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REACTOR DE PLASMA RF ACOPLADO CAPACITIVAMENTE Y METODO PARA FABRICAR PIEZAS.

Sección de la CIP Electricidad

(16/11/2006). Ver ilustración. Inventor/es: PERRIN, JEROME, ELYAAKOUBI, MUSTAPHA, SCHMITT, JACQUES. Clasificación: H01J37/32.

REACTANCIA DE PLASMA RF CON ACOPLAMIENTO CAPACITIVO EN LA CUAL EXISTE UNA ZONA DE DESCARGA ENTRE UN PAR DE ELECTRODOS DISTANTES , UNO AL MENOS DE ESTOS ELECTRODOS ESTA SUBDIVIDIDO EN UNA MULTITUD DE SUBELECTRODOS , QUE ACTUEN EN GRUPOS (A, B, C) SOBRE SEÑALES ELECTRICAS RESPECTIVAS. SELECCIONANDO ADECUADAMENTE LA AMPLITUD, FASE Y CONTENIDO ESPECTRAL DE ESTAS SEÑALES (V 11 A V 13 ) PUEDE LOGRARSE UNA DISTRIBUCION DESEADA DEL EFECTO DE TRATAMIENTO DE UNA PIEZA DEPOSITADA SOBRE EL SEGUNDO ELECTRODO , EN ESPECIAL PARA EL TRATAMIENTO DE PIEZAS DE GRAN SUPERFICIE.

HERRAMIENTA CON UN SISTEMA DE CAPA PROTECTORA.

Secciones de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes Química y metalurgia

(01/07/2004). Inventor/es: BRAENDLE, HANS, SHIMA, NOBUHIKO. Clasificación: B23C5/10, C23C14/06, C23C14/00, C23C14/54.

Una herramienta con un cuerpo de herramienta y un sistema de capa resistente al desgaste, comprendiendo dicho sistema de capa al menos una capa de MeX, en la que -Me comprende titanio y aluminio; -X es al menos uno de entre nitrógeno y carbono; y en la que dicha capa tiene un valor QI QI >1; en la que QI = I /I ; y dicho cuerpo de herramienta es de uno de los materiales -acero de alta velocidad (HSS); -carburo cementado, y en la que dicha herramienta no es una fresa radial de carburo sólido ni tampoco una fresa de punta de bola de carburo sólido, -con lo que el valor de I es al menos 20 veces el valor de ruido medio en intensidad.

PROCEDIMIENTO PARA EL ANALISIS DE GASES Y ANALIZADOR DE GASES.

Secciones de la CIP Electricidad Física

(16/10/2003). Inventor/es: STOECKLI, ARMIN L., DR. PHYSIKER, WAELCHLI, URS, DR. PHYSIKER UNI, BOESCH, MARTIN, DR. PHYSIKER ETH. Clasificación: H01J49/04, G01M3/20.

EN UNA DISPOSICION DE BUSQUEDA DE FUGA PARA OPERACION CON CAPACIDAD OLFATEADORA DE UNA SONDA SE RAMIFICA EN UN DISTRIBUIDOR DE FLUJO EL GAS DE PRUEBA COMO GAS (G{SUB,S}) DE CORRIENTE Y SE GUIA A UN CURSOR INTERMEDIO DE UNA BOMBA HOLWECK . EN EL LADO DE BAJA PRESION SE UNE LA BOMBA HOLWECK CON UN DETECTOR DE HELIO, DISPONIENDOSE UNA APLICACION DE ALTA PRESION EN EL LADO DE BAJA PRESION DE UNA BOMBA DE MEMBRANA, DE FORMA QUE ESTA ULTIMA ESTA UNIDA EN EL LADO DE ALTA PRESION CON EL LADO DE BAJA PRESION DE LA BOMBA DE MEMBRANA. LAS ETAPAS DE BOMBEO DE LA BOMBA HOLWECK SON RECORRIDAS ENTRE UNA CONEXION INTERMEDIA Y LA ENTRADA DE BAJA PRESION DE LA BOMBA DE MEMBRANA POR MEDIO DEL GAS (G{SUB,S}) BIFURCADO, CON LO CUAL SE ELEVA LA COMPRESION DE GAS DE PRUEBA PARCIAL.

