CIP-2021 : H01J 37/18 : Cierres estancos.

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H ELECTRICIDAD.

H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.

H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H).

H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad).

H01J 37/18 · · Cierres estancos.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

DISPOSITIVO DE SOPORTE DE MUESTRAS EN ENTORNOS DE VACIO.

(13/12/2016). Solicitante/s: CONSORCI PER A LA CONSTRUCCIÓ, EQUIPAMENT I EXPLOTACIÓ DEL LABORATORI DE LLUM DE SINCROTRÓ. Inventor/es: CRISOL ARIÑO,Alejandro.

Dispositivo de soporte de muestras en entornos de vacío, que comprende un elemento de soporte de muestras asociable a un dispositivo de manipulación de dicho elemento de soporte, un eje roscado que puede fijarse al dispositivo de manipulación; un elemento de base fijado con capacidad de giro al eje roscado; un elemento de tuerca enroscado en el eje roscado; un elemento de conexión asociado al elemento de tuerca y asociado al elemento de soporte, estando articulado el elemento de soporte a dicho elemento de conexión mediante una primera articulación y estando articulado a dicho elemento de base mediante una segunda articulación ; y medios de apoyo que comprenden una superficie de apoyo para una parte del grupo formado por el elemento de tuerca, los medios de conexión, el elemento de base y el elemento de soporte.

PDF original: ES-2593879_A1.pdf

PDF original: ES-2593879_B1.pdf

APARATO OBTURADOR SEPARABLE PARA UNA CAMARA DE PROCESAMIENTO DE SEMICONDUCTORES.

(01/02/1996) LA INVENCION SE REFIERE A UN APARATO OBTURADOR SEPARABLE PARA UN APARATO DE DEPOSITACION O GRABACION QUIMICA QUE INCLUYE UN MECANISMO OBTURADOR DISPUESTO EN EL INTERIOR DE UNA CAMARA DE PROCESAMIENTO Y ADAPTADO PARA SOPORTAR UNA PLACA OBTURADORA ENTRE UNA POSICION RETRAIDA Y UNA POSICION EXTENDIDA EN LA QUE ES ENGANCHADA POR UN DISPOSITIVO ELEVADOR Y MOVIDA A SU SITIO CERRANDO LA ABERTURA DE METALIZACION NORMAL COMO SI FUERA UN SUBSTRATO A SER PROCESADO. CUANDO UN NUEVO SUBSTRATO ESTA PRESENTE PARA SU PROCESAMIENTO, EL MECANISMO ELEVADOR HARA DESCENDER LA PLACA DEL OBTURADOR DE NUEVO SOBRE EL MECANISMO DE OBTURACION Y SERA LLEVADA HASTA SU POSICION RETRAIDA FUERA DEL CAMINO DE LA OPERACION DE PROCESAMIENTO Y MANEJO NORMAL. A CAUSA DE QUE LA PLACA DEL OBTURADOR ES GEOMETRICAMENTE SIMILAR AL SUBSTRATO…
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