7 patentes, modelos y diseños de E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY (A DELAWARE CORPORATION)

  1. 1.-

    FIBRA, MECHA Y ESTERILLAS DE POLIMEROS CRISTALINOS LIQUIDOS LIOTROPICOS.

    (07/1997)
    Inventor/es: SAMUELS, SAM, LOUIS, ALLEN, STEVEN ROBERT, MIAN, AZIZ AHMED. Clasificación: D04H3/16, D01F6/60, D01F9/00, D01F2/28, D01D5/11.

    PROCEDIMIENTO NUEVO PARA PREPARAR FIBRA SUBDENIER Y ESTRUCTURAS DE LA MISMA, DE POLIMEROS CRISTALINOS LIQUIDOS LIOTROPICOS.

  2. 2.-

    PROCEDIMIENTO DE REVESTIMIENTO DE UN SUSTRATO DE ACERO UTILIZANDO TECNOLOGIA DE PLASMA A BAJA TEMPERATURA Y UNA IMPRIMACION.

    (05/1997)
    Inventor/es: ANTONELLI, JOSEPH ALBERT, YANG, DUCK, JOO, YASUDA, HIROTSUGU, LIN, TYAU-JEEN. Clasificación: C23C16/02, B05D3/06, C23C16/40, B05D3/02, B05D3/14, C23C16/50, B05D3/00.

    ESTA INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO DE PLASMA PARA LA PROTECCION CONTRA CORROSION MEJORADA DEL ACERO. EL PROCESO INCLUYE EL PRETRATAMIENTO DE UN CATODO DE SUPERFICIE DE ACERO EN UNA CAMARA AL VACIO QUE CONTIENE ANODOS DE MAGNETRON . EL GAS DE PLASMA SE ALIMENTA A TRAVES DE UNA TUBERIA , TANTO PARA EL PRETRATAMIENTO DEL CATODO DE SUPERFICIE DE ACERO COMO PARA LA DEPOSICION DE UNA PELICULA DELGADA DE ORGANOSILANO, SOBRE LA QUE SE APLICA UN REACTIVO DE REVESTIMIENTO DE IMPRIMACION CON ORGANOSILANO.

  3. 3.-

    MEJORAS EN O EN RELACION CON PRECURSORES DE PLACAS DE IMPRIMIR.

    (09/1995)
    Inventor/es: WATKISS, PHILLIP JOHN. Clasificación: B41N1/08, G03F7/06.

    UN PRECURSOR DE PLACAS DE IMPRESION LITOGRAFICA, PARA USAR EN UN SISTEMA DE TRANSFERENCIA DE DIFUSION DE PLATA, COMPRENDE UN SUBSTRATO DE ALUMINIO GRANADO Y ANODIZADO, QUE TIENE RECUBIERTO UN SOL QUE CONTIENE NUCLEOS PARA PRECIPITAR PLATA DE UN COMPLEJO DE PLATA. EL SUBSTRATO TIENE UN PESO ANODICO (G.M-2) EN RELACION CON LA RUGOSIDAD DE LA SUPERFICIE (MICRAS) MAYOR QUE O IGUAL A 6. LAS PLACAS DE IMPRESION PRODUCIDAS A PARTIR DE TALES PRECURSORES SON MENOS PROPENSAS A LA CORROSION Y TIENEN MAYOR VIDA DE IMPRESION.

  4. 4.-

    MEJORAS EN O EN RELACION CON PRECURSORES DE PLACAS DE IMPRESION.

    (12/1993)
    Inventor/es: WADE, JOHN ROBERT, POTTS, RODNEY MARTIN, BURCH, JEREMY RUSSELL. Clasificación: G03F7/11.

    UN PRECURSOR DE PLACAS DE IMPRESION COMPRENDE UN SUBSTRATO RECUBIERTO CON UN RECUBRIMIENTO DE COMPOSICION SENSIBLE A LA RADIACION CON UNA CAPA PROTECTORA PARA PROTEGER DEL OXIGENO, QUE INHIBE LA FOTOPOLIMERIZACION DE LA COMPOSICION. LA CAPA PROTECTORA COMPRENDE UN POLIMERO Y UN COMPUETO ANFOTERO.

