20 patentes, modelos y diseños de LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT

  1. 1.-

    DISPOSITIVO PARA LA SUPRESION DE SALTOS DE CHISPAS.

    (01/1996)
    Inventor/es: TESCHNER, GOTZ, DIPL.-ING. Clasificación: H01J37/32, H02H3/44, H02H7/00.

    LA INVENCION SE REFIERE A UNA DISPOSICION DEL CIRCUITO PARA LA SUPRESION DE SALTOS DE CHISPAS EN UN PLASMA, PARA LO CUAL EXISTE UNA TENSION EN LA RUTA DEL PLASMA . EL VALOR INSTANTANEO DE LA TENSION DE LA RUTA DEL PLASMA SE COMPARA CON UN VALOR MEDIO DE LA TENSION, EL CUAL FUE HALLADO DENTRO DE UN TIEMPO PREFIJADO. SI LA DIFERENCIA ENTRE EL VALOR INSTANTANTEO Y EL VALOR MEDIO SUPERA UNA CANTIDAD PREFIJADA, SE SEPARA LA RUTA DEL PLASMA DE LA TENSION.

  2. 2.-

    PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA RECUBRIR UN SUBSTRATO, ESPECIALMENTE CON CAPAS SIN CONDUCTIVIDAD ELECTRICA.

    (09/1995)

    EN UN PROCEDIMIENTO Y UN DISPOSITIVO PARA LA APLICACION DE CAPAS A UN SUBSTRATO DE OBJETOS CON CONDUCTIVIDAD ELECTRICA EN ATMOSFERA REACTIVA (FIG. 1), COMPUESTO DE UNA FUENTE DE CORRIENTE QUE ESTA UNIDA A LOS CATODOS DISPUESTOS EN UNA CAMARA DE REVESTIMIENTO EVACUABLE , QUE ACTUAN DE FORMA ELECTRICA CONJUNTA CON LOS OBJETOS , EN EL QUE DOS ANODOS ELECTRICOS ESTAN DISPUESTOS SEPARADOS DE LA CAMARA DE PULVERIZACION , QUE ESTAN PREVISTOS EN UN PLANO ENTRE LOS CATODOS Y EL SUBSTRATO , POR LO QUE LAS DOS SALIDAS (12A,12B) DEL DEVANADO SECUNDARIO DE UN TRANSFORMADOR , UNIDO CON UN GENERADOR DE FRECUENCIA MEDIA BAJO LA...

  3. 3.-

    DISPOSITIVO PARA EL COLADO, RECUBRIMIENTO, PINTADO, VERIFICADO Y CLASIFICADO AUTOMATICO DE PIEZAS

    (08/1995)

    EN UN DISPOSITIVO PARA EL COLADO, RECUBRIMIENTO, PINTADO, VERIFICADO Y CLASIFICADO AUTOMATICO DE PIEZAS DE ALMACENES DE DATOS OPTICOS O MAGNETOOPTICOS ENOS, UN DISPOSITIVO DE TRANSPORTE QUE LLEVA LOS SUBSTRATOS DESDE UNA ESTACION DE FABRICACION A LAS ESTACIONES DE PROCESADO Y CADA VEZ CON UNA ESTACION DE DEPOSITADO PARA EL DEPOSITADO SEPARADO DE PIEZAS PROCESADAS EN ACABADO Y ENCONTRADAS PERFECTAS Y DE PIEZAS AFECTADAS DE DEFECTOS, ESTA PREVISTO UN DISPOSITIVO PARA EL TRANSPORTE DE SUBSTRATOS CON UN CARRO DE TRANSPORTE CON MOVIMIENTO DE VAIVEN A LO LARGO DE UNA...

  4. 4.-

    DISPOSITIVO PARA EL REVESTIMIENTO CONTINUO DE SUBSTRATOS EN FORMA DE BANDAS.

    (08/1995)
    Inventor/es: GRIMM, HELMUT, DR., RUBSAM, KLEMENS. Clasificación: C23C14/56, C23C14/26.