PIEZA CON RECUBRIMIENTO PROTECTOR FRENTE AL DESGASTE.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/10/2003). Inventor/es: BRAENDLE, HANS. Clasificación: C23C28/04, C23C14/06, C23C30/00.

SE PROPONE PIEZAS, ESPECIALMENTE AQUELLAS HECHAS DE ACERO O DE METALES DUROS, CON AL MENOS DOS RECUBRIMIENTOS DE UN SISTEMA PROTECTOR CONTRA EL DESGASTE, CUYAS CUALIDADES SE MEJORAN INCLUSO CON GROSORES ELEVADOS DE LOS SISTEMAS, DE TAL MANERA QUE RECUBRIMIENTOS CONTIGUOS SE REALIZAN CON DIFERENCIAS DE LA DIRECCION PREFERENTE CRISTALOGRAFICA.

PROCEDIMIENTO E INSTALACION PARA EL RECUBRIMIENTO DE PIEZAS.

Sección de la CIP Electricidad

(16/10/2002). Ver ilustración. Inventor/es: BRAENDLE, HANS, KIND, BRUNO. Clasificación: H01J37/32.

PARA DEPOSITAR CAPAS DE MATERIAL ENDURECIDO ESPECIALMENTE SOBRE PIEZAS DE TRABAJO SOMETIDAS A FUERTES SOLICITACIONES, QUE TIENEN QUE SER ATACADAS AL ACIDO MEDIANTE PULVERIZACION, SE PROPONE QUE JUNTAMENTE CON LA DESCARGA DE ARCO DE BAJO VOLTAJE SE SOMETAN A ATAQUE ACIDO MEDIANTE PULVERIZACION Y, A CONTINUACION, SE RECUBRAN LAS PIEZAS DE TRABAJO ACTUANDO EN LA MISMA DIRECCION.

INSTALACION DE VACIO.

(01/02/2002) LA INSTALACION DE VACIO PARA TRATAMIENTO DE PIEZAS DE TRABAJO EN FORMA DE DISCO MUESTRA UNA CAMARA DE DISTRIBUCION CENTRAL , EN LA QUE SE INTRODUCEN LAS PIEZAS DE TRABAJO DESDE UNA ESCLUSA POR UNA ABERTURA DE CONEXION QUE SE CIERRA MEDIANTE UN ELEMENTO DE CIERRE CON AYUDA DE UN MECANISMO DE TRANSPORTE COLOCADO EN LA CAMARA DE DISTRIBUCION, PRINCIPALAMENTE EN FORMA DE UN BRAZIO DE ROBOT. EN LA CAMARA DE DISTRIBUCION SE ENCIERRAN ADEMAS POR EL PERIMETRO DE LA MISMA CAMARA INTERMEDIA DISTRIBUIDA COMO MODULO INTERCAMBIABLE, CON LO QUE LA CONEXION ENTRE ESTOS SE PUEDE CERRAR CADA POSICION DE CIERRE POR UN ELEMENTO DE CIERRE . UNA CAMARA INTERMEDIA ESTA EN CONEXION CON AL MENOS UNA CAMARA DE PROCESO POR UNA ABERTURA DE CONEXION , QUE CON OBJETO DE LA SEPARACION DE LA CAMARA DEPROCESO DE LA CAMARA INTERMEDIA SE CIERRA. EN LA CAMARA INTERMEDIA…

DISPOSITIVO Y PROCESO PARA LA EVAPORACION DE MATERIAL EN VACIO, DISPOSICION DE ARCO DE PLASMA ASI COMO UTILIZACION DEL PROCESO.

Secciones de la CIP Electricidad Química y metalurgia

(01/03/1997). Inventor/es: BERGMANN, ERICH, DR., RUDIGIER, HELMUT, DR. Clasificación: H01J37/32, C23C14/32, C23C14/28, H01J37/305, C23C14/30.

