9 patentes, modelos y diseños de OTSUKA CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  1. 1.-

    Titanato de potasio laminar, procedimiento de producción y material de fricción

    (05/2012)

    0ctatitanato de potasio laminar que tiene un diametro mayor medio de 1 -100 !m y una relacion de aspecto media (diametro mayor medio/diametro menor medio (grosor) ) de 3 - 500 obtenible mediante un procedimiento que incluye las etapas de sumergir el titanato laminar en una solucion de hidroxido de potasio a un pH no menor que 11, 5 pero por debajo de 13 para intercalar iones de potasio y despues realizar la calcinacion.

  2. 2.-

    TITANATO DE LITIO Y DE POTASIO DE TIPO LEPIDOCROCITA, MÉTODO PARA LA PREPARACIÓN DEL MISMO Y MATERIAL DE ROZAMIENTO

    (05/2011)

    Titanato de litio y de potasio de tipo lepidocrocita que tiene una composición representada por la fórmula K0,5-0,7Li0,27Ti1,73O3,85-3,95

  3. 3.-

    PROCEDIMIENTO PARA LA REDUCCION DE AGUA EN UN AGENTE DE SOPLADO

    (02/2010)

    Un proceso para reducir el contenido en agua de un agente de soplado a menos de 0,03% en peso, tratándose el agente de soplado seleccionado del grupo que consiste en azodicarbonamida, p,p''-oxibis(bencenosulfonil hidrazida), dinitropentametilentetramina, p-toluensulfonil hidrazida y bencenosulfonil hidrazida, con al menos un agente de tratamiento superficial que es un agente de acoplamiento de aluminio seleccionado del grupo que consiste en isopropilato de aluminio, etilato de aluminio, tri(etilacetoacetato) de aluminio y diisopropilato de etil acetoacetato aluminio, recubriéndose después la superficie del agente de soplado con hidróxido de aluminio, calentándose...

  4. 4.-

    COMPUESTOS DE CIANOMETILENO, PROCEDIMIENTO PARA SU PRODUCCION, Y BACTERICIDA AGRICOLA U HORTICOLA

    (01/2010)

    Compuesto de cianometileno representado por la fórmula **(Ver fórmula)** en la que R es fenilo; y el fenilo puede estar sustituido con por lo menos un sustituyente seleccionado de entre halógeno, alquilo C1-4, haloalquilo C1-4, alcoxi C1-4, haloalcoxi C1-4, alquil C1-4 carbonilo, alquil C1-4 tio y ciano; R1 es fenilo o piridilo; y el fenilo y el piridilo pueden estar sustituidos con por lo menos un sustituyente seleccionado de entre el grupo que consiste en átomo de halógeno, alquilo C1-4, haloalquilo C1-4, alcoxi C1-4, haloalcoxi C1-4, alcoxi C1-4 carbonilo, alquil C1-4 amino, alquil di-C1-4 amino, alquenilo C2-4, alquil C1-4 tio, alquil C1-4 sulfinilo, alquil C1-4 sulfonilo,...

  5. 5.-

    ACILACETONITRILOS, PROCEDIMIENTO PARA SU PREPARACION Y ACARICIDAS QUE LOS CONTIENEN

    (05/2008)
    Ver ilustración. Inventor/es: TAKAHASHI, NOBUYOSHI, GOTODA,SATOSHI, ISHII,NAOKI, SASAMA,YASUHIRO. Clasificación: C07C255/41, C07C253/30, A01N37/34, C07C323/12, C07C327/22, A01N37/42.

    Compuesto de acilacetonitrilo representado por la fórmula : en la que R1 representa -C(O)ZR2; R2 representa alquilo C1-6, haloalquilo C1-4, alquenilo C2-4, alquinilo C2-4, alcoxi C1-6-alquilo C1-4, alquiltio C1-4-alquilo o bencilo C1-4; Z representa oxígeno o azufre; X e Y independientemente representan halógeno, alquilo C1-6 o haloalquilo C1-4; m y n son independientemente un entero de 1 a 3; y m de X y n de Y pueden ser iguales o diferentes, respectivamente.