    EN UN DISPOSITIVO PARA EL REVESTIMIENTO CONTINUO DE SUBSTRATOS EN FORMA DE BANDAS EN UN CAMARA DE REVESTIMIENTO AL VACIO, CON MUCHAS NAVECILLAS DE EVAPORACION (1, 1',...), DISPUESTAS A LO LARGO DE LA DIRECCION DE LA BANDA (A) Y PARALELAMENTE EN DISTANCIAS APROXIMADAMENTE IGUALES ENTRE SI, QUE FORMAN UN BANCO DE EVAPORACION, CASI DE IGUAL TAMAÑO Y CONFIGURACION, LAS CUALES ESTAN TODAS COMPUESTAS DE UNA CERAMICA CONDUCTORA ELECTRICA PUDIENDOSE CALENTAR POR EL PASO DIRECTO DE LA CORRIENTE ELECTRICA, Y EN LAS QUE SE HA PREVISTO UN DISPOSITIVO PARA LA ALIMENTACION CONTINUA DEL ALAMBRE A EVAPORAR HACIA LAS NAVECILLAS DE EVAPORACION; LAS CAVIDADES (K, K',...) DE LAS DISTINTAS NAVECILLAS DE EVAPORACION (1, 1'...) DEL BANCO DE EVAPORACION SE HAN DISPUESTO DE FORMA ALTERADA RESPECTIVAMENTE ENTRE SI, EN DONDE TODAS LAS CAVIDADES (K, K'...) CUBREN CONJUNTAMENTE UNA ZONA DE REVESTIMIENTO (B) DELGADA QUE SE EXTIENDE TRANSVERSALMENTE A LA DIRECCION DE MARCHA DE LA BANDA (A).

  5. 5.-

    DISPOSITIVO PARA EL RECUBRIMIENTO DE SUBSTRATOS PARA INSTALACION DE PULVERIZACION DE CATODO.

    (06/1995)
    Inventor/es: LUBBEHUSEN, MICHAEL, DR. Clasificación: C23C14/34, H01J37/34.

    SE DESCRIBE UN DISPOSITIVO PARA RECUBRIMIENTO DE SUBSTRATOS PARA INSTALACION DE PULVERIZACION DE CATODO, CON UN OBJETIVO DE FORMA PLANA DE GRANDES DIMENSIONES, SOBRE EL CUAL EL MATERIAL A DESPRENDER ESTA DISPUESTO EN UNA PISTA, FORMANDO UNA ZONA CERRADA, Y CON UNA DISPOSICION DE IMAN, QUE GENERA UN CAMPO MAGNETICO, CUYAS LINEAS DE CAMPO EN FORMA DE ARCO CUBREN EL OBJETIVO EN FORMA DE PISTA EN DIRECCION TRANSVERSAL. LA INVENCION SE CARACTERIZA PORQUE, AL MENOS SE HA PREVISTO DE UNA SEGUNDA ZONA CERRADA, QUE ESTA CONFIGURADA CON MATERIAL A DESMONTAR SEGUN UNA DISPOSICION EN FORMA DE PISTA, Y A LA QUE RODEA LA PRIMERA ZONA CERRADA, Y QUE LA PISTA DE LA PRIMERA Y LA PISTA DE LA SEGUNDA ZONA CERRADA ESTAN AISLADAS RESPECTIVAMENTE UNA DE OTRA DE FORMA ELECTRICA.

  6. 6.-

    DISPOSITIVO PARA LA GENERACION DE UN CAMPO DEL MICROONDAS REGULABLE.

    (06/1995)
    Inventor/es: GEISLER, MICHAEL, JUNG, MICHAEL, DIPL.-ING., KESSLER, BERNHARD, DIPL.-ING., LEUTERER, FRITZ, DIPL.-ING., MUNICH, MAX, DIPL.-ING., WILHELM, ROLF, DIPL.-PHYS. Clasificación: H01J37/32, H01P5/12, H01P5/08.