EL OBJETIVO DE ESTA INVENCION ES LLEGAR A PRODUCIR LA INFLAMACION EN UN ARCO DE EVAPORACION, DE AL MENOS MATERIAL FUNDIDO EN SU SUPERFICIE COMO CONSECUENCIA DE LA EVAPORACION, ASI COMO SU ESTABILIZACION Y SU CONTROL. PARA ELLO SE PREVEE DE UN CAÑON DE RADIACION ELECTRONICA O DE UN LASER, PARA LA GENERACION DE UNA NUBE DE VAPOR LOCAL O UNAS MANCHAS DE MATERIAL PREFUNDIDO SOBRE LA SUPERFICIE OBJETO, Y CON ELLO PRODUCIR LA INFLAMACION DE MANCHA DE ARCO O RESPECTIVAMENTE SU CONTROL.

PROCEDIMIENTO E INSTALACION PARA EL RECUBRIMIENTO DE CAPAS DE AL MENOS UN OBJETO.

Secciones de la CIP Química y metalurgia Electricidad

(16/12/1996). Inventor/es: KUEGLER, EDUARD, DR. DIPL.-ING. Clasificación: C23C14/34, H01J37/34, C23C14/54.

PROCEDIMIENTO E INSTALACION PARA EL RECUBRIMIENTO DE CAPAS DE AL MENOS UN OBJETO. PARA LA PRODUCCION DE CAPAS DIELECTRICAS SE PULVERIZA CON REACTIVO UN OBJETO CONDUCTOR. LA MANTENIDA DESCARGA DE EFLUVIOS SE ALIMENTA CON CORRIENTE CONTINUA Y CORRIENTE ALTERNA, SUPERPUESTA A LA CORRIENTE CONTINUA. POR MEDIO DE UN CIRCUITO DE REGULACION SE ESTABILIZA EL PUNTO DE TRABAJO DEL PROCESO EN EL POR SI INESTABLE MODO DE TRANSFERENCIA. SE CONSIGUE UN ALTO RENDIMIENTO EN EL RECUBRIMIENTO DE CAPAS CON UN ALTO GRADO DE REACCION DE LA CAPA APLICADA.

PROCEDIMIENTO PARA EL TRATAMIENTO CON PLASMA DE UNA SUPERFICIE DE PIEZA DE TRABAJO, INSTALACION DE TRATAMIENTO DE VACIO PARA ESTA EJECUCION Y UTILIZACION DEL PROCEDIMIENTO O DE LA INSTALACION, Y PIEZA SINTETICA, LACADA, TRATADA PREVIAMENTE CON PLASMA.

Sección de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes

(01/11/1996). Inventor/es: JOST, STEPHAN. Clasificación: B29C59/14.

PARA MEJORAR LA ADHERENCIA DEL LACADO EN UNA SUPERFICIE DE UN POLIMERO SINTETICO, ORGANICO, SE SOMETE LA SUPERFICIE, EN UNA ATMOSFERA DE GAS REACTIVO, A UN TRATAMIENTO CON PLASMA. PARA ELLO SE SELECCIONA LA DURACION DEL TRATAMIENTO (T) Y/O LA PRESION DEL GAS REACTIVO DE TAL FORMA QUE, LA ADHERENCIA DEL LACADO (FA) SE CONTEMPLE COMO VARIABLE DEPENDIENTE, OCUPE AL MENOS UN VALOR CERCANO AL PUNTO MAXIMO (FAMAX).

PROCEDIMIENTO PARA PRODUCIR UNA CAPA DE DIAMANTE E INSTALACION.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/03/1995). Inventor/es: BERGMANN, ERICH, DR., KARNER, JOHANN, DR., DAXINGER, HELMUT. Clasificación: C23C16/50, C23C16/26.

LA INVENCION TRATA DE UN PROCEDIMIENTO PARA SEPARAR UNA CAPA DE DIAMANTE DE UNA PIEZA DE TRABAJO COMO UNA MATRIZ DE EMBUTICION O UN TROQUEL DE HERRAMIENTA, Y DESCRIBE UNA INSTALACION PARA LA REALIZACION DEL PROCEDIMIENTO, Y SE CARACTERIZA PORQUE SE EMPLEA UN PROCEDIMIENTO DE RECUBRIMIENTO REACTIVO DE APOYO DE PLASMA. LA PRODUCCION DE PLASMA SE EFECTUA MEDIANTE DESCARGA POR ARCO VOLTAICO DE TENSION CONTINUA; SE APLICA UNA CORRIENTE DE PARTICULAS CARGADAS EN LA EXTENSION DE DESCARGA, Y LA PIEZA DE TRABAJO A RECUBRIR SE DISPONE EN UNA EXTENSION DE DESCARGA. A CONSECUENCIA DE LA CONFIGURACION DEL DISPOSITIVO, SE EMPLEA UNA EXTENSION DE DESCARGA CON LONGITUD VARIABLE, SE RECUBREN GRANDES ZONAS SUPERFICIALES EN UNA ZONA DE GRAN HOMOGENEIDAD Y HERMETICIDAD DE PLASMA. EL PROCEDIMIENTO CONFORME A LA INVENCION SE REALIZA CON PEQUEÑOS COSTOS Y DE FORMA SEGURA Y DA LUGAR A RECUBRIMIENTOS DE GRAN SUPERFICIE.

PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA EL TRATAMIENTO REACTIVO DEL MATERIAL CON APOYO DE UN PROCESO DE DESCARGA POR ARCO VOLTAICO DE CORRIENTE CONTINUA.

(16/03/1995) LA INVENCION TRATA DE UN PROCEDIMIENTO QUE SE UTILIZA PARA EL TRATAMIENTO REACTIVO DE SUPERFICIES DE UNAS PIEZAS HERRAMIENTAS Y CONSISTE EN: APLICAR UN GAS EN UN RECIPIENTE; PRODUCIR EN EL RECIPIENTE UNA DESCARGA DE CORRIENTE CONTINUA POR ARCO VOLTAICO Y; MANTENER LA DESCARGA MEDIANTE UN ACOPLAMIENTO DE UNA CORRIENTE DE PARTICULAS CARGADAS, Y SE CARACTERIZA PORQUE: PARA EVITAR EL PROBLEMA DE LA DISTRIBUCION NO HOMOGENEA DEL PLASMA ORIGINADO EN EL ARCO VOLTAICO DE CORRIENTE CONTINUA POR EL ESPACIO INTERIOR, Y PARA AMPLIAR LA ZONA QUE CONTIENE AL PLASMA NECESARIO PARA EL TRATAMIENTO SUPERFICIAL, LA DISTRIBUCION ACTIVA DEL PLASMA DE TRATAMIENTO POR EL RECIPIENTE, SE AFIANZA A LO LARGO DE UNA SUPERFICIE PRECALCULADA, Y A TRAVES DE UNA DETERMINADA DISTRIBUCION SUPERFICIAL DE ADMISION DE GAS Y A TRAVES…

SUSTRATOS DE CALEFACCION CON DESCARGA POR ARCO DE BAJA TENSION Y CAMPO MAGNETICO VARIABLE.

Secciones de la CIP Electricidad Química y metalurgia

(01/10/1994). Inventor/es: SCHMID, ROLAND, KAUFMANN, HELMUT, DR. Clasificación: H01J37/305, C23C14/30, H05B7/18.

PARA CALENTAR UN SUSTRATO DE CALOR RESP. UNIFORMEMENTE DE UN SUSTRATO RECUBIERTO EN UNA CAMARA DE VACIO EN UN RECIPIENTE MEDIANTE DESCARGA ELECTRICA RESP. DE ALTO VACIO O DESCARGA POR ARCO DE BAJA TENSION, SE PROPONE QUE EN LA CAMARA DE VACIO, RESP. EN EL RECIPIENTE SE MANTENGA AL MENOS DURANTE EL CALENTAMIENTO UN CAMPO MAGNETICO LOCAL VARIABLE Y/O DESPLAZABLE. PREFERENTEMENTE SE MANTIENEN AL MENOS EN PARTE, DOS CAMPOS MAGNETICOS SOLAPADOS, QUE ALTERNANDO, SON ACTIVADOS DE FORMA FUERTE O DEBIL, PARA DE ESTA FORMA QUE LA DENSIDAD DE CORRIENTE EN LA CAMARA DE VACIO RESP. EN EL RECIPIENTE SEA LOCALMENTE AFECTADA, Y POR ELLO, A LO LARGO DEL SUSTRATO, SE PRODUCE EN LA CARGA DE CALOR DE FORMA ALTERNANDO UN CALENTAMIENTO FUERTE O DEBIL.

DISPOSITIVO DE SOPORTE Y TRANSPORTE PARA UNA OBLEA SEMICONDUCTORA.

