UN PRODUCTO QUE CONTIENE DIOXIDO DE SILICIO Y UN METODO PARA SU PREPARACION.
UN PRODUCTO QUE CONTIENE DIOXIDO DE SILICONA CONTIENE DIOXIDO DE SILICONA EN LA FORMA DE ACIDO POLISILICICO EN UNA ESTRUCTURA DE SOPORTE DE CELULOSA.
EL ACIDO POLISILICICO CONTIENE POSICIONES DE SILICATO DE ALUMINIO. EN LA PREPARACION DEL PRODUCTO LA CELULOSA Y EL DIOXIDO DE SILICONA EN LA FORMA DE ACIDO POLISILICICO SON MEZCLADOS PARA OBTENER EL PRODUCTO MEZCLADO EN UNA FORMA SOLIDA. EL PRODUCTO MEZCLADO OBTENIDO SE MODIFICA CON UN COMPUESTO QUE CONTIENE ALUMINIO, TAL COMO UNA SOLUCION DE ALUMINATO SODICO, LA CUAL CAUSA LA FORMACION DE POSICIONES DE SILICATO DE ALUMINIO SOBRE EL ACIDO POLISILICICO. LA CELULOSA USADA ES CELULOSA VISCOSA.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: SATERI OY.
Nacionalidad solicitante: Finlandia.
Dirección: P.O. BOX 24,37601 VALKEAKOSKI.
Inventor/es: PAREN, AARTO, VAPAAOKSA, PEKKA.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 29 de Diciembre de 1992.
Fecha Concesión Europea: 13 de Enero de 1999.
Clasificación Internacional de Patentes:
- D01F2/10 TEXTILES; PAPEL. › D01 FIBRAS O HILOS NATURALES O FABRICADOS POR EL HOMBRE; HILATURA. › D01F PARTE QUIMICA DE LA FABRICACION DE FILAMENTOS, HILOS, FIBRAS, SEDAS O CINTAS FABRICADAS POR EL HOMBRE; APARATOS ESPECIALMENTE ADAPTADOS A LA FABRICACION DE FILAMENTOS DE CARBONO. › D01F 2/00 Filamentos o similares, artificiales, con un solo componente formados de celulosa o sus derivados; Su fabricación. › Adición a la solución o al baño de hilado de sustancias que actúan tanto sobre una como sobre otra.
Países PCT: Austria, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Reino Unido, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Finlandia, Rumania, Oficina Europea de Patentes, Australia, Barbados, Bulgaria, Brasil, Canadá, Hungría, Japón, República de Corea, Sri Lanka, Madagascar, Mongolia, Malawi, Noruega, Nueva Zelanda, Polonia, Federación de Rusia, Sudán, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Senegal, Chad, Togo, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, República Popular Democrática de Corea, Checoslovaquia.
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