    LA INVENCION TRATA DE UN DISPOSITIVO PARA LA GENERACION DE UN CAMPO DEL MICROONDAS HOMOGENEO SOBRE UN RECORRIDO EXTENSO. ESTE DISPOSITIVO TIENE UN RESONADOR DE CAMARA HUECA , QUE SE PUEDE COLOCAR EN EL MICROONDAS. DE LAS ONDAS QUE SE FORMAN EN EL RESONADOR DE LA CAMARA DE VACIO SE ACOPLA DE FORMA INDUCTIVA O CAPACITIVA ENERGIA ELECTROMAGNETICA MEDIANTE UN ACOPLADOR ESPECIAL EN LA CAMARA , DONDE SE ENCUENTRA EL PLASMA.

  7. 7.-

    PROCEDIMIENTO Y DIRECTRICES PARA EL RECUBRIMIENTO DE SUSTRATOS MEDIANTE UN CATODO DE MAGNETRON.

    (03/1995)

    POR UN PROCEDIMIENTO PARA EL RECUBRIMIENTO DE SUSTRATOS MEDIANTE PULVERIZACION CATODICA SE UTILIZA UN CATODO DE MAGNETRON CON UNA RODELA CERRADA EN FORMA DE ANILLO . LA SUPERFICIE DE PULVERIZACION (9A) DE ESTA RODELA POSEE UN REBORDE INTERIOR (9C) Y UN REBORDE EXTERIOR (9D). EL SISTEMA MAGNETICO CORRESPONDIENTE CONSTA DE UN PRIMER POLO (7C), EN EL INTERIOR DEL REBORDE INTERIOR Y UN SEGUNDO POLO (7D) QUE ESTA DISPUESTO EN EL EXTERIOR DEL REBORDE EXTERIOR. EL TRANSCURSO DEL POLO ES IDENTICO GEOMETRICAMENTE AL TRANSCURSO DEL REBORDE DE LA RODELA. POR ELLO, SOBRE LA SUPERFICIE DE PULVERIZACION...

  8. 8.-

    PROCEDIMIENTO PARA EL RECUBRIMIENTO DE SUBSTRATOS.

    (02/1995)

    DISPOSITIVO (FIGURA 2) PARA EL RECUBRIMIENTO DE SUBSTRATOS (31, 31', ...) EN UNA CAMARA DE VACIO CON UN PORTASUBSTRATOS ALOJADO EN ELLA, CON UN DISPOSITIVO PARA GENERAR UNA NUBE DE PLASMA Y CON IMANES , QUE DESVIAN LA NUBE DE PLASMA HACIA LA SUPERFICIE DE LOS SUBSTRATOS (31, 31', ...). EL DISPOSITIVO PARA GENERAR LA NUBE DE PLASMA POSEE UN EMISOR DE ELECTRONES CON UN ANODO TUBULAR SITUADO DETRAS PROVISTO DE UNA ENTRADA PARA EL GAS DE PROCESO PARA LA IGNICION DEL PLASMA. PARA LA ORIENTACION Y LA CONDUCCION...

  9. 9.-

    DISPOSITIVO PARA LA REDUCCION DE LA FLEXION DE PAREDES EXTERIORES EN RECEPTACULOS DE VACIO.

    (11/1994)
    Inventor/es: PAWLAKOWITSCH, ANTON, DR., SCHONHERR, BERNHARD, DIPL.-ING. Clasificación: C23C14/56, B01J3/00, C23C14/22.

