METODO PARA LLEVAR A CABO EL REVELADO DE UNA PLACA DE RESINA FOTOSENSIBLE Y APARATO DE REVELADO.
Método de revelado de una placa de resina fotosensible, adaptado para llevar a cabo el suministro circulatorio de una solución de revelado,
almacenada en un depósito de revelador y conteniendo un surfactante, a la superficie de la placa de resina fotosensible dispuesta sobre la superficie del líquido del depósito de revelador, en el que una lámina porosa impregnada con un agente para la eliminación de espuma se encuentra dispuesta en la superficie líquida del depósito de revelador o en las proximidades de la misma de modo que la solución de revelado que gotea desde la superficie de la placa de resina fotosensible puede pasar a través de la mencionada lámina porosa.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: ASAHI KASEI KOGYO KABUSHIKI KAISHA.
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 2-6, DOJIMAHAMA 1-CHOME, KITA-KU,OSAKA-SHI, OSAKA 530-8205.
Inventor/es: OGAWA, NOBUO, KOJIMA, TSUTOMU.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 22 de Diciembre de 1998.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/30 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Eliminación según la imagen utilizando medios líquidos.
Países PCT: Bélgica, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Oficina Europea de Patentes.
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