COMPOSICIONES PARA LA FORMACION DE IMAGENES SOLIDAS PARA PREPARAR ARTICULOS SIMILARES AL PROPILENO.

Una composición fotosensible que comprende: (a) 30-70% en peso de un material que contiene epóxido;

(b) 5-35% en peso de un material acrílico; (c) al menos un fotoiniciador catiónico; y (d) al menos un fotoiniciador por radicales libres, caracterizada porque dicha composición comprende además un componente seleccionado del grupo que consiste en un material que contiene epóxido que tiene una cadena principal de poli(óxido de tetrametileno) o un politetrahidrofurano-poliéter-poliol o un policarbonato-poliol alifático, y en la que la composición, tras el curado completo, tiene (i) un módulo de tracción en el intervalo de 1000 hasta 2000 N/mm2; (ii) un alargamiento a rotura promedio de al menos 10%; y (iii) un esfuerzo a fluencia de 24 hasta 40 N/mm 2 .

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: DSM IP ASSETS B.V..

Nacionalidad solicitante: Países Bajos.

Dirección: HET OVERLOON 1,6411 TE.

Inventor/es: LAWTON, JOHN, ALAN, CHAWLA, CHANDER, PRAKASH.

Fecha de Publicación: 1 de Marzo de 2005.

Fecha Solicitud PCT: 29 de Marzo de 2001.

Fecha Concesión Europea: 21 de Julio de 2004.

Clasificación Internacional de Patentes:

G03C9/08 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03C MATERIALES FOTOSENSIBLES PARA FOTOGRAFIA; PROCESOS FOTOGRAFICOS, p. ej. PROCESOS CINEMATOGRAFICOS, DE RAYOS X, EN COLORES o ESTEREOFOTOGRAFICOS; PROCESOS AUXILIARES EN FOTOGRAFIA (procesos fotográficos caracterizados por el uso o la manipulación de aparatos, pueden ser clasificados en sí en la subclase G03B o ver G03B). › G03C 9/00 Procesos estereofotográficos o análogos. › que producen imágenes de tres dimensiones.
G03F7/027 G03 […] › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos fotopolimerizables no macromoleculares que contienen dobles enlaces carbono-carbono, p. ej. compuestos etilénicos (G03F 7/075 tiene prioridad).
G03F7/029 G03F 7/00 […] › Compuestos inorgánicos; Compuestos de onio; Compuestos orgánicos que contienen heteroátomos diferentes del oxígeno, nitrógeno o azufre.
G03F7/031 G03F 7/00 […] › Compuestos orgánicos no cubiertos por el grupo G03F 7/029.
G03F7/032 G03F 7/00 […] › con aglutinantes.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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