10 patentes, modelos y diseños de LEIBNIZ-INSTITUT FUR NEUE MATERIALIEN GEMEINNUTZIGE GMBH

  1. 1.-

    Agente de consolidación y su uso para la consolidación de cuerpos moldeados y formaciones geológicas que consisten en materiales porosos o en partículas

    (07/2015)

    Agente de consolidación exento de partículas para cuerpos moldeados y formaciones geológicas que consisten en materiales porosos o en partículas, que contienen un hidrolizado o precondensado de (a) al menos un organosilano de la fórmula general (I) RnSiX4-n (I) en la que los restos R son iguales o diferentes y representan grupos no disociables por hidrólisis, los restos X son iguales o diferentes y representan grupos disociables por hidrólisis o grupos hidroxilo y n tiene los valores 1, 2 o 3; y (b) al menos un silano hidrolizable de la fórmula general (II) SiX4 (II) en...

  2. 2.-

    Piezas de moldeo y capas nanoestructuradas y su elaboración mediante precursores hidrosolubles estables

    (11/2013)

    Procedimiento para elaborar una composición destinada a la preparación de piezas moldeadas y capas nanoestructuradas, el cual comprende la puesta en contacto de un sol acuoso y/o alcohólico de un compuesto de un elemento escogido entre el silicio y los metales de los grupos principales y secundarios, con compuestos provistos de grupos alcoxi hidrolizables que incluyen al menos un alcoxisilano orgánicamente modificado o un precondensado derivado del mismo, en condiciones que producen la hidrólisis (continua) de dichos compuestos; y la subsiguiente...

  3. 3.-

    Elementos ópticos con estructura de gradiente así como procedimiento para su producción

    (04/2013)

    Procedimiento para preparar elementos ópticos con estructura de gradiente, en particular para aplicacionesholográficas, en el que la estructura de gradiente se forma a través de un gradiente de índices de refracción con lassiguientes etapas: (a) preparar una composición que comprende uno o varios monómeros orgánicos polimerizables o policondensablesy al menos un líquido iónico; (b) generar una diferencia de potencial para la difusión dirigida de los monómeros con formación de un gradientede índices de refracción mediante la inducción de una polimerización...

  4. 4.-

    SUSTRATOS CON UN RECUBRIMIENTO INHIBIDOR DE BIOPELÍCULA

    (12/2011)

    Sustrato que tiene un recubrimiento inhibidor de biopelícula que comprende un condensado inorgánico modificado con grupos orgánicos y consiste en uno o más compuestos inorgánicos hidrolizables que tienen por lo menos un sustituyente no hidrolizable, en donde los compuestos inorgánicos hidrolizables comprenden uno o más fluorosilanos de la fórmula general (II): Rf(R)bSiX(3-b) (II) en donde los restos R son iguales o diferentes y representan grupos no hidrolizables, los restos X son iguales o diferentes y significan grupos hidrolizables o hidroxilo, Rf es un grupo no hidrolizable, que presenta 1 a 30...

  5. 5.-

    PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA FABRICAR MATERIALES ÓPTICOS ESTRUCTURADOS

    (12/2011)

    Procedimiento para fabricar materiales ópticos estructurados, caracterizado porque sobre un cilindro de máscara giratorio de material transparente, que se presiona contra al menos dos rodillos de soporte , se aplica material óptico , porque se realiza una estructuración del material óptico en la zona entre los rodillos de soporte , y porque a continuación el material óptico estructurado se deslamina del cilindro de máscara

  6. 6.-

    MATERIALES COMPUESTOS

    (07/2011)

    UN MATERIAL COMPUESTO SE CARACTERIZA POR UN SUBSTRATO Y POR UN NANOCOMPUESTO EN CONTACTO FUNCIONAL CON EL MISMO, OBTENIDO POR MODIFICACION SUPERFICIAL DE (A) PARTICULAS INORGANICAS COLOIDALES, CON (B) UNO O VARIOS SILANOS DE FORMULA GENERAL (I): R X - S I - A 4-X , EN LA QUE LOS RADICALES A SON IGUALES O DIFERENTES, Y REPRESENTAN GRUPOS HIDROXILO O GRUPOS QUE PUEDEN DIVIDIRSE HIDROLITICAMENTE, EXCEPTUADO EL METOXI, LOS RADICALES R SON IGUALES O DIFERENTES, Y REPRESENTAN GRUPOS QUE NO PUEDEN DIVIDIRSE HIDROLITICAMENTE, Y X ES IGUAL A 0, 1, 2 O 3 X ( 1 EN AL MENOS EL 50% EN VOLUMEN DE LOS SILANOS, EN LAS CONDICIONES DE UN PROCESO DE SOL - GEL CON UNA CANTIDAD SUBESTEQUIOMETRICA DE AGUA, EN RELACION...

  7. 7.-

    PLACA ESTRUCTURADA REGENERABLE CON CATALIZADORES DE OXIDACIÓN

    (04/2011)

    Procedimiento para la producción de una placa regenerable con superficie estructurada de regiones hidrófilas e hidrófobas, en el que se recubre con una capa hidrófoba la superficie de la placa regenerable, que comprende un sustrato y una capa porosa que está sobre él con una superficie específica de la capa de 20 m 2 /g a 250 m 2 /g, determinada según el procedimiento BET con nitrógeno, de una masa que contiene catalizador de oxidación hidrófilo, y se expone fotográficamente, en donde el catalizador y la capa en las regiones iluminadas...

  8. 8.-

    SUSTRATO CON CAPA FOTOCATALITICA DE TIO2

    (02/2010)

    Procedimiento para la fabricación de un sustrato con una capa fotocatalítica que comprende TiO 2 activo fotocatalítico y un material de matriz, en el que el TiO2 está presente a un gradiente de concentración tal que está concentrado en la superficie de la capa fotocatalítica, comprendiendo las etapas: a) fabricación de una mezcla que comprende al menos un compuesto de titanio hidrolizable, un disolvente orgánico y agua en una cantidad subestequiométrica, referida a los grupos hidrolizables del compuesto de titanio; b) tratamiento...

  9. 9.-

    MATERIAL AISLANTE

    (03/2008)
    Inventor/es: SCHMIDT, HELMUT, ENDRES, KLAUS, REINHARD,BERND, GOEDICKE,STEFAN. Clasificación: C04B20/00, C04B38/00, C04B20/10, C04B38/06.

    Material aislante que consta de una estructura (matriz) porosa inorgánica, que puede obtenerse por moldeo o por aplicación sobre un sustrato de una composición que contiene a) como ligante un sol que contiene nanopartículas y/o policondensados o productos previos de los mismos y b) un agente formador de poros sólido, y se reticula la composición formándose una estructura porosa y poros adicionales debidos al agente formador de poros.

  10. 10.-

    CAPA ANTIADHERENTE RESISTENTE A ALTA TEMPERATURA

    (08/2007)
    Inventor/es: SCHMIDT, HELMUT, DRUMM, ROBERT, ENDRES, KLAUS, ASLAN,MESUT, NAIR,HAREESH, REINHARD,BERND. Clasificación: C09D7/12, C09D5/18, C10M173/02, C10M141/02.

    Sustrato con un recubrimiento antiadherente, que se obtiene mediante aplicación y endurecimiento de una composición de recubrimiento sobre un sustrato, comprendiendo dicha composición de recubrimiento: a) partículas sólidas de un agente separador, a excepción de nitruro de boro, y b) un aglutinante que contiene partículas de sólidos a nanoescala, cuya superficie ha sido modificada.