  6. 6.-

    COMPUESTO ELECTROCONDUCTOR EN FORMA DE COPOS Y COMPOSICION ELECTROCONDUCTORA

    (11/2007)
    Ver ilustración. Inventor/es: HAREYAMA,YUKIYA, OGAWA,HIDETOSHI. Clasificación: H01B1/08, C08K9/02, C08L101/00, C23C28/04, C23C30/00, H01B1/00, H01B5/00.

    Compuesto conductor en forma de copos caracterizado porque comprende óxido de titanio que tiene un diámetro mayor promedio de 1 - 100 mim y un espesor promedio de 0, 01 - 1, 5 mim y que contiene el 0, 3 - 5% en peso de potasio en lo que se refiere al óxido de potasio (K2O), una primera capa conductora que comprende óxido de estaño que contiene antimonio y proporcionada sobre una superficie del óxido de titanio, y una segunda capa conductora que comprende óxido de estaño y proporcionada sobre la primera capa conductora.

  7. 7.-

    TITANATO DE MAGNESIO Y POTASIO DE TIPO LEPIDOCRACITA Y METODO PARA SU PRODUCCION, Y MATERIAL DE FRICCION.

    (09/2006)
    Ver ilustración. Inventor/es: OGAWA, HIROSHI, C/O OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.,, TAKAHASHI, SHIGEO, C/O OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.,, ITOI, NOBUKI, C/O OTSUKA CHEMICAL CO., LTD.,, INADA, KOUSUKE, C/O OTSUKA CHEMICAL CO., LTD. Clasificación: C08K3/22, C09K3/14, C01G23/00.

    Titanato de magnesio y potasio de tipo lepidocrocita que tiene una composición representada por la fórmula K0, 2- 0, 7Mg0, 4Ti1, 6O3, 7-4.

  8. 8.-

    COMPUESTO FENOXIFOSFACENO RETICULADOS, PROCEDIMIENTO PARA SU PREPARACION, COMPOSICIONES DE RESINA IGNIFUGAS Y RESINAS MOLDEADAS IGNIFUGAS.

    (12/2004)

    Compuesto fenoxifosfaceno reticulado, caracterizado porque: al menos un compuesto fosfaceno seleccionado de entre el grupo formado por un compuesto fosfaceno cíclico representado por la fórmula **(fórmula)** en la cual m es un número entero entre 3 a 25 y Ph es un grupo fenilo, y un compuesto fosfaceno de cadena lineal o ramificada representado por la fórmula **(fórmula)** en la cual X1 representa un grupo -N = P(OPh)3 o un grupo -N=P(O)OPh, Y representa un grupo -P(OPh)4 o un grupo -P(O)(OPh)2, y n es un número entero entre...

  9. 9.-

    AGENTE DE SOPLADO EN POLVO Y PROCEDIMIENTO PARA PREPARARLO.

    (07/2004)
    Inventor/es: MAEKAWA, TSUKASA, TAKAO, TOSHINORI, SHONO, SADAFUMI, YASUMARU, CHIAKI, SUMITOMO, SHIGERU, UEDA, NOBUYUKI, TACHI, YOSHIFUMI. Clasificación: C08K9/04, B01J2/30, C08K5/23.

    LA INVENCION SE REFIERE A UN POLVO QUE COMPRENDE UN AGENTE SOPLANTE EN POLVO, QUE ESTA REVESTIDO CON AL MENOS UNA SUSTANCIA DE TIPO OLEOSO SOBRE SU SUPERFICIE. SE DESCRIBE TAMBIEN UN PROCEDIMIENTO DE PRODUCCION DE DICHO POLVO QUE COMPRENDE UN NUCLEO DE POLVO DE AGENTE SOPLANTE, QUE ESTA REVESTIDO CON AL MENOS UNA SUSTANCIA OLEOSA SOBRE SU SUPERFICIE. DICHO PROCEDIMIENTO COMPRENDE LAS SIGUIENTES FASES (A) Y (B): (A) AÑADIR AL MENOS UNA SUSTANCIA OLEOSA EN FORMA DE NIEBLA A UN POLVO DE AGENTE SOPLANTE; Y (B) MEZCLAR DICHA SUSTANCIA CON EL POLVO DE AGENTE SOPLANTE, BAJO CONDICIONES TALES QUE EL POLVO DE AGENTE SOPLANTE ES MENOS SUSCEPTIBLE DE PULVERIZACION.