    DISPOSITIVO PARA LA REDUCCION DE LA FLEXION, ESENCIALMENTE DE PAREDES EXTERIORES PLANAS EN UNA CALDERA DE VACIO BAJO CONDICIONES DE SERVICIO, Y PARA EVITAR DESPLAZAMIENTOS, COMO CONSECUENCIA DE ELLO, EN ELEMENTOS CONSTITUTIVOS FIJADOS A ESTAS PAREDES EXTERIORES , COMO POR EJEMPLO RODILLOS DE INVERSION DE UN DISPOSITIVO DE ARROLLAMIENTO MOVIL FRENTE A LA CALDERA DE VACIO EN UNA INSTALACION DE REVESTIMIENTO DE CINTA AL VACIO, EN EL QUE SE HAN PREVISTO PIEZAS SEPARADORAS ENTRE DOS PAREDES EXTERIORES OPUESTAS.

  10. 10.-

    DISPOSITIVO PARA EL RECUBRIMIENTO DE SUSTRATOS CIRCULANTES DE CINTAS

    (08/1994)
    Inventor/es: HEINZ, JOCHEN, DR., RUBSAM, KLEMENS, ELVERS, BJORN, HARWARTH, GEORG, REIBOLD, ULRICH, ROSS, NORBERT. Clasificación: C23C14/56, C23C14/24.

    EN UN DISPOSITIVO DE RECUBRIMIENTO DE CAPAS CIRCULANTES DE SUSTRATOS DE CINTAS EN UNA CAMARA DE RECUBRIMIENTO AL VACIO Y QUE TIENE UN NUMERO DE NAVECILLAS DE EVAPORACION (1, 1'...) COLOCADOS A UNA DISTANCIA IGUAL ENTRE SI Y DE FORMA PARALELA Y LONGITUDINAL HACIA LA DIRECCION DEL RECORRIDO DE LA CINTA QUE FORMA UN BANCO EVAPORIZADOR Y QUE TIENE EL MISMO TAMAÑO Y CONFIGURACION, FORMADOS DE CERAMICA, CONDUCTOR DE ELECTRICIDAD Y QUE SE CALIENTA MEDIANTE UN PASO DE CORRIENTE DIRECTA, SE DISPONE DE UNA INSTALACION PARA LA ALIMENTACION CONTINUADA DEL ALAMBRE A EVAPORIZAR QUE VA HACIA LAS NAVECILLAS DE EVAPORIZACION. CADA UNA DE LAS NAVES DE EVAPORACION (1, 1'...) DEL BANCO EVAPORIZADOR ESTA COLOCADA DE FORMA ALTERNADA ENTRE SI, DE TAL FORMA QUE TODAS LAS NAVECILLAS DE EVAPORIZACION (1, 1'...) CUBREN UNA ZONA DE RECUBRIMIENTO (B) CONJUNTA Y DELGADA, QUE SE EXTIENDE DE FORMA TRANSVERSAL HACIA LA DIRECCION DEL RECORRIDO DE LA CINTA (B).

  11. 11.-

    EVAPORADOR EN SERIE PARA INSTALACIONES DE EVAPORACION EN VACIO.

    (02/1994)

    EN UN EVAPORADOR EN SERIE PARA INSTALACIONES DE EVAPORACION EN VACIO, CON VARIOS EVAPORADORES CONTROLABLES EN LA POTENCIA, CALENTADOS MEDIANTE EL PASO DE CORRIENTE, FIJADOS SOBRE CONDUCTOS DE ALIMENTACION ELECTRICA CONFIGURADOS EN FORMA DE TUBO, ESTANDO RETENIDOS LOS CONDUCTOS EN FORMA DE TUBO POR UN CUERPO DE SOPORTE CONDUCTOR ELECTRICO, QUE SE EXTIENDE SOBRE TODA LA LONGITUD DEL EVAPORADOR EN SERIE Y ESTANDO CONECTADOS LOS CONDUCTOS DE UNA POLARIDAD DE FORMA CONDUCTORA ELECTRICA CON EL CUERPO DE SOPORTE , MIENTRAS QUE LOS CONDUCTOS DE LA OTRA POLARIDAD ESTAN CONDUCIDOS AISLADOS POR EL CUERPO DE SOPORTE Y ESTAN CONECTADOS CON ALAMBRES CONDUCTORES...

