CIP-2021 : H01L 21/288 : a partir de un líquido, p. ej. depósito electrolítico.

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Notas[n] desde H01L 21/02 hasta H01L 21/67:

H ELECTRICIDAD.

H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.

H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación).

H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas.

H01L 21/288 · · · · · · a partir de un líquido, p. ej. depósito electrolítico.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Baño de recubrimiento para deposición no electrolítica de capas de níquel.

(05/11/2018). Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Inventor/es: BRUNNER, HEIKO, PICALEK,JAN, BEJAN,IULIA, KRAUSE,CARSTEN, BERA,HOLGER, RÜCKBROD,SVEN.

Una composición para baño acuoso de recubrimiento para la deposición no electrolítica de níquel y de aleaciones níquel, comprendiendo el baño de recubrimiento: (i) una fuente de iones de níquel, (ii) al menos un agente complejante seleccionado del grupo que consiste en aminas, ácidos carboxílicos, ácidos hidroxicarboxílicos, ácidos aminocarboxílicos y sales de los compuestos mencionados anteriormente, (iii) al menos un agente reductor seleccionado de hipofosfito, amina-boranos, borohidruros, hidrazina y formaldehído, (iv) un agente estabilizante según la fórmula : en donde X se selecciona de entre O y NR4 , n varía de 1 a 6, m varía de 1 a 8; R1 , R2 , R3 y R4 se seleccionan independientemente entre hidrógeno y alquilo C1 a C4; Y se selecciona entre -SO3R5 , -CO2R5 y -PO3R5 2, y R5 se selecciona entre hidrógeno, alquilo C1-C4 y un contraión adecuado, y en donde la concentración del agente estabilizante según la fórmula oscila entre 0,02 y 5,0 mmol/l.

PDF original: ES-2688547_T3.pdf

Célula fotoeléctrica de alta eficiencia.

(18/10/2017). Solicitante/s: UNIVERSIDAD DE LA LAGUNA. Inventor/es: PASTOR TEJERA,Elena María, GARCIA,Gonzalo, GILLÉN VILLAFUENTE,Olmedo, ANULA ALAMEDA,Benito.

Célula fotovoltaica de alta eficiencia de bajo coste y no tóxica donde la rejilla metálica utilizada en la parte superior de las celdas convencionales de silicio se sustituye por una capa metálica conductora e invisible a la radiación solar.

PDF original: ES-2638068_R1.pdf

PDF original: ES-2638068_A2.pdf

Proceso para rellenar surcos de contacto en microelectrónica.

(23/08/2017) Proceso para metalizar un elemento de surco de contacto a través de silicio en un dispositivo de circuito integrado semiconductor, comprendiendo dicho dispositivo una superficie que tiene un elemento de surco de contacto en la misma, comprendiendo dicho elemento de surco de contacto una pared lateral que se extiende desde dicha superficie y un fondo, teniendo dicha pared lateral, dicho fondo y dicha superficie un sustrato de metalización sobre las mismas para la deposición de cobre, comprendiendo dicho sustrato de metalización una capa de semilla, comprendiendo el proceso: sumergir dicho sustrato de metalización en una composición de deposición electrolítica…

Electrodo maestro ECPR y un procedimiento para proporcionar dicho electrodo maestro.

(08/02/2017) Procedimiento para proporcionar un electrodo maestro ECPR, que comprende la etapa en la que: se proporciona un elemento portador circular con una superficie de electrodo conductora de la electricidad en una cara posterior y un patrón topográfico que define una pluralidad de celdas electroquímicas en el elemento portador sobre una cara anterior del mismo , comprendiendo cada celda electroquímica una pared lateral y un fondo , en el que la superficie plana que se extiende entre dos celdas electroquímicas contiguas está cubierta por una capa aislante de la electricidad y en el que el fondo posee una superficie conductora de la electricidad conectada conductivamente con la superficie de electrodo conductora de la electricidad situada en la cara posterior a través del elemento…

Sustrato semiconductor, procedimiento de formación de electrodo, y procedimiento de fabricación de célula solar.

