DISPOSICION PARA TRATAMIENTO TERMICO.

Disposición para tratamiento térmico, compuesta de un dispositivo transportador permeable a los gases y varias cámaras dispuestas por encima y por debajo,

separadas entre sí por paredes, cámaras que están recorridas sucesivamente desde arriba hacía abajo por los gases de escape de un horno de coción de terminación conectado posteriormente, caracterizada porque la carga de material está constituida como recipiente de calentamiento previo de doble pared, obturable por arriba, cuyas paredes laterales están formadas parcialmente por las paredes laterales de la cámara desecadora corta y cuyas paredes superiores están provistas de aberturas dirigidas hacía abajo, cubiertas por tejado, penetrando una parte de los gases de escape desde la cámara desecadora a través de aberturas al recipiente de carga, y corren por el material en corriente transversal, mientras que los restantes gases de escape son aspirados a través de la capa de material, que se encuentran sobre el emparrillado

Tipo: Patente de Invención. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: P0239013.

Solicitante: POLYSIUS G. M. B. H..

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Fecha de Solicitud: 7 de Diciembre de 1957.

Fecha de Publicación: .

Fecha de Concesión: 15 de Abril de 1958.

Clasificación antigua:

  • B01J TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES.B01 PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL.PROCEDIMIENTOS QUÍMICOS O FÍSICOS, p. ej. CATÁLISIS O QUÍMICA DE LOS COLOIDES; APARATOS ADECUADOS.
DISPOSICION PARA TRATAMIENTO TERMICO.

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