  12. 12.-

    PATRON DE FILTRO

    (12/1993)
    Inventor/es: BERGES, HANNS-PETER, BACHMANN, PAUL, DR., LEIER, WOLFGANG. Clasificación: B01D27/06, B01D36/00, B01D27/02.

    EL INVENTO CONSISTE EN UN PATRON DE FILTRO PARA LIMPIEZA DEL ACEITE DE UNA BOMBA DE VACIO ESTANCA AL ACEITE, QUE SE FIJA DE MODO DESMONTABLE EN LA BOMBA DE VACIO Y CONTIENE MATERIALES DE FILTRO ; PARA ELEVAR EL TIEMPO DE POSICION DEL PATRON DE FILTRO SE PROPONE QUE SE LLEVE EN EL PATRON FILTRO UN PASO DE FILTRO QUE ACTUE MECANICAMENTE Y UNO QUE ACTUE QUIMICAMENTE Y QUE LOS PASOS DE FILTRO QUE ACTUAN MECANICAMENTE SE COLOQUEN LOS PASOS DE FILTRO QUE ACTUAN QUIMICAMENTE - EN DIRECCION DE LA CORRIENTE DEL ACEITE A LIMPIAR.

  13. 13.-

    DISPOSITIVO PARA SUJETAR Y GIRAR LENTES EN UNA INSTALACION DE METALIZACION A ALTO VACIO O RAPIDA, PARA CUBRIR GAFAS DE LENTES DE CRISTAL

    (12/1993)

    EL INVENTO SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA SUJETAR Y GIRAR LENTES EN UNA INSTALACION DE METALIZACION A ALTO VACIO O RAPIDA PARA CUBRIR GAFAS DE LENTES DE CRISTAL. EL INVENTO SE CARACTERIZA PORQUE EL DISPOSITIVO, DISPONE DE UN PAR DE ANILLOS QUE SOPORTAN LA LENTE A SUJETAR Y SE ALOJAN EN UN SUJETADOR EN FORMA DE SUSTRATO, QUE ESTA SITUADO EN LA CAMARA DE PROCESO DE LA INSTALACION A ALTO VACIO. EL DISPOSITIVO TIENE UNAS PIEZAS DE CHAPA QUE SE CONFORMAN A MODO DE SEMI CARCASA, FORMAN EL SUJETADOR QUE TIENE FORMA DE SUSTRATO Y GIRA ALREDEDOR DE UN EJE (33, 33') VERTICAL Y SE SOLAPAN A PARTIR DE CORTE DE CHAPA EN FORMA DE HOZ, PARA CONFORMAR UN RASTRILLO . EL RASTRILLO SE MANTIENE Y SE GUIA A PARTIR...

  14. 14.-

    SUJETADOR DE LENTES EN INSTALACIONES DE METALIZACION A ALTO VACIO O RAPIDA, PARA RECUBRIR GAFAS DE LENTES DE CRISTAL

    (12/1993)
    Inventor/es: KLINGENSTEIN, DIETER, KUNKEL, GEORG, MAHR, HEINZ, FLIEDNER, MICHAEL. Clasificación: G02C13/00, C23C14/50.

