Inventos patentados en España en los últimos 60 años.
Clasificación por categorías, empresas e inventores. Clasificación Internacional de Patentes CIP 2007.
ESTRUCTURA RETICULAR POLIMERA FOTOSENSIBLE.
Resumen: Estructura reticular polímera fotosensible que comprende una estructura reticular amorfa y un componente fotorreactivo.
Solicitante: MNEMOSCIENCE GMBH
Nacionalidad: DE
Inventor/es: LENDLEIN, ANDREAS. JIANG, HONGYAN. JUNGER, OLIVER
Fecha de Publicación de la Concesión: 16/02/2007
Fecha Solicitud PCT: 17/12/2003
Fecha Concesión Europea: 24/05/2006
Clasificación Principal: A61L27/14
Países PCT: AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LI, LU, NL, SE, MC, PT, IE, SI, FI, RO, CY, EPO, LT, LV, MK, AL
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DISPOSITIVO Y MAQUINA PARA LA EXTRACCION DE UNA SUSTANCIA PARA LA PRODUCCION DE BEBIDAS. >>