(16/01/1994) PARA EL TRATAMIENTO DE CUERPOS EN FORMA DE DISCO, ESPECIALMENTE DE DISCOS SEMICONDUCTORES EN UNA INSTALACION DE VACIO, ESTOS DEBEN TRANSPORTAR Y DEPOSITARSE ENTRE LAS ESTACIONES. UN DISCO SE APOYA EN SU BORDE CON DOS BRAZOS DE SOPORTE CON DOS DEDOS CADA UNO Y SUPERFICIE DE APOYO EN LOS EXTREMOS DE LOS DEDOS EN CUATRO PARTES REPARTIDAS POR EL PERIMETRO DEL DISCO . CON EL FIN DE DISMINUIR O AGRANDECER LA DISTANCIA ENTRE LOS BRAZOS DE SOPORTE AL RECOGER O LIBERAR EL DISCO, AMBOS BRAZOS CON FIJADOS EN UNA UNIDAD DE CILINDRO/EMBOLO . ALLI SE MUEVE EL CILINDRO DE FORMA RELATIVA AL EMBOLO FIJO . AMBOS EXTREMOS DEL EMBOLO SON FIJADOS, UNO EN FRENTE DEL OTRO, EN UN EJE DE GIRO QUE VA VERTICALMENTE A LOS EJES DE LOS CILINDROS CON LOS QUE SE PUEDEN GIRAR LAS DOS UNIDADES DE CILINDRO/EMBOLO CON LOS BRAZOS DE SOPORTE DE UNA ESTACION…

DISPOSITIVO SUJETADOR PARA UN DISCO, Y APLICACION DE ESTE DISPOSITIVO.

Sección de la CIP Electricidad

(01/01/1994). Inventor/es: MOLL, EBERHARD, DR., ZANARDO, RENZO. Clasificación: H01L21/00.

ESTE DISPOSITIVO SUJETADOR PARA DISCOS SEMICONDUCTORES (WAFER) ORIENTA Y ASEGURA EL DISCO DURANTE EL TRANSPORTE A LA POSICION DE MECANIZADO, PERO PUEDE PASAR FACILMENTE A UNA POSICION LIBRE DE LA SUPERFICIE SUPERIOR DE MECANIZADO, O BIEN ASEGURA LA POSICION WAFER CON AYUDA DE UN ANILLO QUE PERMANECE EN LA POSICION DE FUNCIONAMIENTO. DE ESTE MODO LA SUPERFICIE DEL DISCO FUNCIONA POR COMPLETO O CON UNA MINIMA PERDIDA DE RENDIMIENTO, Y AL MISMO TIEMPO LA MECANICA DE TRANSPORTE ESTA PROTEGIDA PARA UN OPTIMO CUMPLIMIENTO DE SUS FUNCIONES, COMO POR EJEMPLO EL RECUBRIMIENTO POR CAPAS O LA CAUTERIZACION. TODAS LAS PARTES QUE FUNCIONAN PERMANENTEMENTE PUEDEN CAMBIARSE CON FACILIDAD. EN CASO DE QUE EL DISCO SE QUEDE CLAVADO EN LA ESTACION DE MECANIZADO, SE ARRANCA MEDIANTE UN MECANISMO DE SEGURIDAD DE TRANSPORTE EN FORMA DE LLAVE.

DISPOSITIVO PARA LA TRANSFERENCIA DE CORRIENTES ELECTRICAS SOBRE PIEZAS DE MAQUINARIA ROTATORIAS.

Sección de la CIP Electricidad

(16/10/1993). Inventor/es: KUNZ, ANTON. Clasificación: H01R39/64.