    EL INVENTO SE REFIERE A UN SUJETADOR DE LENTES EN INSTALACIONES DE METALIZACION A ALTO VACIO O RAPIDA, PARA CUBRIR GAFAS DE LENTES DE CRISTAL. DICHO INVENTO SE CARACTERIZA PORQUE: EL SUJETADOR DE LENTES SE CONFORMA COMO UN ANILLO PARA SOPORTAR LA LENTE A SUJETAR Y SE UNE CON UN FIJADOR DE LENTES EN FORMA DE SUSTRATO; EL FIJADOR SE MANTIENE DENTRO DE LA CAMARA DE PROCESO DE LA INSTALACION A ALTO VACIO, EN LA POSICION MAS CERCANA A LA FUENTE DE RECUBRIMIENTO Y COLOCA LA LENTE ESTRE DOS ANILLOS QUE SON ARRIOSTRADOS EN SENTIDO OPUESTO POR MUELLE EN FORMA DE ALAMBRES; EL PRIMER ANILLO ESTA EQUIPADO EN SU CUBIERTA EXTERIOR CON RAMPAS QUE COOPERAN CONJUNTAMENTE CON LOS MUELLES EN FORMA DE ALAMBRE Y SE FIJAN EN LA CUBIERTA RADIAL EXTERIOR DEL SEGUNDO ANILLO , Y UNO DE LOS ANILLOS PRESENTA EN LA CUBIERTA RADIAL EXTERIOR DOS PIVOTES DIAMETRALMENTE OPUESTOS, PARA APOYAR EL FIJADOR EN FORMA DE SUSTRATO EN LAS CORRESPONDIENTES HORQUILLAS QUE GIRAN CASI 180.

  15. 15.-

    PROCESO DE FABRICACION DE DISCOS DE ALTO COMPORTAMIENTO TRANSMISOR EN EL ESPECTRO VISIBLE Y CON ALTO COMPORTAMIENTO DE REFLEXION PARA RADIACIONES DE CALOR ASI COMO LOS DISCOS FABRICADOS POR ESTE PROCESO.

    (01/1993)
    Inventor/es: SZCZYRBOWSKI, JOACHIM, DR., HARTIG, KLAUS, DIETRICH, ANTON, DR.. Clasificación: C03C17/36.

    PROCESO DE FABRICACION DE DISCOS DE ALTO COMPORTAMIENTO DE TRANSMISION EN EL ESPECTRO VISIBLE Y DE ALTO COMPORTAMIENTO DE REFLEXION PARA RADIACIONES DE CALOR, ASI COMO BAJA RESISTENCIA SUPERFICIAL. SOBRE SUSTRATOS DE CRISTAL MINERAL SE VA MONTANDO UN SISTEMA DE CAPAS CON EL SIGUIENTE ORDEN: CAPA1: OXIDO DEL GRUPO DEL OXIDO ESTANNICO, DIOXIDO DE SILICIO, OXIDO DE ALUMINIO, OXIDO DE TANTALIO Y OXIDO DE CIRCONIO U OXIDOS DE SUS MEZCLAS. CAPA2: ALEACION DE 80% DEL PESO DE NIQUEL Y DE 20% DEL PESO DE CROMO. CAPA3: PLATA O UNA ALEACION DE PLATA CON UN CONTENIDO DE PLATA DE UN 50% DEL PESO COMO MINIMO. CAPA4: ALEACION DE 80% DEL PESO DE NIQUEL Y DE 20% DEL PESO DE CROMO. CAPA5: OXIDO DEL GRUPO DEL OXIDO ESTANNICO, OXIDO DE SILICIO, OXIDO DE ALUMINIO, OXIDO DE TANTALIO Y OXIDO DE CIRCONIO U OXIDOS DE SUS MEZCLAS. A CONTINUACION, SE CALIENTA EL SUSTRATO CON TODO EL CONJUNTO DE CAPAS A LA TEMPERATURA DE REBLANDECIMIENTO DEL CRISTAL Y SE DOBLA PARA DARLE LA FORMA DEFINITIVA.

  16. 16.-

    TURBOVENTILADOR RADIAL

    (12/1992)
    Inventor/es: KAISER, WINFRIED, FLEISCHMANN, FRANK, KABELITZ, HANS-PETER, DR. Clasificación: F04D29/62, F04D29/04, F04D25/06.

    SE DESCRIBE UN TURBOVENTILADOR RADIAL CON UNA CARCASA DEL MOTOR Y UNA UNIDAD GIRATORIA ALOJADA EN LA CARCASA Y CONFORMADA POR UNA TRANSMISION UN ROTOR DEL VENTILADOR Y UN MOTOR DE ANCLAJE . PARA REALIZAR SENCILLA Y CON PRECISION EN UN VENTILADOR EL MONTAJE, EL DESMONTAJE Y EL EQUILIBRADO SE PROPONE QUE LA UNIDAD GIRATORIA SE CONSTRUYA COMO UNIDAD DE QUITA Y PON DE LA CARCAS DEL MOTOR.

