MEJORAS INTRODUCIDAS EN LA FABRICACIÓN DE PLACAS DE IMPRESIÓN.
Mejoras introducidas en la fabricación de placas de impresión,
caracterizadas porque las mismas comprenden (1) una hoja de respaldo compuesta, incluyendo la hoja de respaldo un conjunto laminar unificado de dos delgadas hojas de aluminio y una delgada hoja de papel que forma una capa intermedia entre las hojas de aluminio, (2) un tratamiento superficial hidrófilo sobre la superficie exterior de, por lo menos, una de las hojas y (3) una capa sensibilizadora fotosensible estable que recubre dicha superficie tratada en contacto con ella, reaccionando la capa sensibilizadora, al exponer la hoja a la luz actínica a través de una diapositiva, en las zonas expuestas, para quedar insolubilizada y permanentemente hidrófoba, protegiendo dicho tratamiento superficial al sensibilizador contra degradación por el aluminio y siendo receptivo para la formación de un firme enlace con el sensibilizador insolubilizado "in situ"
Tipo: Patente de Invención. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: P0254318.
Solicitante: MINNESOTA MINING & MANUFACTURING COMPANY.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Fecha de Solicitud: 19 de Diciembre de 1959.
Fecha de Publicación: .
Fecha de Concesión: 7 de Marzo de 1960.
Clasificación PCT:
- B41N1/08 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41N CLICHES O PLACAS DE IMPRESION (materiales fotosensibles G03 ); MATERIALES PARA SUPERFICIES UTILIZADAS EN LA IMPRESION PARA IMPRIMIR, ENTINTAR, MOJAR O SIMILAR; PREPARACION DE TALES SUPERFICIES PARA SU EMPLEO O SU CONSERVACION. › B41N 1/00 Clichés o placas de impresión; Materiales a este efecto. › para la impresión litográfica.
- G03F7/016 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Sales de diazonio, o bien compuestos de ellas (G03F 7/075 tiene prioridad).
Clasificación antigua:
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