  5. 5.-

    MEJORAS EN O EN RELACION CON PRECURSORES DE PLACAS DE IMPRESION.

    (11/1993)
    Inventor/es: WADE, JOHN ROBERT, POTTS, RODNEY MARTIN, FLETCHER, KEITH MALCOLM, ETHERINGTON, TERRENCE. Clasificación: G03F7/004.

    UN PRECURSOR DE PLACAS DE IMPRESION COMPRENDE UN SUSTRATO REVESTIDO CON UNA COMPOSICION SENSIBLE A LA RADIACION QUE COMPRENDE UN FOTOINICIADOR Y UN ACRILATO O METACRILATO DE URETANO FOTOPOLIMERIZABLE. EL ACRILATO O METACRILATO DE URETANO SE OBTIENE POR ACRILACION O METACRILACION PARCIAL DE UN POLIOL TETRAFUNCIONAL Y LOS GRUPOS HIDROXILO QUE QUEDAN DEL POLIOL SE HACEN REACCIONAR CON UN DI O POLIISOCIANATO.

  6. 6.-

    MEJORAS EN, O EN RELACION CON MATERIAL SENSIBLE A LA RADIACION.

    (04/1993)
    Inventor/es: PRATT, MICHAEL JOHN, POTTS, RODNEY MARTIN, FLETCHER, KEITH MALCOLM. Clasificación: G03F7/021.

    UN MATERIAL SENSIBLE A LA RADIACION ADECUADO PARA LA PRODUCCION DE PLACAS SENSIBLES A LA RADIACION, PARA LA FABRICACION DE PLACAS DE IMPRESION LITOGRAFICA, SE BASA EN UN POLIMERO QUE CONTIENE DIVERSAS UNIDADES ESTRUCTURALES REPRESENTADAS POR LA FORI, EN LA QUE R REPRESENTA HIDROGENO O METILO; CADA R1, QUE PUEDEN SER IGUALES O DIFERENTES, REPRESENTA HIDROGENO O ALQUILO; R2 REPRESENTA UN ENLACE SENCILLO O UN RADICAL DIVALENTE SUSTITUIDO O SIN SUSTITUIR; AR REPRESENTA UN RADICAL DIVALENTE SUSTITUIDO O SIN SUSTITUIR DERIVADO DE UN COMPUESTO AROMATICO O HETEROAROMATICO; X REPRESENTA OXIGENO, AZUFRE O NH; A REPRESENTA UN ANION; Y REPRESENTA UN CARBONILOXI O RADICAL AROMATICO; Y N ES UN ENTERO IGUAL O MAYOR QUE 1.

  7. 7.-

    MEJORAS EN O EN RELACION CON COMPUESTOS SENSIBLES A LA RADIACION.

    (04/1993)
    Inventor/es: KOLODZIEJCZYK, VICTOR, WHITE, NICHOLAS JOHN. Clasificación: C07D405/12, G03F7/00, C07D417/12, C07D251/22.

    UN COMPUESTO SENSIBLE A LA RADIACION ES UN TRIMERO DE FORMULA: (FIG. A) O TIENE LA FORMULA: (FIG. B), DONDE R1 Y R2 SON ALQUILO, ARILO, X, CHX2, CH2X, CX3 O NHR3, DONDE R3 ES HIDROGENO, ALQUILO INFERIOR, ARILO, O=C-A2; R4 ES NCO O R2, PREVIENDO QUE R3 NO ES O=CA2 Y PREVIENDO QUE POR LO MENOS UNO DE R1 Y R2 ES CX3; X ES HALOGENO Y A1 Y A2 SON CADA UNO RESIDUOS DE A1H Y A2H RESPECTIVAMENTE, DONDE A1H Y A2H SON CADA UNO UN COMPUESTO QUE CONTIENE POR LO MENOS UN GRUPO QUE TIENE UN ATOMO DE HIDROGENO ACTIVO. LOS COMPUESTOS SON UTILES COMO INICIADORES E INDICADORES DE CAMBIO DE COLOR EN COMPOSICIONES SENSIBLES A LA RADIACION PARA PRODUCCION DE PLACAS DE IMPRESION LITOGRAFICA.