METODO Y APARATO PARA CONTROLAR IMPEDANCIAS REACTIVAS DE UNA RED DE ADAPTACION CONECTADA ENTRE UNA FUENTE R.F. Y UN PROCESADOR DE PLAMA R.F.

Resumen: UN CAMPO R.F. ES PROPORCIONADO POR UN ELEMENTO DE IMPEDANCIA REACTIVA A UN PLASMA EN UNA CAMARA DE PROCESAMIENTO DE PLASMA EN VACIO. EL ELEMENTO Y LA FUENTE ESTAN CONECTADOS MEDIANTE UNA RED DE ADAPTACION, QUE INCLUYE UNA PRIMERA Y SEGUNDA REACTANCIAS VARIABLES QUE CONTROLAN LA CARGA DE LA FUENTE Y LA SINTONIZACION DE UNA CARGA, INCLUIDO EL ELEMENTO DE IMPEDANCIA REACTIVA Y EL PLASMA, A LA FUENTE. LOS VALORES DE LA PRIMERA Y SEGUNDA REACTANCIAS VARIABLES SON MODIFICADOS PARA DETERMINAR EN QUE MEDIDA VA A CAMBIAR LA PRIMERA REACTANCIA VARIABLE PARA CADA CAMBIO DE UNIDAD DE LA SEGUNDA REACTANCIA VARIABLE, CON EL FIN DE CONSEGUIR LA MEJOR ADAPTACION ENTRE LAS IMPEDANCIAS QUE SE OBSERVA QUE ESTAN ORIENTADAS HACIA DENTRO Y HACIA FUERA DE LOS TERMINALES DE SALIDA DE LA FUENTE DE R.F.. A CONTINUACION, LOS VALORES DE LA PRIMERA Y SEGUNDA REACTANCIAS VARIABLES SON MODIFICADOS SIMULTANEAMENTE, TOMANDO COMO BASE LA DETERMINACION, HASTA CONSEGUIRSE LA MEJOR ADAPTACION DE IMPEDANCIAS ENTRE LAS IMPEDANCIAS QUE SE OBSERVA QUE ESTAN ORIENTADAS HACIA DENTRO Y HACIA FUERA DE LOS TERMINALES DE SALIDA DE LA FUENTE DE R.F.

Solicitante: LAM RESEARCH CORPORATION

Nacionalidad: US

Inventor/es: RICHARDSON, BRETT. NGO, TUAN. BARNES, MICHAEL, S

Fecha de Publicación de la Concesión: 01/04/2004

Fecha Solicitud PCT: 23/05/1997

Clasificación Principal: H01J37/32, H03H7/40

Países PCT: DE, ES, FR, GB, IT, NL, IE, EPO