  17. 17.-

    DISPOSITIVO PARA LA MANIPULACION DE PLASMA DE SUSTRATOS EN UNA DESCARGA DE PLASMA ACTIVADA POR ALTA FRECUENCIA.

    (10/1992)
    Inventor/es: KIESER, JORG, DIPL.-PHYS., SELLSCHOPP, MICHAEL, DR. DIPL.-PHYS., GEISLER, MICHAEL DR. DIPL.-PHYS. Clasificación: C23C14/34, H01J37/32, H01J37/34.

    DISPOSITIVOS PARA LA MANIPULACION DE PLASMA DE SUSTRATOS EN UNA DESCARGA DE PLASMA ACTIVADA POR ALTA FRECUENCIA ENTRE DOS ELECTRODOS ABASTECIDOS POR UNA FUENTE DE ALTA FRECUENCIA . EL PRIMER ELECTRODO ESTA CONSTRUIDO COMO UN ANODO HUECO , Y EL SEGUNDO ELECTRODO , PORTADOR DEL SUSTRATO , ESTA SITUADO EN LA CAMARA HUECA DEL ANODO HUECO O POR DELANTE. ADEMAS EL ANODO HUECO MUESTRA UN BORDE ABIERTO EN DIRECCION AL SEGUNDO ELECTRODO QUE FORMA UNA HENDIDURA S1 DE UN MAXIMO DE 10 MM. DE ANCHURA FRENTE AL SEGUNDO ELECTRODO. PARA COLOCAR EL ANODO HUECO SIN CRITICA CON RESPECTO A LA ANCHURA DE LA HENDIDURA, SE HAN COLOCADO SALIDIZOS EN LA CAMARA HUECA DEL ANODO , QUE AUMENTAN LA SUPERFICIE INTERIOR. ESTOS SALIDIZOS ESTAN CONSTRUIDOS ESENCIALMENTE COMO ESTRUCTURA DE NERVADURA QUE PUEDE TOMAR LA FORMA DE ALVEOLO.

  18. 18.-

    PROCEDIMIENTO PARA EL CONTROL DE UNA BOMBA DE VACIO LUBRIFICADA CON ACEITE

    (07/1992)
    Inventor/es: ABRAHAM, JEAN-LUC, CHAVAND, JEAN-LUC, JEZIOROWSKI, FREDERIQUE. Clasificación: F04C29/10, F16N29/04, F04D29/06.

    EL INVENTO SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO PARA EL CONTROL DEL CIRCUITO DE ACEITE EN UNA BOMBA DE VACIO LUBRIFICADA CON ACEITE, CON UN FILTRO DE ACEITE Y UN REFRIGERADOR DE ACEITE , ESTANDO ESTE PREPARADO COMO INTERCAMBIADOR DE CALOR Y POR EL QUE PASAN EL ACEITE Y UN PRODUCTO DE REFRIGERACION. SE CONSIGUE UN CONTROL EXACTO DE LA CORRIENTE DE ACEITE Y DEL ESTADO DEL FILTRO MIDIENDO BIEN LA TEMPERATURA DE LA CORRIENTE DEL ACEITE O LA DE LA CORRIENTE DEL PRODUCTO DE REFRIGERACION EN LA ENTRADA Y EN LA SALIDA DEL REFRIGERADOR DE ACEITE , COMPARANDO AMBAS TEMPERATURAS Y EMITIENDO UNA SEÑAL DE AVISO SI QUEDA POR DEBAJO O SOBREPASA UNA DETERMINADA DIFERENCIA DE TEMPERATURA.