(14/12/2016) Sustrato semiconductor que presenta un electrodo formado sobre el mismo, incluyendo el electrodo por lo menos plata y frita de vidrio, comprendiendo el electrodo: una estructura de múltiples capas constituida por una primera capa de electrodo unida directamente al sustrato semiconductor , y una capa de electrodo superior formada por al menos una capa y dispuesta sobre la primera capa de electrodo; en el que la capa de electrodo superior está formada mediante la cocción de una pasta conductora que presenta un contenido de plata total de 75% en peso o más y 95% en peso o menos, siendo el contenido de partículas de plata que presentan un diámetro medio de partícula de 4 mm o superior y 8 mm o inferior con respecto al contenido de plata total en…

Método para lavar y/o secar una cámara de replicación electroquímica de modelos (ECPR), y mandriles y conjuntos de mandril correspondientes.

(08/06/2016). Solicitante/s: Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST). Inventor/es: MÖLLER,PATRIK, FREDENBERG,MIKAEL, LINDGREN,LENNART, SVENSSON,STEFAN, CHAUVET,JEAN-MICHEL, SANTOS,ANTONIO.

Un mandril destinado a asegurar un sustrato o un electrodo maestro durante un proceso de replicación electroquímica de modelos (ECPR), que comprende una superficie de interacción con un electrodo maestro o un sustrato; medios de aseguramiento para asegurar el sustrato o el electrodo maestro en dicha superficie de interacción ; una superficie de mandril que rodea circularmente a la superficie de interacción ; y al menos una entrada de secado o lavado y al menos una salida de secado o lavado en dicha superficie de mandril, estando posicionadas dicha al menos una entrada de secado o lavado y dicha al menos una salida de secado o lavado , una en relación con otra, en lados opuestos de la superficie de interacción.

PDF original: ES-2590130_T3.pdf

Procedimiento para formar una imagen conductora sobre una superficie no conductora.

(24/06/2015) Procedimiento para formar una capa conductora sobre una superficie, que comprende realizar las siguientes etapas en orden: activar por lo menos una parte de una superficie del sustrato no conductora; aplicar un campo magnético a la superficie; depositar un complejo de coordinación metálico sobre por lo menos una parte de la parte activada de la superficie; retirar el campo magnético; exponer el complejo de coordinación metálico a una radiación electromagnética; reducir el complejo de coordinación metálico a un metal elemental; eliminar el complejo de coordinación metálico no reducido de la superficie; secar la superficie; y depositar un material conductor sobre la superficie.

Composición para imprimir electrodos.

(25/02/2015) Composición para imprimir electrodos sobre un sustrato, que contiene del 70 al 90 % en peso de partículas eléctricamente conductoras con un tamaño de partícula medio en el intervalo de 3 nm a 100 μm, del 0 al 7 % en peso de frita de vidrio, del 0,1 al 5 % en peso de al menos un agente de absorción para radiación láser, del 0 al 8 % en peso de al menos un material de matriz, del 0 al 8 % en peso de al menos un compuesto metalorgánico, del 3 al 50 % en peso de agua como disolvente, del 0 al 65 % en peso de al menos un agente de retención y del 0 al 5 % en peso de al menos un aditivo, en cada caso con respecto a la masa total de la composición, siendo el agente de retención un retardante, con el que se ralentiza la evaporación del agua y usándose como aditivos agentes de dispersión, agentes tixotrópicos, plastificantes, agentes humectantes, agentes…

Composición para la impresión de circuitos impresos así como un procedimiento para la fabricación de células solares.

