Inventos patentados en España.
PROCEDIMIENTO DE ELABORACIÓN POR PROYECCIÓN TÉRMICA DE UNA DIANA A BASE DE SILICIO Y DE CIRCONIO.
Composición de un compuesto que comprende los componentes definidos a continuación y expresados en porcentaje en masa
, el cual permite la elaboración de una diana por un procedimiento de elaboración por proyección térmica, especialmente por vía plasma, caracterizada porque está constituida esencialmente por: - Al : 2 a 20% - Si : 25 a 45% - ZrSi2 : 45 a 70%.Solicitante: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE.
Nacionalidad solicitante: Francia.
Dirección: 18, AVENUE D'ALSACE 92400 COURBEVOIE FRANCIA.
Inventor/es: NADAUD, NICOLAS, BILLIERES,DOMINIQUE,1,LOTISSEMENT DU MOULIN.
Fecha de Publicación de la Concesión: 3 de Enero de 2011.
Fecha Solicitud PCT: 3 de Febrero de 2006.
Fecha Concesión Europea: 4 de Agosto de 2010.
Clasificación Internacional de Patentes: H01J37/34 (..que funcionan por pulverización catódica (37/36 tiene prioridad) [3]), C23C14/34B2.
Clasificación PCT: C23C14/34 (..Pulverización catódica [4]), C23C14/06 (.caracterizado por el material de revestimiento (14/04 tiene prioridad) [4]).
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Lituania, Letonia.
Acceder al texto completo de la patente.
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