EN UNA DISPOSICION HABITUAL DE CONTACTACI9ON PARA ONDAS ROTATORIAS HAY SOBREPUESTO UNA DISPOSICION DEL ANILLO COLECTOR SOBRE LA ONDA DEL ROTOR. LOS DIAMETROS PROPORCIONADAMENTE GRANDES CONDUCEN A UN DESGASTE RAPIDO DE LA ESCOBILLA DE CARBON. LOS ANILLOS DEL REC IFICADO PLANO MUESTRAN LA DESVENTAJA, QUE A CONSECUENCIA DE DIAMETROS DIFERENTES DE LA CINTA DE LIJA, LAS ESCOBILLAS DE CARBON SE SOMETEN TAMBIEN A UN DESGASTE DIFERENTE. ESTA DESVENTAJA ELIMINA UN ALMACEN, QUE CONDUCEN LA CORRIENTE, DONDE LAS SUPERFICIES DISPOSITIVAS DE CONTACTO DE LA ESPIGA DEL ALMACEN Y EJES ONDAS ESTAN FORMADAS COMO CONOS AXIALES O SEA CONOS HUECOS. EN LA SELECCION APROPIADA DE MATERIA PRIMA DE LAS PIEZAS (BRONCE ESPECIAL) QUE CONDUCEN LA CORRIENTE, SE DEJA ALCANZAR UNA CARGA ADMISIBLE DE CORRIENTE DE 200 A/CM2 FRENTE 4A/CM2 EN CARBONES DUROS Y 25 A 30A/CM2 EN CARBONES DE BRONCE DE ESCOBILLAS DE LA FORMA USUAL DE LA CONSTRUCCION EN ANILLOS COLECTORES DE MAQUINAS ELECTRONICAS.

SOPORTE PARA UNA PIEZA EN FORMA DE DISCO Y CAMARA PARA UN PROCESO DE VACIO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/07/1993). Inventor/es: WAGNER, RUDOLF, HIRSCHER, HANS, DR. Clasificación: C30B25/10, C30B25/14, C23C16/48.

EL INVENTO SE REFIERE A UN SOPORTE: FORMADO POR SALIDAS DE GAS DISTRIBUIDAS POR SU SUPERFICIE Y ORIFICIOS DE RETORNO DE GAS: UTILIZADO PARA LA TRANSMISION DE CALOR POR UNA PIEZA, TRABAJANDO A VACIO Y CARACTERIZADO PORQUE; SE FORMA ENTRE EL SOPORTE Y LA PIEZA UNA CAPA DINAMICA CON GAS; EL GAS DE CONDUCCION DE CALOR ACTUA ENTRE EL SOPORTE Y LA PIEZA Y LA SALIDA DE GAS DESEMBOCA EN UN ESPACI DE DISTRIBUCION CONFORMADO COMO RANURA.

MESA ELEVADORA Y PROCEDIMIENTO DE TRANSPORTE.

(01/07/1993) LA MESA ELEVADORA TIENE UN APOYO PARA LA PIEZA A TRABAJAR QUE SUBE Y BAJA Y ES GUIADA EN UNA CARCASA, CON EL CUAL SE PUEDE TRANSPORTAR UNA PIEZA EN FORMA DE DISCO A UNA CAMARA DE TRATAMIENTO DE UNA INSTALACION AL VACIO. PARA PODER CORREGIR LA POSICION DE LA PIEZA PUESTO SOBRE EL APOYO POR UNA MAQUINA, ASI COMO PARA ASEGURAR LA PIEZA DURANTE EL TRANSPORTE SIRVEN ELEMENTOS DE SUJECION QUE SE ENCUENTRAN EN AMBOS LADOS DE LA MESA ELEVADORA . ESTOS SE COMPONEN DE UNA BARRA EN EL EXTREMO DE UN SALIENTE QUE ESTA FIJADO EN UN EJE MONTADO EN LA MESA ELEVADORA DE FORMA GIRATORIA QUE SE GIRA DENTRO DE UN CAMPO DE GIRO MEDIANTE UN MOTOR PARA MOVER EL ELEMENTO DE SUJECION EN UNA DE SUS DOS POSIBLES POSICIONES. CON DOS ELEMENTOS DE SUJECION MONTADOS…

MATERIAL COMPUESTO CON UNA CAPA DE ANTIDESLIZANTE LLEVADA MEDIANTE PULVERIZACION CATODICA.