(16/10/2013) Composición para la impresión de circuitos impresos sobre un sustrato, en particular para células solares, usandoun procedimiento de impresión por láser, conteniendo la composición del 30 % al 90 % en peso de partículaseléctricamente conductoras con un tamaño de partícula en el intervalo de 100 nm a 100 μm, del 0 % al 7 % en pesode frita de vidrio, del 0 % al 8 % en peso al menos de un material de matriz, del 0 % al 8 % en peso al menos de uncompuesto organometálico, del 0 % al 5 % en peso al menos de un aditivo y del 3 % al 69 % en peso de disolvente,caracterizada porque la composición contiene adicionalmente del 0,5 % al 15 % en peso de nanopartículas comoagente de absorción para la…

Película reflectante conductora y método de producción de la misma.

(27/03/2013) Una película reflectante conductora que tiene una superficie de contacto que está en contacto con un substrato yque se forma al calcinar una capa que contiene nanopartículas de metal modificadas químicamente por unamolécula orgánica con un esqueleto de carbono con 1 a 3 átomos de carbono, en dondeel número de nanopartículas de metal con un tamaño de partícula primaria dentro de un intervalo de 10 a 50 nm es70 % o más con respecto a la totalidad de las nanopartículas de metal, en términos de número medio, ylos poros que aparecen sobre la superficie de contacto que está en contacto con el substrato tienen un diámetromedio de 100 nm o menos, una profundidad…

UN METODO DE APLICAR UN RECUBRIMIENTO ANTI-REFLECTANTE Y UNA CONFIGURACION DE ELECTRODO A UNA SUPERFICIE DE CELULA SOLAR.

(01/12/1982). Solicitante/s: EXXON RESEARCH AND ENGINEERING COMPANY.

METODO PARA APLICAR UN RECUBRIMIENTO ANTIREFLECTANTE Y UNA CONFIGURACION DE ELECTRODO A UNA SUPERFICIE DE CELULA SOLAR. COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES; PRIMERA, SE RECUBRE LA SUPERFICIE DE LA CELULA SOLAR CON UNA CAPA ANTIREFLECTANTE DE UN OXIDO METALICO; SEGUNDA, SE ENMASCARA UNA PORCION DE DICHA SUPERFICIE RECUBIERTA, PAR FORMAR UNA CONFIGURACION DE ELECTRODO EN UNA POSICION DE LA SUPERFICIE QUE PERMANECE SIN ENMASCARAR; TERCERA, SE ATACA QUIMICAMETE EL RECUBRIMIENTO EN LA PORCION NO ENMASCARADA; CUARTA, SE SENSIBILIZA LA PORCION DE LA SUPERFICIE ATACADA QUIMICAMENTE; QUINTA, SE DEPOSITA UNA CAPA DE NIQUEL SOBRE LA ZONA SENSIBILIZADA; SEXTA, SE SEPARA EL ENMASCARAMIENTO DE LA SUPERFICIE DE LA CELULA SOLAR; Y POR ULTIMO, SE RECUBRE LA CAPA DE NIQUEL CON UN METAL FAVORECEDOR DE LA CONDUCCION.

UN MÉTODO DE OBTENER UNA BARRERA RECTIFICADORA EN UNA GALLETA DE SEMICONDUCTOR.

(16/03/1961). Ver ilustración. Solicitante/s: RADIO CORPORATION OF AMERICA.

Un método de obtener una barrera rectificadora en una galleta de semiconductor, que comprende las etapas de ; precaldear por separado dicha galleta, dejando al descubierto una cara principal de la misma, y una carga que incluye una sustancia determinativa del tipo de conductividad, o impureza activa, a una temperatura superior al punto de fusión de dicha sustancia o impureza; inundar con dicha carga fundida la mencionada cara expuesta de dicha galleta, hasta disolver una parte de dicha galleta; enfriar dicha carga fundida y dicha galleta a una temperatura a la cual una parte de dicha galleta disuelta y dicha impureza o sustancia determinativa de tipo precipita y se recristaliza sobre la cara expuesta de la citada galleta; y separar luego por decantación el resto de dicha carga fundida.

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