ELEMENTO DE FUNDO PARA UN DISPOSITIVO PARA EL TRATAMIENTO DE MATERIAL DE PARTICULAS.

Resumen: Elemento de fondo para un dispositivo para el tratamiento de material de partículas, con un fondo plano (12, 50, 60, 70), en el cual están dispuestas numerosas aberturas para hacer pasar un medio de tratamiento (84) a través de dicho fondo (12, 50, 60, 70), y con medios para imponer a dicho medio de tratamiento que pasa a través del fondo (12, 50, 60, 70) una componente de movimiento en dirección del plano del fondo (40, 51, 61), consistiendo el fondo (12, 50, 60, 70) de un cuerpo en forma de placa (13), que tiene las aberturas en el fondo (12, 50, 60, 70) en la forma de ranuras (16, 23-26, 32-36, 56, 58, 62-64, 72, 74, 78, 79) que se han producido por la supresión de material desde el material del fondo (12, 50, 60, 70), y siendo las secciones transversales (46, 48) de las ranuras inclinadas con respecto al plano del fondo (40, 51, 61), de manera que imponen la componente de movimiento en dirección del plano de fondo, caracterizado por el hecho que, para la limpieza del elemento de fondo, la sección transversal inclinada (48) de las aberturas se va estrechando aún más en la dirección del lado del fondo (12) en el cual se posa el material de partículas.

Solicitante: HUTTLIN GMBH

Nacionalidad: DE

Inventor/es: GROSS, MARTIN. WERNER, THOMAS

Fecha de Publicación de la Concesión: 01/04/2005

Fecha Solicitud PCT: 24/03/2001

Fecha Concesión Europea: 01/09/2004

Clasificación Principal: B01J8/44

Países PCT: AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LI, LU, NL, SE, MC, PT, IE, SI, FI, RO, CY, EPO, LT, LV, MK, AL, AM, AZ, BY, GH, GM, KE, KG, KZ, LS, MD, MW, MZ, RU, SD, SL, TJ, TM, TZ, UG, ZW, BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG, ARIPO, SZ, GW, OAPI, EAPO