(16/04/1993) PARA UTILIZACION DETERMINADA DE CAPAS ANTIDESLIZANTES, POR EJEMPLO EN COJINETES DE BIELAS DE MOTORES DE COMBUSTION, SE PRETENDE UNA ELEVADA CAPACIDAD DE CARGA PARA UNOS LUGARES DE UNA PIEZA DE FORMA, MIENTRAS QUE PARA OTROS LUGARES DE LA MISMA PIEZA DE FORMA SE REQUIERE UNA BUENA CAPACIDAD DE EMPOTRAMIENTO. UN MATERIAL COMPUESTO CON UNA ANTIDESLIZANTE LLEVADA MEDIANTE PULVERIZACION CATODICA DE UNA MATRIZ FIRMEMENTE ACOPLADA Y UN COMPONENTE INSOLUBLE DISTRIBUIDO ESTADISTICAMENTE SE ADAPTA ASI A ESTAS EXIGENCIAS CONTRARIAS DE MODO QUE EL DIAMETRO DE LAS PARTICULAS DEL MATERIAL INSOLUBLE MUESTRE GRADACIONES EN DETERMINADOS LUGARES, QUE TRANSCURREN PARALELAMENTE A LA SUPERFICIE DE LA CAPA ANTIDESLIZANTE Y CUYAS GRADACIONES CORRESPONDEN A LA DUREZA DE LA CAPA ANTIDESLIZANTE. ESTAS GRADACIONES SE PRODUCEN DE MODO QUE DURANTE EL PROCESO…

PROCESO DE APLICACION DE CAPAS SOBRE SUSTRATOS E INSTALACIONES DE RECUBRIMIENTO EN CAPAS AL VACIO PARA LA REALIZACION DEL PROCESO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/12/1991). Inventor/es: BERGMANN, ERICH, DR.. Clasificación: C23C14/35, C23C14/22, C23C14/30.

PARA CONSEGUIR CAPAS MAS DENSAS Y COMPACTAS QUE HASTA AHORA EN EL REVESTIMIENTO EN CAPAS DE SUSTRATOS MEDIANTE PULVERIZACION CATODICA APOYADA EN CAMPOS MAGNETICOS, SE CONDENSA DURANTE LA FORMACION DE LA CAPA UNA CIERTA PARTE DE VAPOR METALICO (OBTENIDO POR EVAPORACION DEL ANODO O CATODO DE UNA DESCARGA DE ARCO VOLTAICO) SOBRE LAS SUPERFICIES DE FUNCION DE LOS SUSTRATOS JUNTO CON EL MATERIAL PULVERIZADO, CONCRETAMENTE UN MINIMO DE 5% DE ATOMOS DEL TOTAL DE COMPONENTE METALICO DE LA CAPA. UNA INSTALACION DE RECUBRIMIENTO EN CAPAS AL VACIO APROPIADA PARA LA EJECUCION DE ESTE PROCESO PRESENTA DENTRO DE UNA CAMARA DE VACIO UN DISPOSITIVO PARA LA EVAPORACION DE UNA PARTE DEL MATERIAL QUE FORMARA LA CAPA POR MEDIO DE UNA DESCARGA DE ARCO VOLTAICO, ASI COMO OTRO DISPOSITIVO PARA LA PULVERIZACION APOYADA POR CAMPO MAGNETICO DE OTRA PARTE DEL MATERIAL QUE FORMARA LA CAPA.

MATERIAL COMPUESTO CON AL MENOS UNA CAPA DESLIZANTE APLICADA POR PROYECCION CATODICA (SPUTTERING), PROCEDIMIENTO PARA SU PRODUCCION Y APLICACIONES DEL MISMO.

Secciones de la CIP Mecánica, iluminación, calefacción, armamento y voladura Química y metalurgia

(16/02/1991). Inventor/es: BERGMANN, ERICH, DR., BRAUS, JURGEN, DIPL.-ING., PFESTORF, HARALD, DIPL.-ING. Clasificación: F16C33/12, C23C14/16.

LAS CAPAS DESLIZANTES APLICADAS POR PROYECCION CATODICA, CONSTITUIDAS POR UN MATERIAL METALICO FORMADOR DE LA MATRIZ Y POR LO MENOS OTRO MATERIAL MAS. MUY INSOLUBLE EN LA MATRIZ, OFRECEN PROPIEDADES MECANICAS Y DE CORROSION ESENCIALMENTE MEJORADAS CUANDO EL MATERIAL INSOLUBLE TIENE UN PUNTO DE FUSION MAS BAJO QUE EL DEL MATERIAL DE LA MATRIZ Y CUANDO EL DIAMETRO DE LAS PARTICULAS DEL MATERIAL INSOLUBLE PRESENTA UNA DISTRIBUCION NORMAL ESTADISTICA CON UN VALOR MEDIO DE X MENOS QUE 0,8 MICROMETROS. TALES CAPAS SE OBTIENEN MANTENIENDO LA TEMPERATURA DEL SUSTRATO A RECUBRIR POR DEBAJO DE LOS 150 GRADOS CENTIGRADOS DURANTE LA OPERACION DE PROYECCION CATODICA. LAS VELOCIDADES DE RECUBRIMIENTO SUPERIORES A 0,2 MICROMETROS/MINUTO PUEDEN FAVORECER LA FORMACION DE TALES CAPAS.

PROCEDIMIENTO PARA REVESTIR SUSTRATOS EN UNA CAMARA DE VACIO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(16/07/1987). Clasificación: C23C16/50.

PROCEIDMIENTO PARA REVESTIR SUSTRATOS DE UNA CAMARA DE VACIO. COMPRENDE: PRODUCIR MEDIANTE UNA DESCARGA DE ARCO ELECTRICO A BAJO VOLTAJE DE AL MENOS 30 A Y CON TENSIONES DEL ARCO DE A LO SUMO 150 V, LA ACTIVACION E IONIZACION DE LOS REACTIVOS; ACELERAR HACIA LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO LOS IONES GENERADOS POR MEDIO DE UN CAMPO ELECTRICO; EFECTUAR LA CARGA DE ARCO ELECTRICO A BAJO VOLTAJE POR MEDIO DE UN CATODO INCANDESCENTE; Y A LA PRESION DE GAS EN LA ZONA DE REACCION ES INFERIOR A 1 PASCAL.

DISPOSICION PARA EL TRATAMIENTO DE PIEZAS DE TRABAJO.

Sección de la CIP Química y metalurgia

(01/03/1987). Clasificación: C23C8/36.

DISPOSITIVO PARA EL TRATAMIENTO DE PIEZAS DE TRABAJO. CONSISTE EN TRATAR PIEZAS MEDIANTE DESCARGAS ELECTRICAS DE GAS SOMETIDAS A UNA INTENSIDAD PREDETERMINADA LO MAS EXACTAMENTE POSIBLE SE DOTAN LAS PIEZAS INDIVIDUALES O LOS GRUPOS DE DISPOSITIVOS PROPIOS PARA AJUSTAR LA POTENCIA ELECTRICA ENTREGADA A ELLAS A TRAVES DE LA DESCARGA DE GAS. PARA ELLO SE HAN ACREDITADO APARATOS INDIVIDUALES DE ALIMENTACION DE CORRIENTE PARA CADA DERIVACION DE LA DESCARGA DE GAS.

PROCEDIMIENTO PARA CALENTAR MATERIAL CALDEABLE EN UN RECIPIENTE DE VACIO.

Sección de la CIP Mecánica, iluminación, calefacción, armamento y voladura

(16/02/1985). Clasificación: F27D7/06.

PROCEDIMIENTO PARA CALENTAR MATERIAL CALDEABLE EN UN RECIPIENTE DE VACIO.CONSISTE EN BOMBARDEAR EL MATERIAL CALDEABLE CON ELECTRONES PROCEDENTES DE UNA DESCARGA DE ARCO DE BAJO VOLTAJE MAGNETICAMENTE CONCENTRADA, MANTENIDA EN UNA ATMOSFERA DE GAS RESIDUAL ENTRE UN ANODO DISPUESTO EN EL RECIPIENTE Y UN CATODO CALIENTE SITUADO EN UNA CAMARA CATODICA UNIDA CON EL RECIPIENTE A TRAVES DE UNA ABERTURA. DICHA ATMOSFERA DE GAS RESIDUAL ESTA CONSTITUIDA SUSTANCIALMENTE POR HELIO O NEON. DURANTE EL CALDEO SE MANTIENE UN CAMPO MAGNETICO CUYAS LINEAS DE CAMPO QUE ATRAVIESAN LA ABERTURA SITUADA ENTRE LA CAMARA CATODICA Y EL RECIPIENTE, NO ATRAVIESAN EL MATERIAL CALDEABLE.

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