  19. 19.-

    CONTACTO INTERMITENTE DE CRISTAL DE PRUEBA PARA MEDICION OPTICA DE PROPIEDADES DE REVESTIMIENTOS EN INSTALACIONES DE RECUBRIMIENTO AL VACIO.

    (03/1992)
    Inventor/es: LEHNERT, WALTER, ZULTZKE, WALTER. Clasificación: G01N21/00, G01N21/84.

    EN UN SOPORTE DE SUSTRATO QUE SIRVE PARA EL TRANSPORTE DE SUSTRATOS A TRAVES DE UNA CORRIENTE DE UN MATERIAL DE RECUBRIMIENTO ESTA COLOCADO UN SOPORTE PARA LA TOMA DE MAS VIDRIO DE PRUEBA EN FORMA MOVIL. UN DISPOSITIVO DE MANDO SIRVE PARA INTRODUCCION DE UN CRISTAL DE PRUEBA EN UN PASO DE RAYO (A-A) DE UN DISPOSITIVO DE MEDIDA Y EN LA CORRIENTE DEL MATERIAL DE RECUBRIMIENTO. EL DISPOSITIVO ES UN MECANISMO A PASO POR TRINQUETE POR EL QUE SE CONMUTA UN VIDRIO DE PRUEBA EN UNA POSICION ESTACIONARIA RELATIVA AL SOPORTE DE SUSTRATO EN EL QUE ALTERNANDO CON EL SUSTRATO SE CONDUCE EL DISPOSITIVO DE MEDIDA A TRAVES DEL PASO DE RAYO (A-A) Y EL MATERIAL DE RECUBRIMIENTO A TRAVES DE LA CORRIENTE.

  20. 20.-

    PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE PLANCHAS DE VIDRIO CON ALTO INDICE DE TRANSMISION EN EL CAMPO DEL ESPECTRO VISIBLE Y CON ALTO INDICE DE REFLEXION DE LAS RADIACIONES TERMICAS, ASI COMO LAS PLANCHAS DE VIDRIO OBTENIDAS POR ESTE PROCEDIMIENTO.

    (08/1991)
    Inventor/es: SZCZYRBOWSKI, JOACHIM, DR., HARTIG, KLAUS, DIETRICH, ANTON, DR.. Clasificación: C03C17/36.

    PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE PLANCHAS DE VIDRIO CON ALTO INDICE DE TRANSMISION EN EL CAMPO DEL ESPECTRO VISIBLE Y CON ALTO INDICE DE REFLEXION DE LAS RADIACIONES TERMICAS. SOBRE SUSTRATOS DE VIDRIO MINERAL SE APLICA UN SISTEMA DE CAPAS EN EL SIGUIENTE ORDEN DE SUCESION: CAPA 1: OXIDO DEL GRUPO DEL OXIDO DE ESTAÑO, DIOXIDO DE SILICIO, OXIDO DE ALUMINIO, OXIDO DE TANTALIO, OXIDO DE CIRCONIO O SUS OXIDOS MIXTOS; CAPA 2: METAL DEL GRUPO DEL TANTALIO, VOLFRAMIO, NIQUEL, HIERRO O SUS ALEACIONES; CAPA 3: PLATA O UNA ALEACION DE PLATA CON UNA PROPORCION DE PLATA DE UN 50% EN PESO POR LO MENOS; CAPA 4: METAL DEL GRUPO DEL TANTALIO, VOLFRAMIO, NIQUEL, HIERRO O SUS ALEACIONES; CAPA 5: OXIDO DEL GRUPO DEL OXIDO DE ESTAÑO, DIOXIDO DE SILICIO, OXIDO DE ALUMINIO, OXIDO DE TANTALIO, OXIDO DE CIRCONIO O SUS OXIDOS MIXTOS. A CONTINUACION EL SUSTRATO CON TODAS LAS CAPAS APLICADAS, SE CALIENTA A LA TEMPERATURA DE REBLANDECIMIENTO DEL VIDRIO Y SE SOMETE A CURVADO HASTA LA FORMA FINAL.