CIP-2021 : G03F 7/023 : Quinonadiazidas macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.
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G FISICA.
G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.
G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).
G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F 7/023 · · · Quinonadiazidas macromoleculares; Aditivos macromoleculares, p. ej. aglutinantes.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Método para fabricar una plancha de impresión litográfica fotosensible positiva.
(26/05/2015) Método para fabricar un material de plancha de impresión litográfico fotosensible positivo, comprendiendo dicho método los pasos de
- granular un soporte de aluminio mediante pulido con cepillo o grabado electrolítico en una solución de ácido clorhídrico o ácido nítrico,
- anodizar el soporte de aluminio granulado en un disolvente de ácido sulfúrico,
- recubrir la superficie del soporte con una solución de una composición fotosensible positiva en un disolvente, y
- secar,
en el que la solubilidad en un revelador alcalino de dicha composición, durante una exposición por barrido a la luz en el intervalo de longitud de onda de 650 a 1.300 nm, aumenta en la área expuesta, lo que permite formar una imagen mediante un revelador alcalino,
en el que la composición contiene como componentes esenciales inductores de dicho…
MEZCLA DE SUSTANCIAS ENDURECIBLES TERMICAMENTE Y CON RADIACION ACTINICA, PROCEDIMIENTO PARA SU PREPARACION Y UTILIZACION DE DICHA MEZCLA.
(01/03/2007). Solicitante/s: SMS DEMAG AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: DENKER, WOLFGANG.
Dispositivo para flexionar los cilindros en una caja de laminación de varios cilindros, con bloques de flexión (5, 5a; 5, 5a) fijados por el lado de entrada y de salida entre las piezas de montaje de cilindro y las ventanas de bastidor que pueden tratarse mediante medios de ajuste, caracterizado porque a los bloques de flexión (5, 5a) del primer bastidor de cilindros se asigna un cilindro de émbolo , y a los bloques de flexión (5, 5a) del bastidor de cilindros (6) opuesto un dispositivo de posicionamiento vertical.
METODO PARA FORMAR PLANCHAS DE IMPRESION LITOGRAFICA.
(16/05/2004) UN PROCEDIMIENTO PARA FORMAR DIRECTAMENTE IMAGENES SOBRE UNA SUPERFICIE DE IMPRESION LITOGRAFICA UTILIZANDO RADIACION INFRARROJA, SIN EL REQUERIMIENTO DE PRE- O POST-EXPOSICION A LUZ ULTRAVIOLETA, O A UN TRATAMIENTO TERMICO, USA UNA PLACA DE IMPRESION QUE CONTIENE UN SOPORTE, CON UNA SUPERFICIE HIDROFILICA SOBREREVESTIDA CON UNA CAPA DE FORMACION DE IMAGENES. LA CAPA DE FORMACION DE IMAGENES CONTIENE POR LO MENOS UN POLIMERO CON GRUPOS UNIDOS QUE CUELGAN, QUE SON HIDROXI, ACIDO CARBOXILICO, TERT BUTIL - OXICARBONILO, SULFONAMIDA, AMIDA, NITRILO, UREA, O SUS COMBINACIONES, ADEMAS DE UN COMPUESTO ABSORBENTE DE INFRARROJOS. LA CAPA DE FORMACION DE IMAGENES PUEDE CONTENER UN SEGUNDO POLIMERO…
COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES DE ACIDEZ CONTROLADA PARA IMPRESION OFFSET.
(16/10/2002). Solicitante/s: PLURIMETAL S.R.L. Inventor/es: RINALDI, RINALDO.
SE PROPORCIONA UNA DESCRIPCION DE COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES QUE COMPRENDEN DEL 20 AL 90% DE UNA RESINA DE DIAZO CON UN INDICE DE ESTERIFICACION DE ENTRE EL 15 Y EL 40% Y UN CONTENIDO DE NITROGENO DE ENTRE EL 2 Y EL 3%, DEL 0 AL 60% DE UNA RESINA DE NOVOLACA SOLUBLE ALCALI, ASI COMO OTROS COMPONENTES CONVENCIONALES, CARACTERIZADOS EN QUE TIENEN UN VALOR DE ACIDEZ, EXPRESADO COMO FUERZA ELECTROMOTRIZ Y MEDIDOS CON UN ELECTRODO ESPECIFICO PARA DISOLVENTES NO ACUOSOS, DE ENTRE 100 Y 400 MILIVOLTIOS.
MATERIALES SENSIBLES A LA RADIACION.
(01/11/1997). Solicitante/s: DU PONT LIMITED. Inventor/es: WADE, JOHN ROBERT, PRATT, MICHAEL JOHN, MURRAY, DAVID EDWARD, MATTHEWS, ANDREW ERNEST, GATES, ALLEN PETER, KING, WILLIAM ANTONY.
SE PRESENTA UN MATERIAL SENSIBLE A LA RADIACION QUE COMPRENDE PARTICULAS QUE INCLUYEN UN NUCLEO INSOLUBLE EN AGUA Y DEFORMABLE POR LA ACCION DEL CALOR RODEADO POR UNA CUBIERTA QUE ES SOLUBLE EN UN MEDIO ACUOSO. EL MATERIAL TAMBIEN INCLUYE UN COMPONENTE SENSIBLE A LA RADIACION QUE, DESPUES DE SU EXPOSICION A LA RADIACION, PROVOCA QUE LAS CARACTERISTICAS DE SOLUBILIDAD DEL MATERIAL CAMBIE. EL MATERIAL PUEDE SER TRABAJADO POSITIVA O NEGATIVAMENTE Y PUEDE SER RECUBIERTO SOBRE UN SUBSTRATO A PARTIR DE UN MEDIO ACUOSO PARA FORMAR UNA PLACA SENSIBLE A LA RADIACION QUE, DESPUES DE SU EXPOSICION, PUEDE SER REVELADA EN UN MEDIO ACUOSO Y CALENTADA PARA PROVOCAR QUE LAS PARTICULAS SE FUNDAN Y FORMEN UNA IMAGEN DE IMPRESION DURADERA.