BAÑO ELECTROLITICO DESTINADO PARA EL DEPOSITO ELECTROQUIMICO DEL PALADIO O DE SUS ALEACIONES.

Resumen: Baño electrolítico acuoso de pH ácido para el depósito electroquímico del paladio o de sus aleaciones que comprende un compuesto del paladio y, de manera opcional, al menos un compuesto de un metal secundario destinado a codepositarse en forma de aleación con el paladio y que comprende además etilendiamina como agente complejante del paladio y un agente abrillantador orgánico, caracterizado porque dicho agente abrillantador es el ácido 3-(3-piridil) acrílico, el ácido 3-(3-quinolil) acrílico o una de sus sales, preferentemente una de sus sales alcalinas.

Solicitante: ENGELHARD-CLAL SAS

Nacionalidad: FR

Inventor/es: GONZALEZ, JOSE. CHALUMEAU, LIONEL. LIMAYRAC, MICHEL

Fecha de Publicación de la Concesión: 16/12/2004

Fecha Solicitud PCT: 05/04/2001

Fecha Concesión Europea: 17/03/2004

Clasificación Principal: C25D3/56, C25D3/52

Países PCT: AT, BE, CH, DE, DK, ES, FR, GB, GR, IT, LI, LU, NL, SE, MC, PT, IE, SI, FI, RO, CY, EPO, LT, LV, MK, AL, AM, AZ, BY, GH, GM, KE, KG, KZ, LS, MD, MW, MZ, RU, SD, SL, TJ, TM, TZ, UG, ZW, BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, ML, MR, NE, SN, TD, TG, ARIPO, SZ, GW, OAPI, EAPO