la puesta en contacto del substrato con una solución acuosa que comprende […]

Imagen de 'Litografía conducida electrostáticamente'Litografía conducida electrostáticamente, del 8 de Abril de 2013, de NORTHWESTERN UNIVERSITY: Un método de litografía que comprende: transportar un compuesto de modelamiento desde una punta hasta una superficie de sustrato para formar […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .