99 patentes, modelos y diseños de WACKER CHEMIE AG

  1. 1.-

    Tratamiento de superficies de acero

    (12/2015)

    Uso de alcoxisilanos alfa-aminofuncionales para el tratamiento de superficies de acero con contenido en fósforo que son expuestas seguidamente a una atmósfera corrosiva de una mezcla gaseosa a base de humedad residual, cloro, cloruro de hidrógeno, clorosilanos, hidrógeno y eventualmente silicio elemental reactivo.

  2. 2.-

    Procedimiento para la preparación de hidroxitirosol

    (11/2015)

    Procedimiento para la preparación de hidroxitirosol, caracterizado por que un compuesto de la fórmula general **Fórmula** en donde X significa CH2OH o CH2OM (M ≥ Li, Na, K, Mg, Ca), R1 y R2 son iguales o diferentes y significan un radical alquilo con 1 a 8 átomos de carbono, un radical bencilo, un radical bencilo sustituido con alquilo o halógeno, o un radical arilalquilo, en donde R1 y R2 pueden estar también enlazados a través de**Fórmula** para formar un anillo, R3, R4, R5 y R6 son iguales o diferentes y significan un radical hidrógeno o alquilo con 1 a 6 átomos de carbono, un radical arilo, un radical arilo alquil-sustituido, en donde R5 y R6 pueden estar enlazados también a través...

  3. 3.-

    Polvos de organosiliconato, un procedimiento para su producción, así como su uso, en particular para la hidrofobización de materiales de construcción minerales

    (11/2015)

    Sales (P) sólidas de organosilanoles, de sus productos de hidrólisis/condensación o de organosilanoles junto con sus productos de hidrólisis/condensación con cationes de metales alcalinos, en los que la relación molar de catión a silicio es de 0,5 a 3 y de las que al menos 1% en moles y a lo sumo 99% en moles de los radicales orgánicos presentes se eligen de radicales metilo y etilo y los restantes radicales orgánicos contienen al menos 4 átomos de C, que se pueden preparar según un procedimiento en el que, en una primera etapa, organosilanoles de la fórmula general 1 (R1)aSi(Y)b (-Si(R2)3-c (Y)c)d o sus productos de hidrólisis/condensación, o los organosilanos de la fórmula general 1 junto con sus productos de hidrólisis/condensación, en...

  4. 4.-

    Procedimiento para la reacción endotérmica en fase gaseosa en un reactor

    (07/2015)

    Procedimiento para la conversión química del tetracloruro de silicio con hidrógeno en el triclorosilano en un reactor, en el que unos eductos gaseosos se introducen en el reactor a través de un dispositivo de entrada de gases y éstos son distribuidos uniformemente, mediante un dispositivo de distribución de gases, en una zona de calefacción, en la que los eductos gaseosos son calentados mediante unos elementos de calefacción a una temperatura media de 500-1.500°C, y a continuación son conducidos a una zona de reacción, regulándose el calentamiento de los elementos de calefacción mediante unas mediciones de la temperatura en la zona de...

  5. 5.-

    Nuevos mutantes de proNGF y usos de los mismos en la producción de beta-NGF

    (05/2015)

    Un mutante de proNGF en el que el sitio de disociación con proteasas R1SK3R4 está sustituido en las posiciones R1 y K3, correspondientes a las posiciones 101 y 103 de la secuencia de un proNGF de tipo silvestre humano (SEQ ID NO: 1), por valina en la posición 101 y por alanina en la posición 103.

  6. 6.-

    Dispositivo protector para sistemas de fijación de electrodos en unos reactores de CVD

    (05/2015)

    Un dispositivo destinado a la protección de unos sistemas de fijación de electrodos en unos reactores de CVD, que comprende un electrodo apropiado para el alojamiento de una barra filamentosa, que está situado sobre un sistema de fijación de un electrodo hecho a base de un material conductivo de la electricidad, que está colocado dentro de un rebajo de una placa de fondo, siendo estanqueizado con un material de estanqueidad un espacio intermedio existente entre el sistema de fijación de un electrodo y la placa de fondo y siendo protegido el material de estanqueidad por medio de un cuerpo protector constituido...

  7. 7.-

    Procedimiento y dispositivo para la conversión química del tetracloruro de silicio en el triclorosilano

    (05/2015)

    Procedimiento para la hidrogenación de clorosilanos en un reactor, incorporándose en una zona de reacción, por separado unas de otras, por lo menos dos corrientes gaseosas de eductos, siendo conducida la primera corriente gaseosa de eductos, que contiene tetracloruro de silicio, a través de una primera unidad de intercambio de calor, en la que ella es calentada, y luego siendo conducida a través de una unidad de calefacción, y siendo calentada en este caso a una primera temperatura antes de que la primera corriente gaseosa de eductos alcance a la zona de reacción, y siendo calentada a una segunda temperatura la segunda corriente gaseosa de eductos, que contiene hidrógeno, a través de una segunda unidad...

  8. 8.-

    Partículas de material compuesto modificadas

    (05/2015)

    Procedimiento para la producción de partículas de material compuesto modificadas, en el que A) uno o más sólidos inorgánicos finamente divididos y uno o más polímeros orgánicos se mezclan en un disolvente o en una mezcla de varios disolventes, fijándose sólidos inorgánicos finamente divididos a polímeros orgánicos y, por consiguiente, formándose partículas de material compuesto, y basándose los polímeros orgánicos en a) 0,01 a 30% en peso, referido al peso total de los monómeros empleados en conjunto en la polimerización para la preparación de los polímeros orgánicos, de uno o varios monómeros etilénicamente insaturados con uno o varios grupos funcionales adicionales seleccionados del...

  9. 9.-

    Masa base de goma de mascar, preparado de goma de mascar producido a partir de la misma y procedimiento para su preparación

    (03/2015)

    Composición homogénea consistente en 15 - 45% en peso de poli(acetato de vinilo), 10-30% en peso de copolímeros de laurato de vinilo y acetato de vinilo, 15-45% en peso de cargas, 5-30% en peso de ceras o grasas, 1- 10% en peso de plastificantes y 1-10% en peso de emulsionantes.

  10. 10.-

    Biorreactor con un revestimiento de silicona

    (02/2015)

    Biorreactor producido a base de un material escogido entre el conjunto que se compone de un vidrio, un poli(metacrilato de metilo), un poliéster, un policarbonato, una poliamida, un poliestireno, un polietileno, un poli(cloruro de vinilo), un acero y un acero inoxidable, para la cultivación de organismos fotótrofos en un medio de cultivación acuoso, cuyas piezas o partes del reactor, que entran en contacto con el medio de cultivación, están revestidas, total o parcialmente, con una capa de silicona, teniendo la superficie de la capa...

  11. 11.-

    Fragmento de silicio policristalino y procedimiento para la limpieza de fragmentos de silicio policristalino

    (11/2014)

    Fragmento de silicio policristalino con una concentración de carbono en la superficie de 0,5-35 ppbw.

  12. 12.-

    Masa de base no pegajosa para gomas de mascar, preparado de goma de mascar que se ha producido a partir de ella y un procedimiento para su producción

    (11/2014)

    Composición homogénea que se compone de un poli(acetato de vinilo) en una proporción de 25 - 90 % en peso, de un copolímero de laurato de vinilo y acetato de vinilo en una proporción de 5 - 70 % en peso, así como de un agente plastificante en una proporción de 1 % - 15 % en peso, en cada caso referida al peso total de la composición.

  13. 13.-

    Agente de revestimiento para la producción de revestimientos permanentemente flexibles

    (10/2014)

    Agentes de revestimientos que están constituidos sobre la base de uno o varios agentes aglutinantes minerales, uno o varios polímeros, uno o varios materiales de carga y eventualmente uno o varios aditivos, caracterizados por que están contenidos de 2 a 30 % en peso de una cal, referido al peso en seco de los agentes de revestimiento, como un agente aglutinante mineral, y de 0 a 3 % en peso de unas fibras, referido al peso en seco de los agentes de revestimiento, y siendo los agentes aglutinantes minerales una cal en un 80 hasta...

  14. 14.-

    Silicio policristalino

    (09/2014)

    Silicio policristalino que ha sido depositado a partir del triclorosilano sobre una barra filamentosa constituida a base de silicio, con unas concentraciones de sustancias dopantes de 1-10 ppta de boro, 1-20 ppta de fósforo, 1-10 ppta de arsénico, y 0,01-1 ppta de aluminio, así como con una duración de vida útil de los portadores de cargas eléctricas de por lo menos 2.000 y de a lo sumo 4.500 μs.

  15. 15.-

    Fragmento de silicio policristalino pobre en sustancias dopantes

    (09/2014)

    Fragmento de silicio policristalino con una concentración de 1-50 ppta de boro y 1-50 ppta de fósforo junto a la superficie.

  16. 16.-

    Paquete de silicio policristalino y procedimiento para el empaquetamiento

    (08/2014)

    Paquete de silicio policristalino, en forma de uno o varios fragmentos o de uno o varios cuerpos circulares con la forma de una barra, que está rodeado por al menos una lámina que tiene un espesor de 10 a 1.000 μm, que abraza al silicio policristalino, caracterizado por que esta por lo menos una lámina está rodeada por otra lámina adicional con una estructura de refuerzo o por un elemento que establece la forma.

  17. 17.-

    Electrodo para una batería eléctrica de iones de Li con un copolímero de poliéter y siloxano como agente aglutinante

    (07/2014)

    Un electrodo para una batería eléctrica de iones de Li, que como agente aglutinante contiene un copolímero de poliéter y siloxano reticulado (V), que se puede preparar mediante una reticulación de unos macrómeros de siloxanos (S) de la fórmula general promedia HaR1 bSiO(4-a-b) / 2 , en la que R1 es un radical hidrocarbilo de C1-C18, monovalente, que está enlazado a través de SiC, el cual está exento de enlaces múltiples de carbono-carbono alifáticos y a y b son unos números enteros no negativos, con la condición de que ha de realizarse que 0,5

  18. 18.-

    Procedimiento y dispositivo para la dosificación y el envasado de fragmentos de polisilicio

    (07/2014)

    Dispositivo para la dosificación y el envasado de fragmentos de polisilicio que contiene a) una unidad dosificadora para un dispositivo para la dosificación de fragmentos de polisilicio que comprende un canal transportador, adecuado para el transporte de una corriente de producto de fragmentos de polisilicio, al menos un tamiz, adecuado para la separación de la corriente de producto en fragmentos de polisilicio toscos y finos, un canal dosificador de partículas toscas para fragmentos de polisilicio toscos y un canal dosificador de partículas finas para fragmentos de polisilicio finos, una balanza dosificadora para la determinación del peso de dosificación, en donde el al menos un tamiz y la balanza dosificadora comprenden...

  19. 19.-

    Procedimiento para el envasado de silicio policristalino

    (06/2014)

    Procedimiento para el envasado de silicio policristalino, en el que silicio policristalino se introduce por medio de un dispositivo de llenado en una bolsa de material sintético, en donde el dispositivo de llenado comprende un absorbedor de energía suspendido libremente a base de un material poco contaminante no metálico, caracterizado por que la bolsa de material sintético es hecha pasar sobre el absorbedor de energía, se introduce silicio policristalino y la bolsa de material sintético se hace descender durante el llenado, de manera que el silicio se deslice en la bolsa de material sintético, en donde...

  20. 20.-

    Silicio policristalino y procedimiento para su producción

    (04/2014)

    Un silicio policristalino que contiene trozos machacados de silicio policristalino, teniendo por lo menos un 90 % de los trozos machacados un tamaño de 10 hasta 40 mm, caracterizado por unas proporciones de partículas de polvo fino de silicio más pequeñas que 15 ppmw para unos tamaños de partículas más pequeños que 400 μm, más pequeñas que 14 ppmw para unos tamaños de partículas más pequeños que 50 μm, más pequeñas que 10 ppmw para unos tamaños de partículas más pequeños que 10 μm y más pequeñas que 3 ppmw para unos tamaños de partículas más pequeños que 1 μm, y caracterizado además...

  21. 21.-

    Procedimiento para la producción de un polisilicio

    (03/2014)

    Procedimiento para la producción de un polisilicio, que comprende a) un proceso de deposición de un silicio policristalino sobre unos filamentos en un reactor de deposición mediante un gas de reacción que contiene un componente que contiene silicio, el cual comprende triclorosilano, e hidrógeno, siendo por lo menos de 25 % la saturación molar del componente que contiene silicio en lo que se refiere al hidrógeno; b) la aportación de un gas de salida que sale del proceso de deposición a un dispositivo para el enfriamiento del gas de salida, i) siendo conducidos los componentes que se condensan por medio del enfriamiento, del...

  22. 22.-

    Partículas de materiales compuestos con unos dominios orgánicos e inorgánicos

    (02/2014)

    Partículas de materiales compuestos obtenibles mediante una reacción de a) uno o varios óxidos inorgánicos (partículas de óxidos) con un diámetro medio de< 1.000 nm, b) uno o varios polímeros orgánicos y c) uno o varios reactivos de acoplamiento, uniéndose las partículas de óxidos a) y los polímeros orgánicos b) a través de unas unidades de reactivos de acoplamiento c), caracterizadas por que como polímeros orgánicos b) se emplean uno o varios compuestos polimerizados de α) uno o varios monómeros etilénicamente...

  23. 23.-

    Procedimiento para la preparación de acetato de vinilo

    (12/2013)

    Procedimiento para la preparación de acetato de vinilo en un proceso en fase gaseosa continuo, catalizado de forma heterogénea, mediante reacción de etileno con ácido acético y oxígeno en un reactor, y separación de la corriente de gas producto que contiene esencialmente etileno, acetato de vinilo, ácido acético, agua, dióxido de carbono y gases inertes, en que a) la corriente de gas producto se introduce en una primera columna de destilación (columna de deshidratación previa), b) la mezcla de gases que sale en la parte superior de la primera columna de destilación se enfría hasta -20 a +50ºC, formando el condensado que resulta una fase acuosa y una fase orgánica, c) se retira la fase acuosa formada en...

  24. 24.-

    Biorreactor a base de materiales de silicona

    (12/2013)

    Biorreactor para el cultivo de organismos fotótrofos en un medio de cultivo acuoso, cuyas paredes del reactor que entran en contacto con el medio de cultivo están hechas, en su totalidad o en parte, de materiales de silicona, caracterizado por que los materiales de silicona están hechos de siliconas reticuladas por adición, y la superficie de los materiales de silicona presenta un ángulo de contacto con el agua de al menos 100º.

  25. 25.-

    Procedimiento para la purificación de clorosilanos por destilación

    (11/2013)

    Procedimiento para la purificación de clorosilanos por destilación, que comprende una puesta a disposición deuna mezcla de clorosilanos con un contenido de boro, que contiene TCS, DCS y STC y una purificación de la mezclade clorosilanos por destilación en varias columnas de destilación, caracterizado por que la mezcla de clorosilanospuesta a disposición es aportada a una columna de separación , cuyos parámetros de columna se escogen de talmanera que en una primera fracción procedente de la columna de separación están contenidas menos que 10ppm de STC y en una segunda fracción procedente de la columna de separación están contenidas menosque 10 ppm de TCS, en donde la fracción procedente de la columna de...

  26. 26.-

    Procedimiento para la producción de un silicio policristalino

    (10/2013)

    Procedimiento para la purificación de un silicio policristalino, en el que, por introducción de unos gases dereacción que contienen un componente, que contiene silicio, e hidrógeno, se deposita silicio en unos reactores, en elque un material condensado purificado, procedente de un primer proceso de deposición en un primer reactor, seaporta a un segundo reactor, y se utiliza en un segundo proceso de deposición en ese segundo reactor,caracterizado porque el primer y el segundo reactores comprenden en cada caso un circuito de hidrógeno separadoy el hidrógeno no consumido en los procesos de deposición se purifica en cada caso y se devuelve de retorno alcorrespondiente circuito de...

  27. 27.-

    Procedimiento y dispositivo para la producción de varillas finas de silicio

    (10/2013)

    Procedimiento para la producción de varillas finas de silicio, que comprende las siguientes etapas: a) habilitaciónde una varilla de silicio; b) corte secuencial de tablas de un grosor determinado a partir de la varilla por medio de undispositivo de aserrado, en donde la varilla es girada axialmente entre dos cortes consecutivos en cada caso en 90º oen 180º de manera que de cuatro cortes consecutivos tienen lugar por pares en cada caso dos de los cuatro cortes encaras radialmente enfrentadas de la varilla o en donde el corte de las tablas tiene lugar simultáneamente al mismotiempo en caras radialmente enfrentadas de la varilla; c) aserrado de las tablas cortadas para formar varillas finas...

  28. 28.-

    Utilización de copolímeros de ésteres vinílicos como aditivos de bajo perfil (LPA)

    (10/2013)

    Utilización de unos copolímeros de ésteres vinílicos y etileno, estabilizados con coloides protectores, en forma depolvos poliméricos, como aditivos de bajo perfil (LPA).

  29. 29.-

    Procedimiento parcialmente continuo para la polimerización en emulsión

    (09/2013)

    Procedimiento para la preparación de dispersiones poliméricas acuosas por medio de polimerización en emulsión iniciada en los radicales, en medio líquido, de éster vinílico y etileno y eventualmente otros comonómeros etilénicamente insaturados, en reactores de polimerización conectados en serie, caracterizado porque en una primera fase de polimerización discontinua se disponen previamente, al menos en parte, los precursores para la polimerización en el primer reactor de polimerización, y el resto se aporta dosificadamente, realizándose la polimerización a una presión p de 5 a 120 bar abs. y a una temperatura T de 20ºC a 120ºC, y en el caso de un grado de carga del reactor mayor...

  30. 30.-

    Procedimiento para el reciclaje de compuestos de alto punto de ebullición dentro de un sistema de clorosilano

    (08/2013)

    Procedimiento para la preparación de ácido silícico pirógeno, el cual se caracteriza por que se condensa el gasde escape procedente de la deposición de silicio policristalino a partir de clorosilano e hidrógeno y,subsiguientemente, se separa en una columna de destilación, siendo el producto de burbujas de esta columna dedestilación una fracción de compuestos de alto punto de ebullición consistente en 0,5 - 20% en peso declorosilanos de alto punto de ebullición, así como 99,5 - 80% en peso de tetracloruro de silicio, y está fracción decompuestos de alto punto de ebullición se vaporiza por completo y el vapor de clorosilano se conduce a unmechero y allí se...

  31. 31.-

    Método para la producción de acetato de vinilo

    (08/2013)

    Procedimiento para la producción de acetato de vinilo en un proceso continuo en fase gaseosa, catalizado heterogéneamente, mediante una conversión química de etileno con ácido acético y oxígeno en un reactor, y a) una separación de la corriente gaseosa de productos, que contiene en lo esencial etileno, acetato de vinilo, ácido acético, agua, dióxido de carbono y otros gases inertes, en diferentes procesos de destilación que contienen una columna de deshidratación previa, un lavador del gas en circuito y una columna azeotrópica, y b) una devolución al reactor de una corriente del gas en circuito que contiene etileno y CO2, realizándose que c)...

  32. 32.-

    Procedimiento para la producción de un silicio policristalino

    (06/2013)

    Procedimiento para la producción de un silicio policristalino, que comprende introducir un gas de reacción, quecontiene un componente con un contenido de silicio e hidrógeno, mediante una o varias toberas en un reactor conun volumen de espacios vacíos, limitado por medio de unas paredes con una determinada temperatura Tpared, quecontiene por lo menos una barra filamentosa calentada a una temperatura Tbarra, sobre la que se deposita silicio,caracterizado por que un número de Arquímedes Ar, que describe las condiciones de circulación en el reactor y quese calcula de la siguiente manera: Ar ≥...

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